Композиция для изготовления светочувствительного слоя везикулярного материала

Авторы патента:

G03C1/52 - составы, содержащие диазосоединения в качестве светочувствительных веществ (G03C 1/64 имеет преимущество)

Изобретение относится к химико-фотографическим материалам, в частности к композиции для изготовления везикулярных материалов, которые могут быть использованы для получения копий микрофильмов. Цель - упрощение технологии изготовления композиции. Композиция содержит, мас.%: сополимер винилиденхлорида, акрилонитрила и метилметакрилата или смесь сополимера винилиденхлорида и акрилонитрила с полиметакрилатом (массовое отношение 4 : 1) 15,94 - 16,65; 4-диазо-N, N-диэтиланилинборфторид или 4-диазо-2,5-диэтоксифенилморфолинборфторид 1,53 - 1,67; ацетон 66,7 - 73,2 и этилцеллозольв или метилцеллозольв до 100. Этот состав позволяет сократить время изготовления композиции на 168 ч и исключить из композиции токсичный растворитель. 1 табл.

Изобретение относится к химико-фотографической промышленности, а именно к композиции для изготовления светочувствительного слоя для везикулярного материала, который может быть использован для получений копий микрофильмов (микрофиш). Цель изобретения - упрощение технологии изготовления композиции. Пример 1 (по прототипу). 12,85 мас.% сополимера винилиденхлорида с акрилонитрилом (ВДАН-80ЕВ) и 3,23 мас.% полиметилметракрилата (ПММА) растворяют в 66,13 мас.% метилэтилкетона. Отдельно готовят раствор (1,62 мас.%) 4-диазодиэтиланилинхлорцинката в 16,17 мас.% ацетонитрила. После полного растворения полимеров в диазосоли растворы фильтруют и сливают. Полученный раствор продолжают перемешивать для растворения высадившихся полимеров. Раствор фильтруют и выдерживают в отстойнике 168 ч для полного осветления. Полученную композицию наносят методом полива на ПЭТФ-основу, высушивают. Толщина сухого слоя 15 - 17 мкм. Пленку экспонируют под оригиналом УФ-лучами и проявляют при 100^oС. Результаты испытаний пленок приведены в таблице. Пример 2 (сравнительный). 22,00 мас.% сополимера винилиденхлорида, акрилонитрила и метилметакрилата растворяют в 58,58 мас.% метилэтилкетона. Отдельно готовят раствор 2,20 мас.% 4-диазодиэтиланилинхлорцинката в 17,22 мас. % ацетонитрила. После полного растворения растворы фильтруют и смешивают. Далее все операции, проводят, как в примере 1. Результаты испытаний пленок приведены в таблице. Пример 3 (сравнительный). 21,87 мас.% сополимера винилиденхлорида, акрилонитрила и метилметакрилата растворяют в 58,62 мас.% метилэтилкетона. Отдельно готовят раствор 2,19 мас.% 4-диазодиэтиланилинхлорцинката в 17,32 мас. % метанола. После полного растворения фильтруют и смешивают. Далее все операции проводят, как в примере 1. Результаты испытаний пленок приведены в таблице. Пример 4. В смеси 73,20 мас.% ацетона и 8,62 мас.% этилцеллозольва растворяют 13,25 мас. % ВДАН-80ЕВ, 3,33 мас.% ПММА и 1,6 г 4-диазодиэтиланилинборфторида. Полученный раствор фильтруют, наносят методом полива на ПЭТФ-основу и высушивают. Пленку экспонируют под оригиналом УФ-светом и проявляют при 100^oС. Результаты испытаний пленок приведены в таблице. Пример 5. В смеси 73,08 мас. % ацетона и 8,60 мас.% этилцеллозольва растворяют 16,65 мас.% сополимера винилиденхлорида, акрилонитрила и метилметакрилата (ВДАН-ММА-60ЕВ) и 1,67 мас.% 4-диазодиэтиланилинборфторида. Далее все операции проводят, как в примере 4. Результаты испытаний пленок приведены в таблице. Пример 6. В смеси 71,76 мас.% ацетона и 10,77 мас.% этилцеллозольва растворяют 12,74 мас.% ВДАН-80ЕВ, 3,20 мас.% ПММА и 1,53 мас.