Рефлектометр для вакуумного ультрафиолета

 

Изобретение относится к оптическому приборостроению. Цель изобретения - повышение точности измерения коэффициента отражения и сокращение времени измерений. Рефлектометр содержит источник монохроматического излучения 1, фотометрическую головку 2, в которой на внутренней поверхности вокруг выходного отверстия 4 нанесено флуоресцирующее вещество. Фотометрическая головка 2 установлена на фотоприемнике 6. Для одновременного измерения падающего и отраженного лучей по ходу отраженного луча введен второй фотоприемник 7 с фотометрической головкой 8, в которой на внутренней зеркальной поверхности в месте приема отраженного -луча нанесено флуоресцирующее под воздействием вакуумного ультрафиолета вещество. Оба фотоприемника 6 и 7 подключены к обрабатывающей электронной схеме 13 с возможностью одновременного запуска. 1 ил. (Л

СООЗ СОВЕТСКИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ

РЕСПУБЛИК

Ш 4 С 01,Х 1/04

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

Н А ВТОРСНОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ НОМИТЕТ СССР

ПО ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И ОТКРЫТИЙ (21 ) 4054797/31-25 (22) 11.04.86 (46) 23.01.88. Бюл. ¹ 3 (71) Физико-технический институт низких температур АН УССР (72) А.И.Галуза и Ю.Н.10рковский (53) 535.24(088.8) (56) Галуза А.И. и др. Низкотемпературная приставка к вакуумному монохроматору BMP-2. — Приборы и техника эксперимента, 1978, № 6, с. 80.

Патент ФРГ № 2757196, кл. G 01 N 21/42, 1981. (54) РЕФЛЕКТОМЕТР ДЛЯ ВАКУУМНОГО

УЛЬТРАФИОЛЕТА (57) Изобретение относится к оптическому приборостроению. Цель изобретения — повышение точности измерения коэффициента отражения и сокращение

„„SU„„1368655 А 1 времени измерений. Рефлектометр содержит источник монохроматического излучения 1, фотометрическую головку 2, в которой на внутренней поверхности вокруг выходного отверстия 4 нанесено флуоресцирующее вещество.

Фотометрическая головка 2 установле-на на фотоприемнике 6. Для одновре менного измерения падающего и отра-. женного лучей по ходу отраженного луча введен второй фотоприемник 7 с фотометрической головкой 8, в которой на внутренней зеркальной поверхности в месте приема отраженного луча нанесено флуоресцирующее под воздействием вакуумного ультрафиолета а е вещество. Оба фотоприемника 6 и 7 подключены к обрабатывающей электронной схеме 13 с воэможностью одновременного запуска. 1 ил.

1368655

Изобретение относится к оптическому приборостроению и может быть использовано для автоматического измерения спектрального распределения абсолютного коэффициента зеркального отражения.

Цель изобретения — повышение точности определения коэффициента отражения, сокращение времени измерений, 10 упрощение конструкции рефлектометра и расширение спектрального диапазона.

На чертеже приведена схема устройства в его обрабатывающей электронной схеме. 1Г

Рефлектометр содержит перестраиваемый по энергии фотонов источник 1 монохроматического излучения, зеркальную фотометрическую головку 2 с отверстиями 3 и 4 с блендами на них, 20 причем внутренняя поверхность фотометрической головки вокруг отверстия покрыта флуоресцирующим веществом 5 (оалицилатом натрия). Выходное отверстие 4 выполнено таким, что периферическая часть входящего луча отсекается краями отверстия 4 и задерживается на флуоресцирующем покрытии 5.

Фотометрическая головка 2, являющаяся дополнительной, второй, установлена на фотоприемнике (ФЭУ) 6.

