Способ получения суспензии для полирования стеклянных пластин

 

СОЮЗ СОВЕТСНИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСНИХ

РЕСПУБЛИК

„.SU„„1420933 А1 (51) 5 С 09 С 1/02

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТ

H АВТОРСКОМУ, СВИДЕТЕЛЬСТВУ улучшить качество поверкности стекляннык пластин за счет способа получения суспензии смешением порошка оксида церия IV с водой, отделением частиц размером более 4 мкм, введением сернокислого цинка в количестве

0,005-0,01 мас.X от массы отфильтрованной суспензии, отстаиванием в те1 5-9 чение времени t — - где с — соС держание сернокислого нинка, мас.Х! числитель,, с, мас,X сливом осветленной части суспензии с последующим разведением до плотности 1,22 г/см .

1 табл.

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ СССР

OO ÄEËAÌ ИЗОБРЕТЕНИЙ И ОТНРЬГГИЙ (46) 07.06.91. Бюл. 82 21 (21) 4032639/05 (22) 10.03,86 (72) P.À.Pîäèîíîâ, А.И.Иазин и Н.И.Вараненкьва. (53) 621.921(088.8) (56) Авторское свидетельство СССР

В 1261276, кл. С 09 С 1/02, 1984е (54) СПОСОБ ПОЛУЧВНИЯ СУСПЕНЗИЯ ДЛЯ

ПОЛИРОВАНИЯ СТЕЮЯННЫХ ПЛАСТИН (57) Изобретение относится к области микроэлектроники и может быть использовано при приготовлении суспензий для полирования стекляннык заготовок

Фотошаблонов. Изобретение позволяет

ЕНИЯ,, »

1(» 20 33

Изобретение относится к области микроэлектроиики -и может быть использовано при приготовпе33ии суспензий для полирования стеклянных заготовок

3 фотошаблонов, Цель изобрете33ил — улучшение качества поверхности стекляннь3х пластин.

Изобретение иллюстрируется примерами и таблицей.

Пример 1. В емкость наливают

80 л деионизованной воды, добавляют

20 кг полировального порошка оксида церия . После интенсивного перемешнва- 15 ния суспенэию отфильтровывают через капроновый фильтр с размером ячейки

4 мкм. После фильтрования масса ос"= тавшейся суспензии составляет 97 кг, Затем в суспензии добавляют 4,85 г 20 сульфата цинка (концентрация ХпО в суспензия 0,005 мас.Е) и отстаивают

1 5 в течение времени 1. = — -- - —. =- 300 с.

0,005

После отстаивания сливают осветленную25 часть суспензии, а оставшийся на дне емкости осадок разбавляют деионизованной водой до плотности 1,22 г/см - .

Приготовленпую полировальную суспензию используют на стадии финишного З0 . полирования стеклянных заготовок фотошаблонов размером 102х102х2,4 им, прошедших стадии грубой и тонкой шлифовки и предварительной полировки.

Финишное полирование проводят на станках двухсторонней полировки по стандартной технологии.

В качестве полировального материала используют замшу синтетическую технического назначения "поливел", которую. наклеивают на полировальные диски с помощью шеллака. Диаметр полировальных дисков б20 мм, число оборотов дисков ЗЗ об/мин, количество одновременно обрабать3ваеи3х пластин на одном шпинделе 4 штуки. Давление на верхний полировальный диск 75 кг.

Время финишного полирования 20 мин.

Во время процесса полирования абразивная суспензия постоянно йодается на

Е0 полировальные дис ки ч е р е э отверстие в верхнем диске, После финишного полирования стеклянные пластины подвергают 15-ступенчатой отмывке с использованием ультразвука, высушивают в парах иэопропнло55 ного спирта и контролируют качество поверхности в коллимированном пучке света.

Затем пластины лопопнительно отмътва3от в 10.-cтупенчатой УЗ-линии отмывки и наносят маскирующий слой хрома нли окиси железа. Количество проко лов в маскированном слое и невьггравленных точек после стандартного процесса фотолитографии оценивают визуально и с помощью микроскопа 1 3ССО при 50" увеличении.

