Устройство для нанесения покрытий из газовой фазы

 

Изобретение относится к оборудованию для нанесения оптических и защитных покрытий и касается устройств для нанесения тонких пленок на подложки из газовой фазы, а точнее устройств для получения зеркальных покрытий с высокой отражательной способностью и механической проч-. ностью. Цель изобретения - снижение расхода реагентов путем улучшения организации потока парогазовой смеси н обеспечения стехиометрического соотношенияреагентов в зоне осаждения. Тарелку 10 с исходным веществом, нанесенным на пористый материал, устанавливают в камеру-шлюз 14. При достижении заданной температуры подложки 6 и газоносителя, подаваемого по трубке 17, тарелку 10 с исходным веществом посредством штока 12 через вырея 9 в экране 8 устанавливают на блок 7 подачи газа, при этом вырез 9 перекрывается заслонкой 13, укрепленной на штоке 12. Нагреваемое горячим газом-носителем исходное вещество испаряется и через полость экраня 8 переносится К поверхности подложки 6, к которой через трубку 15 подают :Газ-реагент. Концентрапито паров исходного вещества измеряю по поглощению излучения источника, установленного за окном П. При изменении концентрации исходного вещества, посредством электродвигателя 24 и газового дросселя 25 плавно регулируют подачи газа-реагента. Конструктивные особенности устройства позволяют сократить потери реагентов до 25,2Z. I .з.п. ф-лы, 2 ил. g (Л 4J сл

СОЮЗ СОВЕТСНИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ

РЕСПУБЛИК

А2

091 (1I) (51) 5 С 23 С 16/00

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

К А BTOPCKOMY СВИ4ЕТЕЛЬСТВУ

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ СССР

ПО ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И ОТКРЫТИЙ (46) 23.07, 91. Бюл. Р 27 (61) 1194042 (21) 3982561/02 (22) 28.10,85 (71) Институт неорганической симин

СО АН СССР (72) А.Ф.Быков, Н!В,Гельфонд, С.В.Земсков, И.К.Игуменов, Г.Ким, И.Г.Ларионов, А.А.Никифоров и С.М.Царев (53) 621.793.14.002.51 (088.8) (56) Авторское свидетельство СССР 11 1194042, кл. С 23 С 16/00, 1983. (54) УСТРОЙСТВО ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЙ ИЗ ГАЗОВОЙ ФАЗЫ (57) Изобретение относится к оборудованию для нанесения оптических и защитных покрытий и касается устройств для нанесения тонких пленок на подложки из газовой фазы, а точнее устройств для получения зеркальных покрытий r высокой отражательной способностью и механической проч-. ностью. Цель изобретения — снижение расхода реагентов путем улучшения органиэации потока парогазовой смеси и обеспечения стехиометрического соотношения реагентов в зоне осаждения.

Тарелку 10 с исходным веществом, нанесенным на пористый материал, устанавливают в камеру-шлюз 14. При достижении заданной температуры под" ложки 6 и гаэоносителя, подаваемого по трубке 17, тарелку 10 с исходным веществом посредством штока 12 через . вырез 9 в экране 8 устанавливают на блок 7 подачи газа, прн этом вырез 9 перекрывается заслонкой 13, укрепленной на штоке 12. Нагреваемое горячим газом-носителем исходное вещество испаряется и через полость экрана 8 переносится к поверхности подложки 6, к которой через трубку 15 подают гаэ-реагент. Концентрмим паров исходного вещества измеряю по поглощению излучения источника, установленного эа окном ll. При изменении концентрации исходного вещества, посредством электродвигателя 24 и газового дросселя 25 плавно регулируют режим подачи газа-реагента. Конструктивные особеняости устройства позволяют сократить потери реагентов до

25,2X. I .э.п. ф-лы, 2 нл.

1347504

Изобретение относится к оборудо" ванию для нанесения оптических и saщитных покрытий из газовой фазы и касается устройств для нанесения тон5 ких пленок на подложки, в частности устройств для получения зеркальных покрытий с высокой отражательной способностью и механической прочностью.

Целью изобретения является сниже- 10 ние расхода реагентов путем улучшения органиэации потока парогазовой смеси и обеспечения стехиометрического соотношения реагентов в зоне осаждения ° 15

На фиг.l изображен общий вид устройства, разрез; на фиг.2 — разрез

А-А на фиг.l.

