Устройство для контроля толщины пленок в процессе нанесения

 

Изобретение относится к измерительной технике. Цель изобретения - повьпиение производительности и точности контроля пленок сублимируемых вакуумных резистов за счет исключения неконтролируемых периодов времени, необходимых для перемещения свидетеля, и исключения систематических ошибок, возникающих за счет неконтролируемого роста пленки резиста под диафрагмой. Излучение от/ источника 1 света направляется на 1 свидетель 2. Отраженное от свидетеля 2 излучение направляется на фотоприемник 3 и преобразуется в электрический сигнал, который поступает на блок 4 регистрации интерференционных экстремумов. При достижении пленкой толщины, равной заданному значению, блоком 4 регистрации выдаются одновременно сигнал разрешения нагрева на управляющий вход блока 5 импульсного нагрева и сигнал на смену подложек. С блока 5 импульсного нагрева вьщается импульс тока, разогревающий нагревательный элемент 6. Свидетель 2, находящийся в контакте .с нагревательным элементом 6, нагревается до температуры сублимации нанесенной пленки резиста и охлаждаетл ся. Вследствие нагрева пленка резнета со свидетеля 2 испаряется и пол- Си ностью удаляется, возвращая тем самым свидетель 2 к исходному состоянию . 1 иЛ. с в / 2 4 О) -4 оэ 00

СОЮЗ СОВЕТСНИХ социАлистичесних

PECflVS JIHH (51)4 G 0) В ))/06

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

К А ВТОРСНОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

ГОСУДАРСТ8ЕННЫЙ КОМИТЕТ

ПО ИЗОБРЕТЕНИЯМ И ОТКРЫТИЯМ

APH fHHT ССОР (2) ) 4084953/25-28 (22) 01.07.86 (46) 23. 03. 89. Бюл. М ) ) (72) А.С.Акашкин, В,M,Ветошкин и В.А,Приходько (53) 53).715.27(088.8) (56) Авторское свидетельство СССР

11 1099098, кл. С 01 В ).)/06, 1984. (54) УСТРОЙСТВО ДЛЯ КОНТРОЛЯ ТОЛЩИНЫ ПЛЕНОК В ПРОЦЕССЕ НАНЕСЕНИЯ (57) Изобретение относится к измерительной технике. Цель изобретения — повышение производительности и точности контроля пленок сублимируемых вакуумных резистов эа счет исключения неконтролируемых периодов времени, необходимых для перемещения свидетеля, и исключения систематических ошибок, возникающих за счет неконтролируемого роста пленки резиста под диафрагмой. Излучение от.. источника 1 света направляется на

ÄÄSUÄÄ 467387 А1 свидетель 2. Отраженное от свидетеля 2 излучение направляется на фотоприемник 3 и преобразуется в электрический сигнал, который поступает на блок 4 регистрации интерференционных экстремумов. При достижении пленкой толщины, равной заданному значению, блоком 4 регистрации выдаются одновременно сигнал разрешения нагрева на управляющий вход блока 5 импульсного нагрева и сигнал на смену подложек, С блока 5 импульсного нагрева выдается импульс токе, раэогревающий нагревательный элемент 6.

Свидетель 2, находящийся в контакте .с нагревательным элементом 6, нагревается до температуры сублимации нанесенной пленки резиста и охлаждается, Вследствие нагрева пленка резиста со свидетеля 2 испаряется и полностью удаляется, возвращая тем са-. мым свидетель 2 к исходному состоянию. 1 ил, 1467387

Изобретение относится к измерительной технике и может быть использовано в микроэлектронике для контроля толщины пленок, преимущественно сублимируемых вакуумных резистов, в процессе их нанесения в непрерывном вакуумном цикле.

Цель изобретения — повышение производительности и точности контроля пленок сублимируемых вакуумных реI зистов эа счет исключения неконтролируемых периодов времени, необходимых для перемещения свидетеля, а также исключения систематических ошибок, возникающих за счет неконтролируемого роста пленки резиста под диафрагмой.

На чертеже изображена принципиальная схема устройства для контроля толщины пленок в процессе нанесения.

Устройство содержит источник 1 света, например гелий-неоновый лазер, свидетель 2, фотоприемник 3 регистрации отраженного от свидетеля 2 излучения, регистрирующий блок 4 интерференционных экстремумов, блок 5 импульсного нагрева, нагревательный элемент 6, На свидетель 2 одновременно с подложками напыляется пленка вакуумного резиста 7.

Устройство работает следующим образом.

Излучение от источника 1 света направляется на свидетель 2. Отраженное от свидетеля 2 излучение направляется на фотоприемник 3 и преобразуется в электрический сигнал, который поступает на блок 4 регистрации интерференционных экстремумов. При достижении пленкой толщины, равной заданному значению, блоком 4 регистрации выдаются одновременно сигнал разрешения нагрева на управляющий вход блока 5 импульсного нагрева и сигнал на сиену подложки, С блока 5 импульсного нагрева выдается импульс тока, раэогревающнй нагревательный элемент 6. Свидетель 2, находящийся в контакте с нагревательным элементом 6,нагревается до температуры сублимации нанесенной пленки резиста 7 и охлаждается вследствие нагрева пленки реэиста со свидетеля 2, испаряется и полностью удаляется, возвращая тем самым свидетель 2 к исходному состоянию, Нагрев импуль5 сами тока 5-10 А обеспечивает удаление резиста 7 со свидетеля 2 в течение 20-30 с так как температура их о сублимации не превышает 100-150 С.

