Устройство для нанесения покрытий из газовой фазы

Авторы патента:

C23C16/458 - характеризуемые способом, используемым для поддерживания подложек в реакционной камере

Изобретение относится к оборудованию для нанесения покрытий из газовой фазы. Целью изобретения является повьшение эффективности и удобства обслуживания устройства.за счет, увеличения числа покрываемых подложек без разборки и разгерметизации системы . В подложкодержатель 6, связанный с захватом 1.S , устанавливают подложку и вводят под нагревательный блок 3. BKjno4aroT электромагнитную катушку 5 и проводят подготовительные операций (герметизацию, нагрев и зат Полнение системы инертным газом). Подают под тарелку 14 с исходным веществом горячий газ-Иоситель и непосредственно к поверхности подложки - газ-реагент. После нанесения покрытий отключают электромагнитную катушку 5 и с помощью штока 16 с захватом 15 выводят подпожкодержатель 6 в камеру - шлюэ 18. Производят замену обрабатываемой подложки. 1 з.п. ф-лы, 2 ил. CLO сЬ 00 о О1

СОЮЗ СОВЕТСКИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСНИ1(РЕСПУБЛИК ао

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

1 ъ

2 ил.

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ СССР

ПО ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И ОТКРЫТИЙ (46) 23. 07. 91, Бюл. 11 27 (61) 1194042 (21) 3967495/02 (22) 25.07. 85 (71) Институт неорганической химии

СО АИ СССР (72) А.Ф.Быков, Н.В.Гельфонд, С.В.Земсков, И;К.Игуменов, И.Г.Ларио-. нов и С.М.Царев (53) 621.793.59(088.8) (56) .Авторское свидетельство СССР

Ф 1194042, кл. С 23 С 16/00, 1983. (54) УСТРОЙСТВО ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЙ ИЗ ГАЗОВОЙ ФАЗЫ (57) Изобретение относится к оборудованию для нанесения покрытий из газовой фазы. Целью изобретения является повышение эффективности и удобства обслуживания устройства.эа счет. уве1,SU„„ 16305 А2 (51) 5 С 23 С 16/00 личения числа покрыв,емых подложек без разборки и разгерметизации системы. В подложкодержатель 6, связанный с захватом 15, устанавливают подложку и вводят под нагревательный блок 3. Включают электромагнитную катушку 5 и проводят подготовительные операции (герметизацию, нагрев и за йолнение системы инертным газом).

Подают под тарелку 14 с исходным веществом горячий газ-носитель и непосредственно к поверхности подложкивЂ” газ-реагент. После нанесения покрытий отключают электромагнитную катушку 5 и с помощью штока 16 с захватом

15 выводят подложкодержатель 6 в ка- : g

Ф меру - шлюз 18. Производят замену обрабаемваемой подповкп. в.п. Ф-пм, Q)

С:

1 l3I630

Изобретение относится к оборудованию для нанесения оптических и защитных покрытий из газовой фазы и касается устройств для нанесения тонких пленок на подложки, в частности устройств для получения зеркальных пок-. рытий с высокой отражательной способностью и механической прочностью, используемых в качестве оптических элементов лазеров..

: I0 !

Целью изобретения является повышение эффективности работы и удобства обслуживания устройства. 15

На фиг.1 изображено устройство, разрез; на фиг.2 вЂ” подложкодержатель с нагревателем, разрез.

Устройство содержит вертикальный 20 герметичный корпус 1, крышку 2, нагревательный блок 3 с нагревателем 4 и установленной на нем электромагнитной катушкой 5 н подложкодержатель 6 для механического закрепления обрабатываемой подложки 7. Соосно подложке 7 установлено приспособление для ввода газа-реагента, выполненное в виде полого перфорированного кольца

8, сообщенного с наружной трубкой 9 для подачи газа - реагента. На нижней крьппке 10 установлен блок 11 подачи газов с встроенным s него нагревателем 12 и трубкой 13 для подачи газа-носителя, 35 на который установлена перфорированная тарелка 14, заполненная пористым материалом с нанесенным .на него веществом для покрытия. Подложкодержатель 6 вставлен в захват 15, связан- 40 ный со штоком 16, пропущенным через уплотненное отверстие 17 в камерешлюзе 18. Имеется аналогичное приспособление для смени тарелки 14 (условно не показано). К крышке 2 прикреп- 4S лены трубка 19 для отвода отработанных газов и привод вращения нагрева-. тельного блока 3 (условно не показан).

На нагревательном блоке 3 смонтирован магнитопровод 20 и немагнитная 50 вставка 21 при этом нагревательный блок 3 и подложкодержатель б выполнены из магнитного материала, а магиитопровод 20 смонтирован с возможно" стью взаимодействия с подложкодержа- 55 телем 6.

