Устройство для контроля процесса химической обработки металла

 

Изобретение относится к измерительной технике и может быть использовано для контроля химических и электрохимических процессов. Цель изобретения - расширение диапазона измерений контролируемого параметра путем его дискретизации. Существо изобретения заключается в том, что в ванну с раствором помещают обрабатываемую и эталонную детали. Процесс химической обработки контролируется по количеству газа, выделяющегося из эталонной детали 4. Газ накапливается в верхней части газосборника 5 и вытесняет раствор из него. Изменение уровня раствора в газосборнике фиксируется датчиком 8 нижнего уровня и датчиком верхнего уровня, выполненным в виде трубки 6, расположенной в верхней части газосборника . При вытеснении раствора газом до уровня расположения датчика 8 открывается клапан 7 на трубке 6 и газосборник наполняется раствором. Количество срабатываний клапана 7 с отображает процесс химической обра ботки детали и фиксируется счетчиком 15 и индикатором 16. Периодичность работы клапана 7 и счетчика 15 определяет дискретизацию контролируемого параметра. 5 з.п. ф-лы, I ил.

СОЮЗ СОВЕТСНИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСНИХ

РЕСПУБЛИК

Ш 4 С O I В 7/06,", 0) N 7/) 4

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

К А ВТОРСНОМ .Ф СВИДЕТЕЛЬСТВУ

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ НОМИТЕТ СССР

ПО ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И ОТКРЫТИЙ (21) 3917914/22-02 (22) 20.06.85 (46) 23,11,86, Бюл. Ф 43 (72) Л.В.Капралов и Б,М,Мордухов (53) 531.717(088.8) (56) Авторское свидетельство СССР

В 328328, кл, GОI В 7/06,,)970.

Авторское свидетельство СССР

Ф 1185923, кл. С 25 F 3/02, 1983 ° (54) УСТРОЙСТВО ДЛЯ КОНТРОЛЯ ПРОЦЕСсА химическОЙ ОБРАБОтки метАллА (57) Изобретение относится к измерительной технике и может быть использовано для контроля химических и электрохимических процессов, Цель изобретения — расширение диапазона измерений контролируемого параметра путем его дискретизации. Существо изобретения заключается в том, что в ванну с раствором помещают обрабатываемую и эталонную детали. Процесс

Л0,, 1272099 А1 химической обработки контролируется но количеству газа, выделяющегося иэ эталонной детали 4. Газ накапливается в верхней части гаэосборника 5 и вытесняет раствор из него, Изменение уровня раствора в гаэосборнике фиксируется датчиком 8 нижнего уровня и датчиком верхнего уровня, выполненным в виде трубки 6, расположенной в верхней части газосборника, При вытеснении раствора газом до уровня расположения датчика 8 открывается клапан 7 на трубке 6 и газосборник наполняется раствором.

Количество срабатываний клапана 7 отображает процесс химической обработки детали и фиксируется счетчиком

15 и индикатором 16. Периодичность работы клапана 7 и счетчика 15 определяет дискретизацию контролируемого параметра. 5 з.п. ф-лы, 1 ил. с Э " ? РС)(т

:. ) И.(обретение относится к и:»мерительнойй технике и может бы(.1;ciiol(!-.-ЗОВс(НО ДЛЯ КОЕI ТРО <(Я ХИМИЧ С . СК((Х Ц электрохимических процессов.

Цель изобретения — рас((«ipPI.»с Диапазона цзмерений KQHTpoò(7(ðóåìî(0 параметра путем его дискретизации.

