Способ получения тестовых изображений

 

Изобретение может быть использовано при изготовлении оптических клиньев для сенситометрических испытаний . Цель изобретения - расширение области применения способа за счет получения тестового изображения в виа де оптического клина структурного типа . Пропущенное через поляроид 3 излучение лазера 1 преобразуют микро-, объективом 4 в расходящийся пучок. Ограничивают диаметр прошедшего через рассеиватель 5 пучка посредством круглой диафрагмы 6. Измеряют фотоэлектрическим приемником 9 освещенность в плоскости экспонирования, в которую затем помещают маску 7 с окном . Экспонируют с помощью затвора 2 с постоянной величиной экспозиции различные участки фотоматериала 8, изменяя перед каждым последующим экспонированием соотношение диаметра диафрагмы и расстояния до фотоматериала 8. Постоянство величины экспозиции обеспечивается путем изменения яркости источника или времени экспонирования . 3 з.п.ф-лы, 2 ил. S сл N3 СО СП со О5

СОЮЗ СОВЕТСКИХ

СОЯ4АЛИСТИЧЕСКИХ

РЕСПУБЛИК (51) 4 С 03 С 5/02

1 (j

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АBTOPGHOMV СВИДЕТЕЛЬСТВУ

Фи г.!

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ СССР

ПО ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И ОТКРЫТИЙ (21) 3962585/24 — 10 (22) 04.10.85 (46) 07.03.87. Бюл. ¹ 9 (71) Институт космических исследова— ний АН СССР (72) В.А.Котцов и В.Л.Кешкой (53) 771.534.5(088.8) (56) Авторское свидетельство СССР

¹ 1061682, кл. Н 04 N 1/10, 1981.

Франсон M. Оптика спеклов. — M.:

Мир, 1980, с.32. (54) СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ТЕСТОВЫХ ИЗОБ—

РАЖЕНИЙ (57) Изобретение может быть использовано при изготовлении оптических клиньев для сенситометрических испытаний. Цель изобретения — расширение области применения способа за счет получения тестового изображения в виЫ

„„SU„» 12953 1 де оптического клина структурного типа. Пропущенное через поляроид 3 излучение лазера 1 преобразуют микрообъективом 4 в расходящийся пучок.

Ограничивают диаметр прошедшего через рассеиватель 5 пучка посредством круглой диафрагмы 6. Измеряют фотоэлектрическим приемником 9 освещенность в плоскости экспонирования, в которую затем помещают маску 7 с окном. Экспонируют с помощью затвора 2 с постоянной величиной экспозиции различные участки фотоматериала 8, изменяя перед каждым последующим экспонированием соотношение диаметра диафрагмы и расстояния до фотоматери— ала 8. Постоянство величины экспозиции обеспечивается путем изменения яркости источника или времени экспонирования. 3 з.п.ф-лы, 2 ил.

1295361

Изобретение относится к сенситометрии, в частности к способам изготовления оптических клиньев для сенситометрических испытаний.

Цель изобретения — расширение об- 5 ласти применения за счвт получения тестового изображения в виде оптического клина структурного типа.

На фиг.1 изображена схема устрой10 ства для получения тестовых изображений клина структурного типа; на фиг.2 — четыре поля клина структурного типа (с шагом изменения структуры в два раза).

На схеме (фиг.1) обозначены лазер 1, затвор 2, поляроид 3, микрообъектив 4, матовое стекло (рассеиватель) 5, диафрагму 6, маску с окном

7, светочувствительный материал 8, фотоэлектрический приемник 9, измерительный прибор 10, электрически свя— занный с приемником 9.

Сущность изобретения заключается в том, что формируют расходящийся пу- 5 чок когерентного излучения лазера, рассеивают его диффузным, матовым рассеивателем, ограничивают размер рассеянного пучка диафрагмой диаметром D и изображение спекловой картины многократно последовательно экспонируют на разные участки фотоматериала, изменяют соотношения размера диафрагмы 0 и расстояния L при каждом последующем экспонировании и изменяют условия экспонирования для обеспечения постоянства экспозиции.

