Способ изготовления высокочастотного отражающего призменного блока

 

Изобретение относится к оптическому приборостроению, в частности к технологии изготовления высокоточных отражающих призменных блоков, обеспечивающих работу в режиме световозвращателя в широком температурном диапазоне термостабйльности и при высокой прочности при вибровоздействиях. На первом этапе способа из алюмолитиевого ситалла изготавливают путем шлифования и полирования составные элементы блока в виде двух идентичных правильных усеченных монолитных пирамид с угломпри большем основании, равным 45. Первую пирамиду 1 .устанавливают большим основанием на базовую технологическую пластину 2 из стекла с напыленным на основе алюминия отражающим слоем 3. На меньшее основание пирамиды 1 устанавливают меньшим основанием вторую пирамиду 4 с напыленным на плоскости меньшего основания и боковьк гранях отражающим слоем 5 на основе алюминия. Затем взаимно ориентируют пирамиды 1 и 4 путем совмещения блика 6 от рабочей грани пирамиды 1 и зеркально отраженного от базовой пластины 2 блика 7 от рабочей грани пирамиды 4. Все элементы фиксируют относительно друг друга, нагревают до 300 - 400 С, прикладывают отрицательный электрический потенциал 300 - 600 В к отражающему слою 3 пластины 2 и положительный потенциал к пирамиде 4, выдерживают их при этом режиме в течение 10-30 мин, а после остывания контролируют взаимное положение граней пирамид 1,4 по совпадению бликов совмещаемых при ориентации пирамид и снимают их с пластины 2. 1 ил. ю (Л . Од

СОЮЗ СОВЕТСНИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСНИХ

РЕСПУБЛИК

11 А1 (19) (111 (5p 4 G 02 В 5/04

ГОСУДАРСТ8ЕННЫЙ КОМИТЕТ

llO ИЗОБРЕТЕНИЯМ И ОТКРЫТИЯМ

ПРИ ГКНТ СССР

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

Н АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ (21) 4282742/24-10 (22) 13.07.87 (46) 07.03.89. Бюп. У 9 (72) В.П.Маслов, 10.В. Галанин, Е.А.Портнова, В.А.Варенцов, В.В.Вовк и М. К. Босый (53) 535.315 (088.8) (56) Справочник технолога-оптика./Под общ. ред, С.М.Кузнецова и др. — Л.:

Машиностроение, 1983, с.362-363..

Авторское свидетельство СССР

В 1282034, кл. G 02 В 5/04, 02,09,85. (54) СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ВЫСОКОТОЧНОГО ОТРАЖАИШЕГО ПРИЗМЕННОГО БЛОКА (57) Изобретение относится к оптическому приборостроению, в частности к технологии изготовления высокоточных отражающих призменных блоков, обеспечивающих работу в режиме световозвращателя в широком температурном диапазоне термостабильности и при высокой прочности при вибровоздействиях. На первом этапе способа из алюмолитиевого ситалла изготавливают путем шлифования и полирования составные элементы блока в виде двух идентичных правильных усеченных монолитных пи. рамид с углом- при большем основании, о равным 45, Первую пирамиду 1 устанавливают большим основанием на базовую технологическую пластину 2 из стекла с напыленным на основе алюминия отражающим слоем 3. На меньшее основание пирамиды 1 устанавливают меньшим основанием вторую пирамиду 4 с напыленным на плоскости меньшего основания и боковых гранях отражающим слоем 5 на основе алюминия. Затем взаимно ориентируют пирамиды 1 и 4 путем совмещения блика 6 от рабочей грани пирамиды 1 и зеркально отраженного от базовой пластины 2 блика 7 от рабочей грани пирамиды 4.

Все элементы фиксируют относительно о друг друга, нагревают до 300 — 400 С прикладывают отрицательный электрический потенциал 300 — 600 В к отражающему слою 3 пластины 2 и положительный потенциал к пирамиде 4, выдерживают их при этом режиме в течение 10 — 30 мин, а после остывания контролируют взаимное положение граней пирамид 1,4 по совпадению бликов совмещаемых при ориентации пирамид и снимают их с пластины 2. 1 ил.

1464116

Изобретение относится к оптическому приборостроению, в частности к технологии изготовления высокоточных призменных блоков из оптических мате5 риалов, и может бьггь использовано на предприятиях оптико-механиче ской и электронной промышленности.

Цель изобретения — расширение температурного диапазона термостабильности и повышение прочности при вибровоздействиях при обеспечении работы блока в режиме световозвращателя.

На чертеже представлена схема реализации предлагаемого способа.

Способ осуществляют следующим образом.

На первом этапе из алюмолитиевого ситалла изготавливают путем шлифования и полирования составные элементы блока в виде двух идентичных правильных усеченных монолитных пирамид с о углом 45 при большем основании. Первую пирамиду 1 устанавливают большим основанием на базовую технологическую 25 пластину 2 из стекла с напыпенным на основе алюминия отражакицим слоем 3.