)!а чертеже изображено устройство для контроля процесса хин(!Рскоц об-. работки металла, Устройство содержит ванну с

pacTRopoH 2, обрабатываемую петяль

3 эталонную деталь 49 размепенную

9 под газосборником 5, с которым г, его Верхней части соединеkia !rpe(»ажная трубка 6, верхняя часть которой снабжена электроклапаном 7, я ниж— няя его часть выполняет фу:- кпии дя.чикя верх:(егo уровня раст ора внутри газосборникя 5. Б верхнюю чacт ; газосборникя 5 вмонтиро»a i rraT«HK 8 ни>хне ГО у))овня 9 зыполне((н(>!и Б BT(i(p

СТР)>жНЯ КОТОp((й 9 (<с>К H Ii с>с-:((аж(!ЯЯ тр((т<)Ka 6 изГОтов;Iен из 3 пектропро-. водног0 материала, причем с те))>Kpнь и трубка электрически изс.-гировяны друг от цруга, Да ТЧИК 8 М(>Ха НИ>(Р СКИ C(0 Ðä!» Е!Е> П С корг(усо(л газосборпика 5, я также (о—

>кет быть выполнен с возможно(з-.ью реме(((ения и фиксации полоя ения, Верхняя часть датчика 8, расположенная нац газосборником 5 сняожена п(ка!IP>7(9 с делениями, Датчик 8 через IIPpBL(é усц. итель

10 и элемент 1!Е 1 связан с 8- -Входом тригг ера 12, а трубка 6 Iåðå; в T()po;., $ cHëHTpJ1k 1 3 с R — Вхоз»ом трцг < ря

1 2 „прямой выхо(т ко (

В варианте устройстRa ((pa "зой выход триггера 12 подкпюче"» к: с тет(!ому входу счетчика 15 импулт> -ов < пере"менным коэффициентом дс с(в(сия, управ—

ЛЯЮП(нй ВХОД КОТОРОГО СОЕ!ти((P(i С Зыхг дом блока ) 7 задания пярам<етря 9 а

Выход — с иидикатором 16, УСтрОйетВО рабОтаЕт С Лес(ух>(((1»М О .— разом.

В исходном состоянии Гязосборник

5 погружен в раствор 2, эл<.Kòðок.»апан 7 закрыт и раствор внутри гззоc5opHHKa 5 находите Я с я уроf3(

остояние

05 Рс ПР 9(((В;Зc (< 71 i(j>H>i; <(I(t (.т ((ПЫл Q TKPBT се „; пс(-твари пяп )на 7 (-:, вре -(я п(>грутжеlп(Я Гaao "бop:>H«a ) и i) 3",. 7: »np 2, чтОбы ВО.» г(т? х из Рl 0 (-о!10(- 1 i< ц(„ег(ос ть выхода 7(p(fa» дренажную

6, (7(a >jp дя (цк ве ..:;него с в оз. (Ожн

Тр-тбк;т утров ня 1 с твор 2

Б rrp !

1) =-ого 10

ПРОi(СC -Р,. (3т(-Рт» Е тцтя R Pа—

HÌOPà>< l»c:"ОЛЬЗУХ): СХЕ (Ы ПЕР и в (07)01" 3 3 1? 0(»i!IHT с. Iей, с

B((XOròai(ц > "рцГ((»i)a 2 88- Тц— и р ямь(ми

Р(jЗУ<(1, С а З P <03 (>Рг) ;»т ВВ . -.т,;.;ОД "РЦ(— ((!pa ) 2 тт-.рЕЗ Г<С.р »ый уС. T IH ЕЛЬ 10 и

"=П)" тупяс т сигнал 0,, И О:(ПЕПЕ>СОГ(ит В.;т()7- >P -;C (Ой»ЦВ<ЗЕ

СОСТ<>ят--(Е, ГТРК КО Стн ОМ 7» ЕГО ПРЯС 1 С ,((c,М .,К(ХО-(Е -(с; RBJ»R« и -;-,-(та.т )

<) горый 0 . Крь Baeт (слюч ) 7 и далее

„--,cåK (poKлапап 7 .

В ВЕЗ, "!k T-l re С (3aВП:»Rят(ця ВС>т Оро((-с т Р Р 3

yj3OIiЕi(h .;-:: T) О(>Я -сачцп (P T СПОВа:ОЦ.11<;, Я I i,r, ВВГ 3Х ДО ГРХ (тОР „r>OKа С

"(!