Способ осуществляют следующим образом.

Пучок излучения лазера 1 при открытом затворе 2 пропускают через поляроид 3 и преобразуют в расходящийся пучок микрообъективом 4. Затем расходящийся пучок за микрообъективом 4 пропускают через рассеиватель 5, например матовое стекло„ и непосредственно за ним ограничивают диаметр D пучка круглой диафрагмой 6. В плоскос. ти предполагаемого экспонирования на расстоянии L от диафрагмы 6 измеряют

50 освещенность с помощью фотоэлектрического приемника 9, электрически связанного с измерительным прибором 10.

Затем помещают в эту плоскость фотоматериал 8 и непосредственно перед

55 ним помещают маску 7 с окном, которое ограничивает размер экспонируемого участка, а затем осуществляют экспонирование фотоматериала 8 с помощью затвора 2. При этом величина экспозипии Н пропорциональна величине освещенности Е фотоматериала, создаваемой источником излучения, и времени экспонирования t, т.е. H=Et.

Перед каждым последующим экспонированием изменяют соотношение размера диафрагмы и расстояние D/h. При этом масштаб спекловой структуры изменяется пропорционально этому соотношению, но одновременно изменяется также и освещенность Е в плоскости фотоматериала 8. Эти изменения можно компенсировать изменением яркости излучения источника или изменением времени экспонирования. Яркость излучения изменяют разворотом поляроида 3 в своей плоскости. При этом пропускание для поляризованного излучения лазера меняется, и при измерении фотоприемником 9 в плоскости предполагаемого экспонирования добиваются восстановления на пр;..боре 10 прежнего значения. Во втором случае измеряют изменение освещенности и затем компенсируют его соответствующим изменением времени экспонирования для получения постоянства экспозиции. Затем перемещают фотоматериал 8 или маску 7 на величину, равную размеру окна, и затвором 2 производят очередное экспонирование на фотоматериал 8.

Число экспонирований определяется необходимым числом полей изготавливаемого оптического клина, т.е. требуемой точностью испытаний. После выполнения заданного числа экспониро— ваний производят фотохимическую обработку фотоматериала 8.

Оптический структурный клин, изготовленный предлагаемым способом, позволяет осуществлять сенситометрические испытания и исследования эффективности структурометрической видеоинформационной аппаратуры. Для удобства обработки результатов испытаний целесообразно задавать масштаб изменения структуры от поля к полю клина с постоянным шагом или отношением. Это условие выполняется при изменении соотношения D/L с постоянным шагом или отношением.

Формула и з о б р е т е н и я

1. Способ получения тестовых изображений, включающий формирование расходящегося пучка когерентного излуче1295361 ния лазера, рассеивание его диффузным рассеивателем, ограничение диаметра пучка рассеиваемого излучения диафрагмой и экспонирование рассеянным излучением расположенного на рас- g стоянии от диафрагмы фотоматериала с последующей его фото-химической обработкой, отличающийся тем, что, с целью расширения области применения за счет получения тестово в 10 го изображения в виде оптического клина структурного типа, экспонируют различные участки фотоматериала, причем перед каждым последующим экспонированием изменяют соотношение диаметра ди-15 афрагмы и расстояние до фотоматериала, а величину экспозиции поддерживают постоянной, 2. Способ по п.1, о т л и ч а ю— шийся тем, что величину экспозиции поддерживают постоянной путем изменения яркости источника.

3. Способ по п.l, о т л и ч а ю ш и и с я тем, что величину экспо— зиции поддерживают постоянной путем изменения времени экспонирования.

4. Способ по п.1, о т л и ч а юшийся тем, что диаметр диафрагмы и расстояние до плоскости экспонирования меняют с постоянным шагом или отношением.