Устройство для локального облучения

 

Изобретение относится к оптическому приборостроении, а именно к концентраторам лучистой энергии, и может быть использовано в качестве источника нагрева в технологии пайки и сварки. Целью изобретения является увеличение уровня концентрации энергии . Свет от тороидального источника лучистой энергии 1 отражается эллиптической поверхностью отражателя 2, образованной вращением эллипса вокруг оси Y, проходящей через фокус эллипса О, и центр источника лучистой энергии 1, концентрируется во втором фокусе эллипса Oj. Тороидальная поверхность АВ расположена соосно источнику лучистой энергии 1 и служит для увеличения угла охвата источника. 1 ил. (Л м

СООЗ СОВЕТСНИХ

РЕСПУБЛИК

ИЮ 00 цр4 С 02 В 5/10

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМ,Ф СВИДЕТЕЛЬСТВУ

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ

ГЮ ИЗОБРЕТЕНИЯМ И ОТКРЫТИЯМ

flPH ГКНТ СССР (21) 4243977/24-10 (22) 16.03. 87 (46) 07.03.89. Бюл. У 9 (72) A.Ì.Губарь и А.Л.Машонкин (53) 535.872 (088.8) (56) Авторское свидетельство СССР

У 1081605, кл. С 02 В 5/10, 1984. (54) УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЛОКАЛЪНОГО ОБЛУЧЕНИЯ (57) Изобретение относится к оптическому приборостроению, а именно к концентраторам лучистой энергии, и может быть использовано в качестве источника нагрева в технологии пайки и сварки, Целью изобретения является увеличение уровня концентрации энергии. Свет от торондального источника лучистой энергии 1 отражается эллиптической поверхностью отражателя 2, образованной вращением эллипса вокруг оси 7, проходящей через фокус эллипса О, и центр источника лучистой энергии 1, концентрируется во втором фокусе эллипса О . Тороидальная поверхность АВ расположена соосно источнику лучистой энергии 1 и служит для увеличения угла охвата источника. 1 ил.

1464117

3 г (Хсо st-Ys хпос-с) (X s inoL+Yco s<) аг аЯ с в

40 гдеХиУ2а координаты; большая ось эллипса, отрезок AD. расстояние между фокусами, отрезок 0,0

45 угол поворота эллипса в системе координат.

Внутренний профиль отражателя имеет вид полуокружности АВ, центр. которой совмещен с центром излучения в точке О, сопрягается с внешним профилем отражателя в общей точке А и ограничен с двух сторон большой осью эллипса AD профиля внешней по- . 5 верхности. Внутренняя поверхность образуется путем вращения полуокруж.ности вокруг общей с тороидальным источником оси — координаты Y и обраИзобретение относится к оптическому приборостроению, а именно к концентраторам лучистой энергии, и может быть использовано в качестве источника нагрева в технологии пайки и сварки.

Цель изобретения - увеличение уровня концентрации энергии.

На чертеже представлена кривая, формирующая профиль отражателя и излучатель.

Устройство для локального облучения содержит протяженный тороидальный источник 1 с центром излучения в точке 0 и концентрирующий отражатель 2. Профиль отражателя разбит на внешний АС и внутрдцний АВ участки. Внешний профиль отражателя имеет вид элемента эллипса, один из фокусов 20 которого совмещен с центром излучения в точке О,, а другой фокус, точка Ог, лежит на оси тора — координатная ось Y.

Большая ось эллипса AD повернута 25 относительно координат X,Y ° на угол

М.

Внешняя поверхность отражателя образуется путем вращения эллипса вокруг оси тороидального источника излучения — координата Y. Падающие от источника излучения лучи фокусируются внешней поверхностью в центре зоны облучения — точка 0 . Профиль внешней поверхности отражателя в выбранной системе координат характери35 зуется следуюшим выражением: зует тороицальную поверхность. Падающие от источника излучения лучи переотражаются от внутренней поверхности отражателя на внешнюю поверхность с последующей концентрацией в центре зоны облучения - точка О, т.е. поверхность выполняет функцию контротражателя.