Устройство содержит вертикальный зп герметичный корпус 1, крышку 2, saкрепленный на ней нагревательный блок 3 с нагревателем 4, подложкодержатель 5, подложку 6, блок 7 подачи газа с насаженным на него цилин- 25 дрическим экраном 8, который снабжен вырезом 9, выполненным по профилю тарелки 1О в форме полукольца, расположенном на уровне тарелки !О и окнами 11 со стеклами расположенными 30 между тарелкой 10 и подложкой 6, шток !2, к части которого, примыкающей к тарелке 10, прикреплена заслонка 13 и форме полукольца, выполненная по форме выреза 9 в экране. Кро- 35 ме того, устройство содержит камерушлюз 14, трубку 15 для подачи газареагента, приспособление для ввода газа-реагента, выполненное в виде полого перфорированного кольца )6, 40 трубку, 17 для подачи газа-носителя.

На корпусе 1 смонтированы смотровые окна 18, на крышке 2 установлен привод (условно не показан) вращения подложкодержателя 5 и трубка 19 для 45 отвода газообразных продуктов реакции, а в блок 7 вмонтирован нагреватель 20. Экран 8 установлен с возможностью регулирования зазора относительно подложкодержателя 5. На

50 корпусе 1 также смонтирован источник

2l излучения и приемник излучения

22, измеритель 23 расхода газа-реагента, блок управления (условно не показан) и исполнительный механизм, состоящий из электродвигателя 24 и газового дросселя 25.

Устройство работает следующим образом.

Исходное вещество, равномерно нанесенное на пористый материал, поме щают на перфорированную тарелку 10.

Затем тарелку 10 устанавливают в камеру-шлюз 14. При достижении заданной температуры подложки 6 и газаносителя, тарелку 10 с исходным веществом посредством штока 12 через вырез 9 в экране 8 устанавливают на блок 7 подачи газа, при этом вырез

9 перекрывается заслонкой 13, укрепленной на штоке 12. Нагреваемое горячим газом -носителем, исходное ве" щество испаряется и через полость экрана 8 переносится к поверхности подложки 6, к которой через трубку

15 подают газ-ре.агент. Концентрацию паров исходного вещества измеряют по поглощению излучения источника

21 молекулами исходного соединения.

Сигналы с приемника излучения 22 и измерителя 23 расхода rasa-реагента поступают на блок управления, с которого управляющий сигнал подается на исполнительный механизм, и посредством электродвигателя 24 и газового дросселя 25 плавно регулируют режим подачи rasa-реагента для обеспечения стехиометрии химической реакции в зоне осаждения, в результате которой на нагретой поверхности подложки б осаждается металл в виде пленочного покрытия. Вращение подлож кодержателя 5 с подложкой 6 способствует более равномерному нанесению покрытия. Газообразные продукты реакции вместе с газом-носителем, двигаясь в радиальном направлении, удаляются от поверхности подложки 6 через трубку 19.

Конструктивные особенности устройства позволяют сократить потери реагентов на 13,4-25,2Х за счет улучшения органиэации потока парогазовой смеси и стехиометрического соотношения компонентов, а также оптимизировать процесс, сократив предварительные эксперименты по установлению режима нанесения покрытий.

Формула и э о б р е т е н и я

I. Устройство для нанесения покрытий иэ газовой фазы по авт св.

1194042, о т л и ч а ю щ е е с я тем, что, с целью снижения расхода реагентов путем улучшения органиэаз 1347504

4 ции потока парогазовой смеси и обес- вания зазора относительно подложкопечения стехиометрического соотноше- держателя и выполнен с выреэбм по ния реагентов в зоне осаждения, оно профилю тарелки для исходного вещестдополнительно снабжено окнами со ва, расположенньи на ее уровне. стеклами для контроля концентрации 2. Устройство no n,l о т л ипаров исходного вещества, смонтиро- ч а ю щ е е с я тем, что ано снабже-. ванными на экране и расположенными на но заслонкой, выполненной по форме уровне между тарелкой для исходного выреза в экране и закрепленной на вещества и подложкой, при этом экран 0 штоке с воэможностью перекрытия вм установлен с воэможностью регулиро- реэа.! 347504

Составитель В. Саэоиов

Техред Л. Сердюкова

Кррректор С.Шекмар

Редактор А.Кондрахина

Тираж 566, Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий

113035, Москва, Ж-85, Раушская наб., д. 4/5

Закаэ 3128

Проиэводственно-полиграфическое предприятие, г,ужгород, ул, Пров@тнавеЧ