После нагрева свидетель 2 охлаждается к началу нового цикла напыления, С целью снижения инерционности теплоемкости нагревательного элемента 6 он может быть выполнен в виде тонкой металлической пленки с удель-!

5 ным поверхностным сопротивлением 101000 м/а, нанесенной на свидетель 2 из диэлектрической подложки. В качестве такой пленки могут быть использованы проводниковые структуры

2О V-А1, V-Cu-Ni нихром, а также прозрачно-проводящие пленки окислов индия-олова.

В случае, когда направление излучения непосредственно от источника 1 на свидетель 2 связано с техническими трудностями, устройство может быть дополнено волоконно-оптическим световодом (не показан), связывающим uc".«î÷íèê 1 излучения со свидетелем 2

ЗО Кроме того, в качестве свидетеля 2 в таком варианте устройства может быть использован выходной торец световода и там же сформирован нагревательный элемент в виде прозрачной прово35 дящей пленки окислов индия-олова, Формула изобретения

Устройство для контроля толщины пленок в процессе нанесения, содержащее свидетель, предназначенный для нанесения на него пленок, источник света для направления излучения на свидетель, фотоприемник и регистрирующий блок, о т л и ч а ю щ е е с я тем, что, с целью повышения производительности и точности контроля пленок сублимируемых вакуумных резистов, оно снабжено нагревательным элемен50 том, контактирующим со свидетелем, и блоком импульсного нагрева, вход которого соединен с выходом регистрирующего блока, а выход — с нагревательным элементом.

Устройство для контроля толщины пленок в процессе нанесения Устройство для контроля толщины пленок в процессе нанесения 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к измерительной технике и предназначено для определения толщины и качества нанесения анодированного слоя на алюминиевую ленту

Изобретение относится к измери тельной технике и может быть использовано для контроля количества резины на валках каландра

Изобретение относится к испытательной технике и позволяет проводить контроль и отбраковку ситалловых элементов, прошедших гидролитическую обработку перед соединением их путем оптического контакта

Изобретение относится к измерительной технике и может быть использовано при измерении толщин движущихся пластин

Изобретение относится к измерительной технике и предназначено для измерения толщин пленок

Изобретение относится к контрольно-измерительной технике и может быть использовано для контрол я однородности толщины диэлектрических пленок в процессе их нанесения на прозрачные подложки

Изобретение относится к измерительной технике и предназначено для контроля толщин пленок, наносимых в процессе напыления через сетки

Изобретение относится к измерите.чьной технике и предназначено для контроля толщин интерференционно-ноляризаиионных фильтров

Изобретение относится к измерительной технике и 1иожет быть использовано для определения разнотолщинности фоторезистивных пленок, нанесенных на отражающие полупроводниковые подложки

Изобретение относится к измерительной технике и может использоваться для контроля толщин оптических покрытий

Изобретение относится к измерительной технике и может быть использовано для бесконтактного измерения толщины и показателя преломления прозрачных слоев

Изобретение относится к измерительной технике и может быть использовано для бесконтактного автоматического измерения толщины прозрачных материалов, например листового стекла, в непрерывном производственном процессе

Изобретение относится к измерительной технике, а именно к оптическим интерферометрам, и может быть использовано для непрерывного бесконтактного измерения геометрической толщины прозрачных и непрозрачных объектов, например листовых материалов (металлопроката, полимерных пленок), деталей сложной формы из мягких материалов, не допускающих контактных измерений (например, поршневых вкладышей для двигателей внутреннего сгорания), эталонных пластин и подложек в оптической и полупроводниковой промышленности и т.д

Изобретение относится к оптическим способам измерения толщин слоев прозрачных жидкостей и может быть использован для бесконтактного определения толщин слоев прозрачных жидкостей в лакокрасочной, химической и электронной промышленности, а также в физических и химических приборах

Изобретение относится к измерительной технике, а именно к интерференционным способам измерения оптической толщины плоскопараллельных объектов и слоев

Изобретение относится к контрольно-измерительной технике и может быть использовано в черной и цветной металлургии для измерения толщины проката в условиях горячего производства без остановки технологического процесса

Изобретение относится к контрольно-измерительной технике и предназначено для неразрушающего контроля толщины пленок, в частности в устройствах для измерения и контроля толщины пленок фоторезиста, наносимых на вращающуюся полупроводниковую подложку в процессе центрифугирования в операциях фотолитографии

Изобретение относится к контрольно-измерительной технике и предназначено для неразрушающего контроля толщины и измерения разнотолщинности пленок, в частности в устройствах для нанесения фоторезиста в операциях фотолитографии

Изобретение относится к оптическим способам измерения толщины слоя прозрачной жидкости
Наверх