1 1

Устройство работает следующим образом °

5 2

Устанавливают подложкодержатель 6 с подложкой 7 под нагренательньй блок 3, включают электромагнитную катушку 5 и проводят подготовитель" ные операции по герметизации, нагреву и заполнению системы инертным газом. Затем подают под тарелку 14 с исходным веществом горячий газ вЂ” носитель и непосредственно к поверхности подложки 7 вЂ” гаэ-реагент. После нанесения покрытий отключают электромагнитную катушку 5 и с помощью штока 16 с захватом 15 выводят подложку

7 в сборке с подложкодержателем 6 в камеру-шлюз 18, заменяя ее новой.

Все операции проводятся без разборки и разгерметизации системы, а также без промежуточного охлаждения. Аналогично проводят замену перфорированной тарелки 14 с веществом для покрытия.

Предлагаемое устройство имеет следующие преимущества.

Повышает производительность труда за счет увеличения числа покрываемых подложек беэ разборки корпуса и раз- . герметизации системы.

Повышает удобство в обслуживании за счет автоматизации операции прижима подложкодержателя к нагревательному блоку.

Сокращает расход электроэнергии за счет сокращения промежуточных опе. раций отключения нагревателей и охлаждения системы, а.также улучшения теплового контакта подложки с нагревательным блоком.

Сокращает расход газа за счет сокращения операций по разгерметизации системы.

Форм у ла изобретения

1. Устройство для нанесения покрытий из, газовой фазы по авт. св.

У 1194042, о т л и ч а ю щ е е с я тем, что, с целью повьппения эффективности работы и удобства обслуживания устройства, Оно дополнительно снабжено магнитопроводом с электромагнитной катушкой, установленным на нагревательном блоке с возможностью взаимодействия с подложкодержателем, при этой нагревательный блок и подложкодержатель выполнены иэ магнитного материала.

2.. Устройство по п.I о т л ивЂ” ч а ю щ е е с я тем, что нагревательный блок дополнительно снабжен приводом вращения.

I 316305

Редактор С.Кулакова

Заказ 3128

Производственно-полиграфическое предпр|-ятие, г. Ужгород, ул. Проектная, 4, fur

7 4риг. Z

Составитель B.Трегубов

Техред Н. Глущенко Корректор С.Шекмар

Тираж 564 Подписное

ВНИИНИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий

li3035. Г1осква, K-35;- Раушская наб., д. 4/5

Устройство для нанесения покрытий из газовой фазы

Устройство для нанесения тонких пленок полупроводников и диэлектриков // 2331717

Изобретение относится к области полупроводниковой нанотехнологии, к области тонкопленочного материаловедения, а именно к устройствам для нанесения тонких пленок и диэлектриков

Реактор с подложкодержателем для получения слоев из газовой фазы при пониженном давлении // 2448205

Изобретение относится к оборудованию для получения слоев из газовой фазы при пониженном давлении (ХОГФПД) и может быть использовано при формировании и диэлектрических, полупроводниковых и проводящих слоев в производстве

Устройство для получения металлосодержащих пленок из паров химических соединений // 1700097

Изобретение относится к нанесению покрытий в контролируемой атмосфере и может быть использовано для получения металлсодержащих пленок из паров химических соединений, Цель изобретения - повышение качества покрытий путем обеспечения равномерного нагрева и распределения газовой смеси

Способ нанесения покрытия для пассивации кремниевых пластин // 2509175

Изобретение относится к области высоковольтной техники, к силовым полупроводниковым устройствам и, в частности, к способу и устройству для одностадийного двустороннего нанесения слоя покрытия из аморфного гидрогенизированного углерода на поверхность кремниевой пластины, а также к держателю подложки для поддержки кремниевой пластины. Используют кремниевую пластину (4), содержащую первую большую сторону с первым скосом по кромке первой большой стороны и вторую большую сторону с центральным участком и вторым скосом по кромке второй большой стороны, окружающей центральный участок, причем вторая большая сторона противоположна первой большой стороне, помещают кремниевую пластину (4) на опору (31) для подложки держателя (3) подложки, причем опору (31) для подложки выполняют с возможностью обеспечения контакта лишь центрального участка второй большой стороны пластины (4) с опорой (31) для подложки. Затем помещают держатель подложки с пластиной (4) в реакционную камеру (8) плазменного реактора, в которой на первый и второй скосы одновременно воздействуют плазмой (6), для получения осажденного слоя (7) из аморфного гидрогенизированного углерода. Обеспечивается возможность одностадийного двухстороннего нанесения пассивирующего слоя, обеспечивающего электрическую неактивность участка полупроводниковой пластины. 3 н. и 14 з.п. ф-лы, 5 ил.