% 4-диазодиэтиланилинборфторида. Далее все операции проводят, как в примере 4. Результаты испытаний пленок приведены в таблице. Пример 7. В смеси 71,65 мас.% ацетона и 10,75 мас.% этилцеллозольва растворяют 16,00 мас.% ВДАН-ММА-60ЕВ и 1,60 мас.% 4-диазодиэтиланилинборфторида. Далее все операции проводят, как в примере 3. Результаты испытаний приведены в таблице. Пример 8. В смеси 71,35 мас.% ацетона и 11,10 мас.% метилцеллозольва растворяют 15,95 мас.% ВДАН-ММА-60ЕВ и 1,60 мас.% 4-диазодиэтиланилинборфторида. Далее все операции проводят, как в примере 4. Результаты испытаний приведены в таблице. Пример 9. В смеси 66,80 мас.% ацетона и 15,73 мас.% этилцеллозольва растворяют 12,74 мас.% ВДАН-80ЕВ, 3,20 мас.% ПММА и 1,53 мас.% 4-диазодиэтиланилинборфторида. Далее все операции проводят, как в примере 4. Результаты испытаний пленок приведены в таблице. Пример 10. В смеси 66,70 мас.% ацетона и 15,70 мас.% этилцеллозольва растворяют 16,00 мас.% ВДАН-ММА-60ЕВ и 1,60 мас.% 4-диазодиэтиланилинборфторида. Далее все операции проводят, как в примере 4. Результаты испытаний пленок приведены в таблице. Пример 11. В смеси 73,20 мас.% ацетона и 8,62 мас.% этилцеллозольва растворяют 13,25 мас. % ВДАН, 3,33 мас.% ПММА и 1,60 мас.% 4-диазо-2,5-диэтоксифенилморфолинборфторида. Далее все операции проводят, как в примере 4. Результаты испытаний пленок приведены в таблице. Пример 12. В смеси 73,08 мас.% ацетона и 8,60 мас.% этилцеллозольва растворяют 16,65 мас. % ВДАН-ММА-60ЕВ и 1,67 мас.% 4-диазо-2,5-диэтилоксифенилморфолинборфторида. Далее все операции проводят, как в примере 4. Результаты испытаний пленок приведены в таблице. Пример 13. В смеси 71,76 мас.% ацетона и 10,77 мас.% этилцеллозольва растворяют 12,74 мас.% ВДАН-80, 3,20 мас.% ПММА и 1,53 мас.% 4-диазо-2,5-диэтоксифенилморфолинборфторида. Далее все операции проводят, как в примере 4. Результаты испытаний пленок приведены в таблице. Пример 14. В смеси 71,65 мас.% ацетона и 10,75 мас.% этилцеллозольва растворяют 16,00 мас. % ВДАН-80ЕВ и 1,60 мас.% 4-диазо-2,5-диэтоксифенилморфолинборфторида. Далее поступают, как в примере 4. Результаты испытаний пленок приведены в таблице. Пример 15. В смеси 71,35 мас.% ацетона и 11,10 мас.% метилцеллозольва растворяют 15,95 мас. % ВДАН-ММА-60ЕВ и 1,60 мас.% 4-диазо-2,5-диэтоксифенилморфолинборфторида. Далее поступают, как в примере 4. Результаты испытаний приведены в таблице. Пример 16. В смеси 66,80 мас.% ацетона и 15,73 мас.% этилцеллозольва растворяют 12,74 мас.% ВДАН-80ЕВ, 3,20 мас.% ПММА и 1,53 мас.% 4-диазо-2,5-диэтоксифенилморфолинборфторида. Далее поступают, как в примере 4. Результаты испытаний приведены в таблице. Пример 17. В смеси 66,70 мас.% ацетона и 15,70 мас.% этилцеллозольва растворяют 16,00 мас. %. ВДАН-ММА-60ЕВ и 1,60 мас.% 4-диазо-2,5-диэтоксифенилморфолинборфторида. Далее все операции проводят, как в примере 4. Результаты испытаний пленок приведены в таблице. В композиции везикулярного материала используют следующие полимеры: сополимер винилиденхлорида с акрилонитрилом (ВДАН-80ЕВ) с характеристической вязкостью 0,5 - 0,8 мл/100 г; сополимер винилиденхлорида, акрилонитрила и метилметакрилата (ВДАН-ММА-60ЕВ) с характеристической вязкостью 0,5 - 0,9 мл/100 г; полиметилметакрилат (ПММА) с характеристической вязкостью 2,6 - 4,5 мл/100 г. Как следует из представленных в таблице данных, предлагаемая композиция позволяет получать везикулярные материалы с хорошими фотографическими характеристиками, однако технология приготовления поливных растворов значительно упрощена, поливной раствор не выстаивается 7 сут. Кроме того, из композиции поливного раствора исключен токсичный азотсодержащий растворитель, ацетонитрил, что упрощает утилизацию отходов.