На фотоприемнике 7 установлена первая фотометрическая головка 8 с отверстием 9, имеющим бленду, и флуо- 3ь ресцирующим покрытием 10, находящимся напротив входного отверстия 9 на внутренней ее поверхности. Устройство содержит также держатель образца

11 и эталона 12 с механизмом их пере- 40 мещения. Фотоприемники 6 и 7 подключены к электронной обрабатывающей схеме 13 с возможностью одновременной обработки электрических сигналов фотоприемников. 45

Обрабатывающая электронная. схема включает два аналого-цифровых преобразователя (АЦП) 14 и 15, к которым через усилители 16 и 17 соответственно подключены фотоприемники 6 и 7, 50

АЦП подключены к входам специализированного управляющего вычислительного устройства (СУВУ) 18, информация с которого выводится на графопостроитель 19 и печатающее устройство 20.

СУВУ управляет источником 1 монохроматического излучения.

Рефлектометр работает следующим образом.

СУВУ устанавливает. требуемое значение энергии излучения источника 1.

Ионохроматический луч от источника 1 проходит через отверстия 3 и 4 фотометрической головки 2. Часть луча, попадая на флуоресцирующее покрытие

5, вызывает его свечение, которое непосредственно или отражаясь от зеркальной внутренней поверхности фотометрической головки 2, попадает на фотоприемник. Луч отраженный от образца (или эталона), попадает в фотометрическую головку 8 через отверстие 9 на флуоресцирующее покрытие 10, вызывая его свечение. Это свечение, непосредственно или отражаясь от зеркальной внутренней поверхности фотометрической головки 8, попадает .на фотоприемник 7. Электрические сигналы от фотоприемников 6 и 7 поступают каждый на свой АЦП через усилители

16 и 17. С подачей от СУВУ 18 импульса "Запуск измерений" на вход Внешний запуск" АЦП 14 и 15 происходит одновременное преобразование сигналов, поступающих на АЦП в цифровой код. После завершения преобразования

СУВУ принимает двоичную информацию с выходов АЦП 14 и 15. Информация запоминается в памяти СУВУ. После этого СУВУ устанавливает новое значение энергии излучения источника 1.

После завершения накопления информации в памяти СУВУ при различных значениях энергии источника излучения такие же измерения проводят с эталоном. Информация от АЦП заносится в другую область памяти СУВУ. После завершения сканирования информация обрабатывается и выводится с помощью графопостроителя 19 и печатающего устройства 20.

Таким образом, рефлектометр позволяет повысить точность определения коэффициента отражения и сократить время измерений за счет одновременного измерения падающего и отраженного лучей и трансформации ВУФ излучения в излучение, находящееся в диапазоне максимальной чувствительности фотоприемников; упростить конструкцию рефлектометров за счет замены сложного по исполнению зеркального коммутатора второй однотипной по конструкции с первой зеркальной фотометрической головкой с фотоприемниками и флуоресцирующим покрытием в местах падения излучения.

Составитель В.Калечиц

Редактор Н.Бобкова Техред А.Кравчук Корректор А.Зимокосов

Заказ 279/40

Тираж 499 Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий

l13035, Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5

Производственно-полиграфическое предприятие, г. Ужгород, ул. Проектная, 4

)368

Формула и з обретения

Рефлектометр для вакуумного ультрафиолета, содержащий источник излучения и расположенные последовательно по ходу излучения держатель образца и эталона, а также фотометрическую головку с входным отверстием и зеркальной внутренней поверхностью 10 и соединенный с фотометрической головкой и оптически связанный с ней фотоприемник с обрабатывающей электронной схемой, соединенной с источником излучения, о т л и ч а ю щ и й- 15 с я тем, что, с целью расширения спектрального диапазона, повышения точности, сокращения времени измерений и упрощения конструкции, рефлектометр дополнительно содержит вторую 20 фотометрическую головку с входным и

4 выходным отверстиями и зеркальной внутренней поверхностью, второй фотоприемник, соединенный с второй фотометрической головкой и оптически связанный с ней, причем вторая фотометрическая головка установлена между источником излучения и держателем образца и эталона, а второй фотоприемник соединен с обрабатывающей электронной схемой, при этом диаметр выходного отверстия второй фотометрической головки меньше диаметра ее входного отверстия, на внутренней поверхности второй фотометрической головки вокруг выходного отверстия нанесено флуоресцирующее покрытие, причем идентичное покрытие нанесено на внутреннюю поверхность первой фотометрической головки напротив входного отверстия по ходу излучения.