Способ изготовления основы для кинофотоматериалов

Авторы патента:

Баблюк Е.Б.

Лепилин В.Я.

Константинов В.Н.

Суворин В.В.

Подлесных В.Н.

Маркин В.Н.

Куница В.П.

Кислицын В.К.

G03C1/91 - отличающиеся дополнительными слоями или дополнительными средствами

Способ изготовления основы для кинофотоматериалов путем двусторонней обработки полиэтилентерефталатной подложки коронным разрядом с частотой тока 10-40 кГц, ламинирования на обе стороны подложки полиэтилена высокого давления плотностью 0,91-0,98 и обработки коронным разрядом полученного полиэтиленового покрытия, отличающийся тем, что, с целью увеличении адгезии желатиновых фотографических слоев к основе, обработку коронным разрядом проводят при напряжении 16-20 кВ.

Способ изготовления желатинового подслоя для основы кинофотоматериалов // 1322856

Основа для кинофотоматериалов // 1181422

Композиция желатинового адгезионного подслоя для основы кинофотоматериалов // 1148488

Основа для кинофотоматериалов // 1115602

Композиция для изготовления адгезионного слоя галогенсеребряных фотоматериалов на стеклянной подложке // 1103703

Основа для кинофотоматериалов // 1102372

Основа для кинофотоматериалов // 1101028

Основа для кинофотоматериалов // 1047302

Переводное изображение // 1031334

Композиция для изготовления промежуточного слоя основы кинофотоматериалов // 2146383

Изобретение относится к новой композиции промежуточного слоя для основы кинофотоматериалов, предназначенных для воздушной и космической съемки и может быть использовано в химико-фотографической промышленности

Композиция защитного слоя для бромйодсеребряного фотографического материала // 2050568

Композиция адгезионного подслоя для диазотипного материала // 1468244

Композиция адгезионного подслоя для диазотипного материала // 1473565