7»т».: не вхог (»т в э::Рк тр>(нес кий ко".какт трубKa 6. !!" " -в(<оде триггера, ? ".ÍÎÂà Паяиляет я .С .ИГЕ

Б цап(-НЕйШЕМ Оп Иоанj»((A ПРОЦРСС с» .» НЕРЦОДИ тЕСКЦ ЦИХ:iЯaМИ ПОВТОРЯЕТСЯ, КОЛИ»СС. »(»О (ИХЛОВ рЕГИСтрцруЕТСЯ ()ЧС>тт:,И(<0 1 5;т((П,(;((. . OR -! Тобряжается и-фрогым индикатором !6, па с инверс!П,(ì уп))яе».((спи(м, Б ИСХОДЦО.(Cn< TOS T(IIH JfaтЧ;»КЦ ВЕРХl(P! 0 ц i(H>KHPI 0 (грoRRРИ Нса ÎÄß! СЯ В

>lTPK TPH×P (КОМ KOII ак TP С Pa ((.ВОРО>4

Bk73>TpTT i a (0,-50(3HITKa с) Цоэт )(!1> На

= .—.Входе три г! Рра (2 -- ci(R<» ili п0", 7(a

:;- В>СОДЕ б Г(<1 г-о.-(;i-,(; 1;(»П(Ч<(Ю П>ЕМЕНта ((° сс (1 Г 1 ".. : - =JI .с ((Г с Я 711.1 Р . 1;<» Г "

- P>!0a ), -с;:;- с) ВО т (< 7 i P;-O Hi.) R: (0>»-<

B:(ходе и; ..=е;тетв< .- т спf пя . 0 ., Вс ледС TR I (Р 3 ТO I О ."Гт) ат . 1 Я Р (Ь i (К ((F3<>

Зстс- Х ТРОК:(ЛПП(! (? ;. < „ (Я i С Я (3 > ПЯК()(,"1 ОМ

О(TОЯ(П((()В<- -:-l, -:Ii" т(СИ 3! a, .Oi»r O;i ,fpZ a!rIr С rror.: Гaac Cб, pl, <3 ВЫДР

> .Р тт.lс II >! Р(T.OT т . .» 3 (>ë,(0), (3 > 9 KO

ТО!)Ый . (iяк =.»I: l(TRaR((и в Р !3K17()й TIORO C (» 7 я.-.оcГО,(!i(кя 5 в(<»С;! Яcт ряствop

» (,с

=(3 iTp1 О,:(<>i () (pl=11>(. патч<»кя еpKI(pГÎ уровня труб(<и 6 о г i((t.»opaf(ñc»ц ряст=:ÎÇà НЯ .-Вх;>Д тР.<.- . (">);-. ) ". ЧЕ.ЗЕ

ВторОй уСИГ ИТЕЛЬ (3 ПО-. —.улаЕТ С:-(гнаЛ сс

) К ОТО Р(>(Й H(a f» ) (. TIЯ Р (С, (3 С 3 071k>ЦЕ )1 триггера 12, Рри дт(г(>нейше((пониже(<.-(Ц УРОВПЯ Раетп<) );i П->С т У(таЕТ .(ОМЕНт

«трыaa mfa (!тп:я 8 ти>:..(е; О уровня, в!

272099

С", зт с эт ".тт.

К

И

"эт эт

H

К = н;

Во втором варианте количество циклов также регистрируется счетчи15 импульсов, но с переменным коэффициентом деления. Это позволяет вести процесс контроля обработ- 5 ки детали с заранее задачной программой, определяемой блоком 17 задания, параметра, выполнение которой фиксируется индикатором 16, Таким образом, второй вариант устройства ориентирует на использование его в автоматизированных системах контроля процесса.

Датчик 8 нижнего уровня вьдтолнен е ввооззммоожжностью перемещения и фик-!5 сации положения, его верхняя часть, расположенная над гаэосборником 5, снабжена шкалой 9 в связи с тем> что химической обработке подвергается значительный ассортимент деталей с различными параметрами глубины фрезерования или нанесения на них гальванических покрытий разной толт,тттны.

Вследствие этого paýìåðû эталонной пластины также будут варьировать в 25 широких пределах, а это значит, что количес.тво водорода, выделяемого в ходе реакции, также будет различным, и для сохранения приемлемых метрологических характеристик устройства в широком диапазоне измерений контролируемого параметра, каковым являет— ся объем (или вес) газа, целесообразно в него ввести регулировку дис— кретности, В этом случае шкала 9 дят35 чика 8 нижнего уровня может быть выполнена в един«пах объема газа, заключенного между обоими уровнями.