Профиль внутренней поверхности отражателя в выбранной системе координат характеризуется следующим выражением: г г (Xco s oL-Y since-2 с) + (Х з1пк+Усо Ы) г

=(а-с)

Тороидальный источник излучения сформирован из набора малогабаритных галогенных ламп при соответствующем расположении накальных спиралей. Увеличение расстояния от центра источника излучения. до центра зоны облучения в 5 раз в реальной конструкции не снижает уровня облучения при равной мощности источника в предлагаемом устройстве по сравнению с известным. Кроме галогенных ламп в качестве тороидального источника излучения могут быть использованы любые другие как в виде набора, так и единичные изделия, например в виде кольцевой

/ импульсной лампы.

Устройство работает следующим образом.

Лу .истая энергия от протяженного источника 1 фокусируется отражателем

2 в фокусе Ог, в котором создается необходимая температура нагрева.

Формула изобретения

Устройство для локального облучения, содержащее протяженный источник излучения и концентрирующий отражатель с эллиптической поверхностью, в первом фокусе которой расположен центр источника излучения, а во втором — центр зоны облучения, о т л ич а ю щ е е с я тем, что, с целью увеличения уровня концентрации энергии, источник излучения выполнен в виде тора, а концентрирующий отражатель — в виде тела вращения, внешняя поверхность которого образована вращением эллипса вокруг оси, проходящей через второй фокус эллипса и центр торца, первый фокус эллипса лежит на оси торца, а внутренняя поверхность

Составитель А.Назаров

Техред JI.Сердюкова Корректор М.Васильева !

Редактор И.Дербак

Заказ 820/49

Тираж 514 Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета по изобретениям н открытиям при ГКНТ СССР

113035, Москва, К-35, Раушская наб., д. 4/5

Производственно-издательский комбинат "Патент", г.ужгород, ул. Гагарина, 101

14641 концентрируещего отражателя образована введенной тороидальной поверхностью, расположенной соосно с источником излучения, образующий радиус которого равен фокальному радиусу эл17

4 липса в месте сопряжения внешней и внутренней отражающих поверхностей, и ограничена окружностью, образующейся пересечением большой оси эллипса с тороидальной поверхностью.

Устройство для локального облучения Устройство для локального облучения Устройство для локального облучения 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к гелиотехнике и позволяет повысить КПД коллектора путем снижения потерь от теплового излучения приемника

Изобретение относится к оптическому приборостроению, может быть использовано в приемных и резонаторных устройствах для концентрации электромагнитного излучения

Изобретение относится к устройствам коррекции волнового фронта и может быть использовано в оптических квантовых генераторах в качестве отражающего зеркала для управления волновым фронтом излучения

Изобретение относится к оптике, а именно к приборам и системам для юстировки элементов оптических схем, Устройство включает корпус 4, в котором размещены подлежащие юстировке оптические элементы 1-3

Изобретение относится к оптике и позволяет повысить стабильность коэффициента концентрации путем компенсации температурных воздействий

Изобретение относится к оптическому приборостроению, может быть использовано в качестве управляемого зеркала резонатора лазера, прожекторной установки, телескопа, позволяет увеличить быстродействие и уменьшить габариты зеркала

Изобретение относится к оптическому приборостроению и позволяет уменьшить габариты и вес устр-ва, а также упростить регулировку его фокусного расстояния

Изобретение относится к оптическому приборостроению и использовано в квантовой электронике в качестве управляемого зеркала резонатора лазера

Изобретение относится к оптическим системам локации и представляет собой оптический отражатель /ретроотражатель/, предназначенный для локации объектов при поисковых, спасательских, геодезических и других подобных работах

Изобретение относится к оптическому машиностроению, в частности к активной оптике

Изобретение относится к системам управления и может быть использовано для управления деформациями поверхностей большой площади и сложной формы, а также к адаптивной оптике для управления отражающей поверхностью адаптивных зеркал

Изобретение относится к детским игрушкам и может быть использовано в развлекательных целях

Изобретение относится к производству вогнутых зеркал большого размера

Изобретение относится к оптическому приборостроению и гелиотехнике, а именно к оптическим зеркалам составной конструкции, характеризующимся повышенной жесткостью, термостойкостью и термостабильностью, и может быть использовано при изготовлении концентраторов солнечного излучения
Наверх