Способ изготовления сегнетокерамической мишени

 

Изобретение относится к области нанесения покрытий в вакууме путем ионного распыления мишеней. Цель изобретения повышение долговечности мишени достигается путем равномерной обработки участков материала мишени током в процессе ее изготовления. Для этого пропускают ток поочередно через участки металлизации, что позволяет устранить неоднородность в структуре керамики. По окончании обработки металлизации удаляют, например, химическим травлением или распылением в разряде на заслонку. Обработка мишени по частям позволяет получить более однородную проводимость в области всей распыляемой зоны, что приводит к повышению долговечности. В мишенях, изготовленных по данному способу, дуговые разряды начинают появляться только после 230-250 ч распыления в магнетронной системе, т.е. в 3 раза позже, чем в способе-прототипе.

Изобретение относится к области нанесения покрытий в вакууме путем ионного распыления мишеней, а именно к способам изготовления мишеней. Целью изобретения является повышение долговечности мишени путем равномерной обработки участков материала мишени током в процессе ее изготовления. Пропускание тока поочередно через участки металлизации на мишени позволяет устранить неоднородности в структуре керамики. Локальные участки, в свою очередь, способствуют образованию дуговых разрядов, приводящих к пробою мишени, что снижает ее долговечность. Обработка объема мишени по частям позволяет получить более однородную проводимость в области всей распыляемой зоны, что приводит к повышению долговечности. П р и м е р. Проводили изготовление сегнетокерамической мишени из керамического титаната бария. Порошок титаната бария с предварительно добавленной связкой (поливиниловый спирт) формовали при давлении 49 106 Па. Отформованную заготовку обжигали при температуре однократного спекания керамики титаната бария 1672 К в течение 2 ч. Обожженную заготовку дробили прессом, а затем дальнейшее измельчение проводили в агатовой мельнице. Из полученного порошка повторно формовали заготовку мишени размером 80 х 40 х 10 мм и обжигали пpи температуре 1533 К в течение 2 ч. Затем на всю распыляемую поверхность мишени наносили, например, через маску металлические (например, никелевые) электроды в виде секторов с дугой, не превышающей 10 мм. Превышение этого размера приводило к повышению неоднородности обработки объема мишени. После этого мишень устанавливали в вакуумной камере на катодный пьедестал, прогревали до 623-673 К, что обеспечивало электропроводность материала мишени, и поочередно пропускали через сектора от отдельных источников питания ток плотностью 83 мА/см2 в течение 9-12 ч в вакууме 6,65 Па. По окончании обработки металлизацию удаляли, например, химическим травлением или распылением в разряде на заслонку. Мишень была готова к использованию. В мишенях, изготовленных по данному способу, дуговые разряды начинают появляться только после 230-250 ч распыления в магнетронной системе, т.е. в 3 раза позже, чем в способе-прототипе.

Формула изобретения

СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ СЕГНЕТОКЕРАМИЧЕСКОЙ МИШЕНИ, включающий формовку материала мишени, обжиг, измельчение и повторную формовку с обжигом, обработку материала мишени в вакууме путем пропускания через него тока, отличающийся тем, что, с целью повышения долговечности мишени, перед обработкой материала мишени в вакууме проводят селективную металлизацию поверхности мишени, а пропускание тока осуществляют поочередно через участки металлизации с последующим их удалением.



 

Похожие патенты:

Изобретение относится к области электронной техники и может быть использовано для нанесения защитных покрытий и пленочных элементов интегральных микросхем

Изобретение относится к области нанесения покрытий в вакууме путем ионного распыления мишеней, а именно, к способам изготовления мишеней

Изобретение относится к нанесению покрытий в вакууме, а именно к устройствам для ионно-плазменного распыления диэлектрических материалов

Изобретение относится к области получения тонких пленок, а именно к установкам для вакуумной обработки изделий, в частности для многослойного катодного распыления и термической обработки, и может быть использовано в производстве изделий электронной техники

Изобретение относится к технологии вакуумно-дуговой обработки металлов, в частности к производству многослойных лент

Изобретение относится к оборудованию для нанесения в электрическом поле покрытий
Изобретение относится к области получения функциональных покрытий, стойких к износу, и способам их получения на поверхности изделия и может быть использовано в машиностроении для упрочнения деталей машин и механизмов, изготовления деталей современных высокофорсированных двигателей, нанесения износостойкого покрытия на стержни клапанов и поршневые кольца

Изобретение относится к порошковой металлургии, в частности к мишени для получения функциональных покрытий и способу ее изготовления, и может быть использовано в химической, станкоинструментальной промышленности, машиностроении и металлургии

Изобретение относится к области нанесения покрытий в вакууме и может быть использовано, например, при производстве тонкопленочных элементов многокомпонентных материалов, оптических покрытий, теплозащитных покрытий архитектурного стекла и других покрытий для товаров народного потребления на любых металлических, пластмассовых и других основаниях

Изобретение относится к технике газоразрядных устройств и может быть использовано в плазмохимических реакторах
Изобретение относится к области нанесения покрытий в вакууме и изготовления сегнетокерамических мишеней, распыляемых ионной бомбардировкой в вакууме

Изобретение относится к области нанесения покрытий в вакууме и служит для повышения качества мишеней
Наверх