Результаты испытаний приведены в таблице.

При содержании сульфата цинка менее 0,005 мас.7. время осаждения рабо-чей фракции значительно возрастает и весь процесс приготовления суспензии заметно замедляется. Это приводит к тому, что иэ. суспензии осаждаются частицы разных размеров, что ведет к полидисперснссти гранулометрического состава.

При содержании сульфата цинка более 0„01 мас.I рабочая фракция суспензии обогащается частицаья размером менее 0,1 мкм, что приводит к ухудшению качества обрабатываемой поверхносTB

1„5

Пои времени отстаивания с частицы рабочей фракции (0,1-4 мкм) не успевают полностью осадиться,.а гранулометрический состав полученного осадка заметно ухудшается.

9 0

При вр смени отстаивания с вместе с рабочей фракцией и осадок попадает большое количество частиц ме" нее 0,1 мкм, наличие которых приводйт к возникновению дефектов в маскирующем слое.

Отделение частиц размером более

4 мки можно производить двумя способами: методом фильтрования через капроновый фильтр с размером ячейки мкм, если требуется приготовить абразивную суспенэию в небольпях коли-, чествах, или методом гидрокпассификацни полировального порошка в седиментаторе, если требуются большие количества абразивной сусненэии, Анализ полученнь3х результатов показал, что использование преплагаемого изобретения (см. примеры 1-5) по сравнению с прототипом (см. поимер

10„ 3 характеризуется следующими преимущества.ми .

Повышается качество п3лируемой поверхности (в среднем снижается коФормул а и эобр ет ения

Содержание 8«О мас Л

1 5-9 .

Ирене t « -a †- с

1 ефенты но««рова«ива «лести«, 2

Дефек" ты в нас««роваа««ом слое,K

Пример

Вввоц гоцнын

«асины растравы цара ныл ноны нросув ва а6» разина

1 0 005 t - - 1800

9 0

0,005

5 4 . 5 2 2 Ь 74

2 00075 t «- — — «700

5 25

0,0075

2 7 76

3 о 01 t-- — - 150

1 5

° О,OI

3 Ь 75

4 0 006

8 о

t " -- 1ЗЗО с - --,@ ззо

3 О

0,009

5 0,009

5 . 4

5 4

3 10 73

6 О 005. t « - - — «300

I 5

0,605

4 .1

7 Oiol с - « 900

0901

74! 9

6 4

8 О,0О1 t — - - 9OOO

9 О

О,oоl

7 3 с - 50

1 5

О .Оз

5 9 68

2 10 65

9 0,03

l0 0,001 t « - «10000

О,ОО I

t- -2О

О 6 о,оз l1 0,3 t2 По нро тоти«у

6 3

7 4

Составитель И. Гинзбург

Редактор Т.Пилипенко Техред М.дидык Корректор А.Обручар

Тираж 419 Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий

113035, Москва, Ж-35, Раушския наб,, д. 4/5

Заказ 2564

Производственно-полиграфическое предприятие, г. Ужгород, ул. Проектная, 4

3 14 209 личество пластин с растранами, натирами, присушкой, ласинами) .

Улучшается качество маскирующих слоев (снижается количество проколов, невытравленных точек), что увеличнва« э 5 ет процент выхода годных.

Способ получения суспенэии для полирования стеклянных пластин смешением порошка оксида церия (XV) с водой, отделением частиц размером бо33 лее4мкм,отличающийся тем, что, с целью улучшения качестна пЬверхности, в суспенэию после отделения частиц размером более 4 мкм вводят- сернокислый цинк в количестве

0,005-0,01 мас.X от массы отфильтрованной суспензии, отстаивают в тече5-9 0 ние времени t « - — - - где с — сос держание сернокислого цинка, мас.Х, сливают осветленную часть суспенэии. с последующим разведением осадка водой до. плотности 1,22 г/см .