Пример 1. При химическом фрезеровании детали из алюминия,ат.м. ( ао

27, плотность (Р) 2,7 г/см- ), процесс фрезерования ведется в coo TBpT ствии с уравнением

2А1+6!!аОН=21!аА10 +3!? . 2

Из уравнения следует, что 2 г-моль алюминия соответствует 3 г-моль водорода (ат.м. 1,008, Р 89882.10 г/см з или 89882 ° !О г/л).

Путем математических преобразований, вытекающих из уравнения процесса, и параметров входящих в него эле— ментов (А1 и Н) имеют где Є— количество водорода, выделяющееся в процессе химической реях.дти между метал..там этялонвай летал«и ряс.твором, г; площадь эталонной пласт«ны, участвующая в х«м«че ской

2, реакции, см толштсня эталонной детали, см; коэффтт тиент пропорциональности, ттолучаемьсй иэ ур".âвен«я х«мической реакции

К вЂ” 2 " " А! 3,307.

6. ят.м. H Р

П р и м e p 1сэ,. Предположим, требуется праизвес.ти химическое фреэеровянпе детали («л« части ее) из алюмттнття ня глуб«EEv 1 мм. Выбирают пло— щягть эталонной детял«, например

F7

=10 см, а ее таEEEEE«EEy — требуемой глуб«ны обрябо гки детали d =О, см. эт

Па приведенной фармутте определяют

pEсавае количества водорода, которое ...-. деляется в процессе реакции, Р„

0,3024 мг «ли в ед.об. V 3,36 л.

Процесс квантования контролируемого параметра характер«зуется дискретностт.-тс т, которую тэыбирают в завис«мост« ат требуемой точности обработки детя.т-«, Пр«выборе д =-П, 01 л счетчики импульсов первого и второго вариантов

v устройства зарегистрируют — =336 и импульсов в прстнессе всего времени контра тя, ïðE. я =0, .т 33 импульса, а гр«h=! л — гссго 3 «мпульса.

Точность контроля процесса обработки рязл«ч".ë «составляет: в пер-. вом случае 0,3, го втором 3 и в третьем 30Х.

П р и и е р 2. Пр« нанесении на обрабатываем .ю дстать слоя никеля заданной толщ«нь (ат.м, 59 то

3;, 8,9 г/см ) процесс ведется в соответствии с уp 2EEEEåEEEEåì х«мттческс тт реакпи«!

1j 0 +2Кв . ". +2i-.. =?! jt+2!? ГГ +

2 2 2 Ъ

+. . "-0 +Н г

Проведя аналогичные расчеты, получаютт где К вЂ” коэффициент пропарц«ональN. ности, получаемый из уравнен«я химической реакции — — - -- ---= — — — — 3, 288.

2 ° ат.м. Н !"

Н;

72099 формула изобретения

1. Устройство для контроля процесса химической обработки металла, преимущественно в ванне с раствором, с помещенными в ней обрабатываемой и эталонной деталями, снабженное газосборником с установленной в его верхней части трубкой, о т л и ч аю щ е е с я тем, что, с целью расширения диапазона измерений контролируемого параметра путем его дисСоставитель А.Зтинген

Редактор Н.Тупица Техред Л.Сердюкова Корректор А.Обручар

Заказ 6326/36

Тираж 670 Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий

113035, Росква, Ж-35, Раушская наб,, д, 4/5

Производственно-полиграфическое предприятие, г. Ужгород, ул. Проектная, 4

5 )

Пример 2в. Производят контроль процесса нанесения никеля толfltHHoA 100 мкм. Выбирают площадь эта 2 лопной детали, например S, =! 00 см

Толщина эталонной детали Л имеет произвольное значение, поэтому в формулу для Р подставляют вместо d н требуемое значение толщины покрытия.

Определяют количество водорода, которое выделяется в процессе реакции Р„ 3,04 г. Это количество соответствует объему водорода V„=33,8 л.