Формула изобретения

Композиция для изготовления светочувствительного слоя везикулярного материала, включающая сополимер винилиденхлорида, акрилонитрила и метилметакрилата или смесь сополимера винилиденхлорида и акрилонитрила с полиметилметакрилатом в соотношении 4 : 1, диазосоль и растворитель, отличающаяся тем, что, с целью упрощения технологии изготовления композиции, в качестве диазосоли она содержит 4-диазо-N,N-диэтиланилинборфторид или 4-диазо-2,5-диэтоксифенилморфолинборфторид, а в качестве растворителей - смесь ацетона и этилцеллозольва или метилцеллозольва при следующем соотношении компонентов, мас.%: Сополимер винилиденхлорида, акрилонитрила и метилметакрилата или смесь сополимера винилиденхлорида и акрилонитрила с полиметакрилатом в массовом соотношении 4 : 1 - 15,94 - 16, 65 4-Диазо-N, N-диэтиланилинборфторид или 4-диазо-2,5-диэтоксифенилморфолинборфторид - 1,53 - 1,67 Ацетон - 66,70 - 73,20 Этилцеллозольв или метилцеллозольв - Остальноел

РИСУНКИ

Рисунок 1, Рисунок 2, Рисунок 3

Диазотипный материал // 1512362

Композиция адгезионного подслоя для диазотипного материала // 1473565

Композиция адгезионного подслоя для диазотипного материала // 1468244

Композиция светочувствительного слоя для диазотипного материала // 1468243

Композиция для изготовления светочувствительного слоя диазотипного материала // 1455903

Копировальный материал // 1423430

Изобретение относится к области производства диазотипных копировальных материалов и позволяет улучшить качество материала для повьшения оптической плотности изображения

Позитивный фоторезист // 1364051

Изобретение относится к позитивным фоторезистам на основе о-нафтохинондиазидов, применяемых в процессах производства радиоэлектронных и микроэлектронных изделий и сверхбольших схем методами контактной и проекционной фотопечати

Способ получения 2-диазо-7-ди(низший алкил)аминофлуоренов // 1246559

Позитивный фоторезист // 1217128

Композиция адгезионного подслоя пленочного материала для лазерных гравировальных автоматов // 2293754

Изобретение относится к химико-фотографическим материалам, используемым для получения фотоформ - фотошаблонов с помощью лазерных гравировальных автоматов

Азокомпоненты для светочувствительных диазотипных материалов // 1526436

Изобретение относится к фотографии, в частности к применению производных 22-дифтор- 4-метил-1.32-диоксабориновформулы Cf ) где R -Н, R-C Н R или вместе с нЛ I 4 6 4 р R образует ароматические заместители 4-метоксибензо- -2 ,1 или 2,1 ,CH 0,С1

Диазотипный материал // 1538739

Светочувствительный диазотипный материал // 1540529

Способ получения светочувствительной композиции негативного диазотипного материала // 1721581

Способ оптической записи и воспроизведения информации на люминисцентном фотографическом материале // 1770980

Способ формирования фоторезистной маски позитивного типа (варианты) // 2552461

Группа изобретений относится к способам, предназначенным для изготовления полупроводниковых приборов на твердом теле с использованием светочувствительных составов, например фоторезистов, содержащих диазосоединения в качестве светочувствительных веществ, а именно к способам формирования фоторезистной маски позитивного типа, которые могут найти применение в области микроэлектроники для получения изделий при помощи технологических способов, включающих стадию фотолитографии. Способ формирования фоторезистной маски позитивного типа включает нанесение на подложку позитивного фоторезиста, содержащего новолачную смолу и орто-нафтохинондиазидное соединение, использующееся в качестве светочувствительной компоненты, сушку, экспонирование и проявление. При этом в состав фоторезиста непосредственно перед нанесением его на подложку вводят 1,3-динитробензилиденмочевину, либо 1,5-дифенилсемикарбазид, либо N,N'-метилен-бисакриламид в количестве 5-15% по отношению к количеству орто-нафтохинондиазидного соединения. Результатом является улучшение качества края фоторезистной маски, увеличение срока службы используемого фоторезиста. 3 н.п. ф-лы, 1 табл.