Устройство и способ осаждения атомных слоев // 2555282

Изобретение относится к устройству и способу осаждения атомных слоев на поверхность листообразной подложки. Устройство содержит инжекторную головку, включающую осадительное пространство, оснащенную впуском для прекурсора и выпуском для прекурсора. Указанные впуск и выпуск предназначены для создания потока газообразного прекурсора от впуска для прекурсора через осадительное пространство к выпуску для прекурсора. Осадительное пространство локализовано инжекторной головкой и поверхностью подложки. Инжектор опорного газа предназначен для нагнетания опорного газа между инжекторной головкой и поверхностью подложки. Опорный газ создает газовую подушку. Конвейерная система обеспечивает относительное перемещение подложки и инжекторной головки вдоль плоскости подложки для формирования плоскости транспортирования, вдоль которой перемещают подложку. Напротив инжекторной головки размещают опорную деталь. Опорная деталь скомпонована для создания газовой подушки с профилем давления, которая уравновешивает газовую подушку инжекторной головки в плоскости транспортирования так, что подложка поддерживается без опоры указанной газовой подушкой с профилем давления между инжекторной головкой и опорной деталью. 2 н. и 13 з.п. ф-лы, 10 ил.

Покрытие полотна подложки осаждением атомных слоев // 2605408

Изобретение относится к реакторам атомно-слоевого осаждения, в которых материал наносят на поверхности при последовательном использовании самоограниченных поверхностных реакций. Способ нанесения тонкопленочного покрытия на поверхность полотна атомно-слоевым осаждением (АСО) включает подачу покрываемого полотна в реакционное пространство реактора атомно-слоевого осаждения, формирование для покрываемого полотна в реакционном пространстве траектории с повторяющейся конфигурацией и обеспечение доступности покрываемого полотна в реакционном пространстве для подачи прекурсоров разделенными во времени импульсами для нанесения на указанное полотно материала посредством последовательных самоограниченных поверхностных реакций. Импульсы прекурсоров подают со стороны реакционного пространства в горизонтальном потоке газов прекурсоров. Аппарат для нанесения тонкопленочного покрытия на поверхность полотна АСО содержит входной шлюз, сконфигурированный с возможностью вводить движущееся покрываемое полотно в реакционное пространство реактора для нанесения материала, элементы для задания траектории, сконфигурированные с возможностью формировать для покрываемого полотна в реакционном пространстве траекторию с повторяющейся конфигурацией, и узел подачи паров прекурсоров, сконфигурированный для обеспечения доступности покрываемого полотна в реакционном пространстве для подачи прекурсоров разделенными во времени импульсами для нанесения на указанное полотно упомянутого материала. Узел подачи паров прекурсоров содержит по меньшей мере один распределитель потока, выполненный с возможностью обеспечения горизонтального потока газов прекурсоров. Распределитель потока расположен со стороны реакционного пространства. Производственная линия для нанесения тонкопленочного покрытия на поверхность полотна АСО содержит в качестве одного из модулей упомянутый аппарат с возможностью нанесения покрытия упомянутым способом. Обеспечивается возможность настройки реактора АСО на требуемую скорость производственной линии для обработки покрываемого полотна. 3 н. и 11 з.п. ф-лы, 6ил.

Установка и способ для вакуумной обработки изделий // 2606105

Изобретение относится к установке для вакуумной обработки изделий и способу вакуумной обработки с использованием упомянутой установки. Заявленная установка предназначена для обработки изделий, закрепленных на карусели (205), размещенной на карусельных салазках (201). Указанная карусель содержит вакуумную камеру (303) с дверцей (305) и привод (101). Вакуумная камера имеет по меньшей мере один задний упор (309) и по меньшей мере один передний упор (311), которые при полном введении карусельных салазок (201) в вакуумную камеру (303) и при закрытой дверце (305) обеспечивают кинематическую связь привода (101) карусели с каруселью (205). Привод (101) карусели расположен в вакуумной камере (303) на ее стенке, противолежащей дверце (305). Упомянутый способ включает введение карусельных салазок (201) с размещенной на них каруселью (205) в открытую дверцу (305) вакуумной камеры (303), закрытие дверцы (305) вакуумной камеры (303), ее откачку и осуществление вакуумной обработки. Карусельные салазки (201) с размещенной на них каруселью (205) с закрепленными на ней изделиями предварительно помещают на рельсы тележки и подводят эту тележку с размещенной на ней упомянутой каруселью к открытой дверце (205) вакуумной камеры (303). После закрытия указанной дверцы (305) карусельные салазки (201) фиксируют посредством упомянутых по меньшей мере одного заднего упора (309) и по меньшей мере одного переднего упора (311). Обеспечивается простое подсоединение карусели к ее приводу. 2 н. и 2 з.п. ф-лы, 4 ил.