На меньшее основание пирамиды 1 -устанавливают меньшим основанием вторую пирамиду 4 с напыленным на плоскости меньшего основания и боковых гранях отражающим слоем 5 на основе алюминия. Затем взаимно ориентируют пирамиды 1 и 4 путем совмещения блика 6 от рабочей грани пирамиды 1 и зеркально отраженного от базовой пласти35 ны 2 блика 7 от рабочей грани второй пирамиды 4. Все элементы фиксируют относительно друг друга, нагревают до 300 — 400 С, прикладывают отрица40 тельный электрический потенциал 300600 В к отражающему слою 3 базовой пластины 2 и положительный потенциал к второй пирамиде 4, выдерживают их при этом режиме в течечие 10 - 30 мин, а после остывания контролируют взаимное положение граней пирамид 1 и 4 по совпадению бликов, совмещаемых при ориентации пирамид,, и снимают их с базовой пластины 2„

Пример. Составные элементы зеркального многогранника: базовую технологическую пластину 2 из стекла

К8 диаметром 180 мм и усеченные многогранные пирамиды 1 и 4 диаметром

140 мм с центральным отверстием диаметром 80 мм из ситалла СО 115 И,шлифуют,,полируют и наносят технологичес/ кие вакуумные покрытия 3 и 5 на основе алюминия на базовую пластину 2 и на плоскость соединения и рабочие отражающие грани одной из усеченных пирамид 4. Затем на металлическую пластину 8 со штырем 9 устанавливают базовую пластину 2 отражающим слоем 3 вверх, на нее накладывают усеченную пирамиду 1 меньшим основанием вверх, -сверху накладывают усеченную пирамиду 4 отражающим покрьггием 5 вниз

1 так, что образовываются двугранные углы. Далее взаимно ориентируют положение усеченных пирамид путем совмещения блика 6 от рабочей грани пирамиды 1 и зеркально отраженного от базовой пластины 2 блика 7 от рабочей грани второй пираты 4. Элементы сборки фиксируют в приспособлении с помощью гайки 10, навинченной на штырь

9 с резьбой, нагревают сборку до

300 — 400 С и подвергают воздействию электрического полн напряжением 300600 В следующим образом. ОтрицательФ ный электрический потенциал прикладывают к отражающему слою 3 базовой пластины 2, а положительный — к верхней пирамиде 4 через фольгу 11. Выдерживают сборку под напряжением в течение 10 — 30 мин, а после остывания замеряют взаимное положение граней аналогично первичной ориентации пирамид. Точность взаимного ориентирования контролируют с помощью автоколлиматора 12, оптическая ось которого перпендикулярна отражающей грани -нижней пирамиды 1. Готовые сборки подвергают термоциклированию при о .+60 С и длительному прогреву в течение 200 ч при 90, 200 и 400 С с замером точностных параметров призм.

Ф о р м у л а изобретения

Способ изготовления высокоточного отражающего призменного блока; включающий шлифование и полирование его составных элементов, их взаимную ориентацию и соединение в ориентированном положении, о т л и ч а ю щ и йс я тем, что, с целью расширения диапазона термостабильности и повышения прочности при вибровоздействияХ

При обеспечении работы блока в режиме световозвращателя, составные элементы блока изготавливают из алюмолитиевого ситалла в виде двух идентичных правильных усеченных монолито ных пирамид с углом 45 при большем

Составитель В. Кравченко

Техред Л.Сердюкова

Ъ

Корректор Л.Пилипенко

Редактор И.Дербак

Заказ 820/49 Тираж 514 Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета по изобретениям и открытиям при ГКНТ СССР

113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5

Производственно-издательский комбинат "Патент", г.ужгород, ул. Гагарина,101

146411 основании, первую пирамиду устанавливают большим основанием на базовую технологическую пластину из стекла с напыленным на основе алюминия отражающим слоем, на меньшее основание

5 ,первой пирамиды устанавливают меньшим основанием вторую пирамиду с напыленным на плоскости меньшего основания и боковых гранях отражающим слоем на основе алюминия, взаимную ориентацию пирамид осуществляют путем совмещения блика от рабочей грани первой пирамиды и зеркально отраженного от. базовой пластины блика от ра- ig

4 бочей грани второй пирамиды, все элементы фиксируют относительно друг друга, нагревают до 300 - 400 С, прикладывают отрицательный электрический потенциал 300 — 600 В к отражающему слою базовой пластины и положительный потенциал к второй пирамиде, выдерживают их при этом режиме в течение

10 — 30 мин, а после остывания контролируют взаимное положение граней пирамид по совпадению бликов, совмешаемых при ориентации пирамид, и снимают их с базовой пластины.