При выборе A=O 01 л счетчики импульсов первого и второго вариантов

ví устройства зарегистрируют †" =-3380

6 импульсов в процессе всего времени контроля, при h=-0,1 л 338 импульсов, а при Ь=I л — всего 33 импульса.Соответственно точность контроля процесса обработки также различна, как и в первом примере, и составляет: в первом случае 0,03, во втором 0,3 и в третьем 37..

Таким образом, предлагаемое техническое решение отвечает поставленной цели — расширение диапазона измерений контролируемого параметра путем его дискретизации.

KppTtt3BtIIit1 oHo < набжt н» JLBумя усилителями, триггером, элементом НЕ, счетчиком, ключом-индикатором, датчиком нижнего уроги!я раствора и электроклапаном, причем электроклапан установлен в трубке, датчик нижнего уровня раствора и трубки электрически соединены с входами соответственно первого и второго усилителей, выIð ход первого усилителя через элемент

НЕ соединен с S-входом триггера, а выход второго усилителя соединен с

R-входом триггера, выход которого соединен через счетчик импульсов с !

5 индикатором и через ключ — с электро. клапаном.

2. Устройство по и. 1, о т л ич а ю щ е е с я тем, что.датчик нижнего уровня выполнен в виде стержня из электропроводного материала и закреплен в верхней части гаэосборника.

3 ° Устройство по пп. 1 и,2, о тл и ч а ю щ е е с я тем, что датчик нижнего уровня выполнен с возможностью перемещения в вертикальном направлении и фиксации его положения, а верхняя часть его расположена вне газосборника и снабжена шкалой.

4 ° Устройство по п. 1, о т л ич а ю щ е е с я тем, что трубка выполнена из электропроводного материала ..

5. Устройство по п. I о т л ич а ю щ е е с я тем, что счетчик выполнен с переменным коэффициентом деления.

6. Устройство по пп. I и 2, о тл и ч а ю щ е е с я тем, что стержень и трубка электрически изоли4О рованы друг от друга.

Устройство для контроля процесса химической обработки металла Устройство для контроля процесса химической обработки металла Устройство для контроля процесса химической обработки металла Устройство для контроля процесса химической обработки металла 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к устройствам для контроля интенсивности газовыделения из термальной воды,может быть использовано в станциях прогнозирования землетрясений по геохимическим признакам и позволяет повысить точность измерения

Изобретение относится к устройствам для измерения концентрации газа , растворенного в жидкости, может быть использовано в текстильной промышленности , и позволяет снизить трудоемкость проведения анализа

Изобретение относится к измерительной технике, может быть использовано в сельском хозяйстве, текстильной промьшшенности и позволяет упростить анализ и ускорить время его проведения

Изобретение относится к устройству для определения количества газа в жидкости, может быть использовано в химической промьшленности и позво-

Изобретение относится к области контрольно-измерительной техники

Изобретение относится к измерительной технике и может быть использовано для определения толщины неферромагнитных материалов и изделий электромагнитным методом

Изобретение относится к измерительной технике

Изобретение относится к неразрушающему контролю и может быть использовано для измерения толщины диэлектрических покрытий на электропроводящей неферроматнитной основе

Изобретение относится к неразрушающему контролю изделий для измерения толщины плоских электропроводящих изделий, например листов проката в металлургической промышленности и др

Изобретение относится к измерительной технике и приборостроению и может быть использовано для измерения толщины хрупких покрытий

Изобретение относится к области неразрушающего контроля и может быть использовано в машиностроении для определения толщины покрытий и упрочненных покрытий, нанесенных на металлические изделия

Изобретение относится к измерительной технике и может быть использовано для контроля толщин неметаллических покрытий на любом основании

Изобретение относится к средствам измерения толщины электромагнитными методами и может быть использовано ДЛЯ толщинометрии крупногабаритных неферромагнитных изделий

Изобретение относится к измерительной технике, а именно к средствам неразрушакнцего контроля геометрических параметров изделий

Изобретение относится к измерительной технике и может найти широкое применение в системах неразрушающего контроля и измерений толщины пленочных покрытий
Наверх