Держатель подложки // 2607110

Изобретение относится к СВЧ технике и может быть использовано для изготовления держателей для подложек, на которых формируют методом плазменного парофазного химического осаждения пленки или покрытия различных материалов, в частности углеродные (алмазные) пленки или покрытия. Держатель подложки выполнен в виде диска из тугоплавкого высокотемпературного переходного металла, при этом верхняя поверхность держателя, выполнена шлифованной, а нижняя поверхность держателя содержит кольцевые пазы, образованные концентрическими окружностями. Между кольцевыми пазами образованы внешний и средний теплоотводящие элементы в виде кольцевых выступов и центральный теплоотводящий элемент, представляющий собой выступ в виде круга. Обеспечивается повышение однородности распределения температурного поля по поверхности держателя, обеспечивающего однородность роста пленки по толщине. 10 з.п. ф-лы, 3 ил., 2 пр.

Способ загрузки подложки в реактор асо // 2620230

Изобретение относится к реакторам атомно-слоевого осаждения, в которых материал наносят на поверхности при последовательном осуществлении самоограниченных поверхностных реакций. Способ атомно-слоевого осаждения материала на партию подложек включает загрузку партии подложек в держатель подложек, находящийся в загрузочной камере реактора для нанесения материала, с формированием в держателе подложек вертикальной стопы горизонтально ориентированных подложек, в которой подложки расположены одна на другой, и разворот держателя подложек для получения горизонтальной стопы вертикально ориентированных подложек, в которой подложки расположены одна за другой, и опускание держателя подложек в реакционную камеру указанного реактора для нанесения материала посредством последовательных самоограниченных поверхностных реакций путем воздействия на партию подложек разделенными во времени импульсами подачи прекурсоров. Аппарат для осуществления упомянутого способа содержит механизм разворота, выполненный для разворота держателя подложек для получения горизонтальной стопы вертикально ориентированных подложек, в которой подложки расположены одна за другой, и подъемник, выполненный для опускания держателя подложек в реакционную камеру указанного реактора, для нанесения материала посредством последовательных самоограниченных поверхностных реакций путем воздействия на партию подложек разделенными во времени импульсами подачи прекурсоров. Обеспечивается система загрузки сверху реактора для нанесения материалов с вертикальным потоком газов, позволяющая загружать подложки, ориентированные горизонтально, а также устраняется необходимость в развороте каждой подложки по отдельности за счет разворота держателя подложек в целом и минимизация перемещения подложек при их загрузке в кластер реакторов. 2 н. и 11 з.п. ф-лы, 6 ил.

Загрузочное устройство и установка для уплотнения пористых штабелируемых преформ, имеющих форму усеченного конуса // 2634826

Настоящее изобретение относится к загрузочному устройству (100) реакционной камеры печи для инфильтрации для уплотнения штабелируемых пористых преформ (160-163), имеющих форму усеченного конуса, методом химической инфильтрации в газовой фазе направленным потоком и печи (200) для инфильтрации для уплотнения штабелируемых пористых упомянутых преформ (160-163). Указанное устройство содержит опорный поддон (110), первый штабель, имеющий нижние кольца (140-144) с инжекционными отверстиями (1401; 1411; 1421; 1431; 1441), второй штабель, имеющий верхние кольца (150-154), причем каждое верхнее кольцо имеет выпускные отверстия (1501; 1511; 1521; 1531; 1541), проходящие между внешней и внутренней окружностями каждого из верхних колец, первую непористую стенку (130), форма и размеры которой идентичны форме и размерам подлежащих уплотнению пористых преформ (160-163), расположенную на опорном поддоне (110) внутри нижних колец (140-144) первого штабеля и проходящую между опорным поддоном и верхним кольцом, расположенным в основании второго штабеля, и вторую непористую стенку (170), форма и размеры которой идентичны форме и размерам подлежащих уплотнению пористых преформ (160-163), проходящую между нижним кольцом (143), расположенным на вершине первого штабеля, и верхним кольцом (154), расположенным на вершине второго штабеля. Упомянутая печь содержит реакционную камеру (210), впускную трубу (221) газа-реагента, расположенную в первом конце камеры и ведущую в зону (222) предварительного нагрева, и выпускную трубу (231), расположенную во втором конце камеры, противоположном первому концу, и упомянутое загрузочное устройство (100) реакционной камеры. Обеспечивается возможность уплотнять пористые преформы, имеющие форму усеченного конуса, с высоким объемом загрузки и с минимальными градиентами уплотнения в подложках. 2 н. и 9 з.п. ф-лы, 7 ил.