Источник ионов

 

Изобретение относится к разработке источников ионов и может найти применение в радиационной физике, для модификации физико-химических свойств металлов и сплавов, диэлектриков и полупроводников методом ионной имплантации. Цель изобретения - упрощение устройства. Источник ионов содержит цилиндрические коаксиально расположенные анод, поджигающий электрод, катододержатель, катод, выполненный из плотно прилегающих друг к другу концентрических колец из рабочих материалов, изолятор, электрически разделяющий катод и поджигающий электрод, источник питания основного разряда с регулируемой длительностью импульса, включенный между внешним кольцом катода и анодом. Поджигающий электрод с изолятором установлен в центре катода. В процессе горения дугового разряда катодное пятно, сформированное на ближайшем к поджигающему электроду кольце, смещается в сторону внешнего кольца, что приводит к последовательному формированию плазмы из различных материалов. 1 ил.

Изобретение относится к разработке источников ионов и может найти применение в радиационной физике, для модификации физико-химических свойств металлов и сплавов, диэлектриков и полупроводников методом ионной имплантации. Цель изобретения - упрощение устройства. На чертеже схематично изображен источник ионов. Источник установлен в вакуумном объеме с давлением P 10-2 Па и содержит цилиндрический катододержатель 1 с составным катодом 2, набранным из колец различных материалов и расположенным на торцовой поверхности катододержателя, и коаксиально расположенный с ним анод 3. Высоковольтный источник 4 ускоряющего напряжения включен между анодом и ускоряющим электродом 5. Источник питания 6 основного разряда подключен между анодом 3 катододержателем 1, а блок 7 питания и коммутации поджигающего импульса подключен между катододержателем и поджигающим электродом 8. Поджигающий электрод 8 и изолятор 9 установлены в центре чередующихся по элементному составу дополнительных элементов. Электрический контакт дополнительных элементов с катододержателем осуществлен с наружным кольцом. Торцовая поверхность анода 3 закрыта мелкоструйной сеткой 10. Источник ионов работает следующим образом. При подаче с блока питания и коммутации на электрод 8 поджигающего импульса длительностью 1-10 мкс и амплитудой 2-5 кВ по поверхности изолятора 9 происходит пробой промежутка между поджигающим электродом и ближайшим к поджигающему электроду дополнительным кольцевым элементом. Образовавшаяся в результате пробоя плазма после расширения постепенно достигает анода 3. В дальнейшем зажигается основной дуговой разряд между данным (дополнительным) элементом катода и анодом. Разряд поддерживается за счет источника питания 6 основного разряда, который и определяет его длительность. Экспериментально установлено, что в процессе горения дугового разряда в данной конструкции катодное пятно, сформированное на ближайшем к поджигающему электроду материале, постепенно смещается в сторону места токоподвода. Перемещение катодного пятна с одного элемента на другой приводит к последовательному формированию плазмы из различных материалов. Плазма, образующаяся за счет дугового разряда, при расширении выходит через мелкоструктурную сетку 10 в ускоряющий зазор, образованный мелкоструктурной сеткой 10 и ускоряющим электродом 5. Под действием электрического поля, создаваемого высоковольтным источником 4 ускоряющего напряжения, осуществляется ускорение ионов из плазмы. Мелкоструктурная сетка 10 формирует плазменную границу, с которой осуществляется ионный токоотбор. Последовательное формирование плазмы из различных материалов, соответствующих материалам кольцевых дополнительных элементов, приводит к последующему ускорению ионного пучка с чередующимся составом ионного пучка. Содержание в пучке ионов каждого сорта может регулироваться как за счет длительности основного разряда, так и за счет измерения ширины каждого из колец. Изобретение позволяет, используя один поджигающий электрод с системой инициирования дугового разряда, сформировать сложный и в то же время регулируемый по составу ионный пучок и в одном цикле проводить сложное легирование образцов.

Формула изобретения

ИСТОЧНИК ИОНОВ, содержащий коаксиально расположенные анод и катод, составленный из различных рабочих материалов, поджигающий электрод, изолятор, установленный между катодом и поджигающим электродом, и ускоряющий электрод, при этом катод и анод подключены к источнику электропитания основного разряда, а катод и поджигающий электрод - к источнику вспомогательного разряда, отличающийся тем, что, с целью упрощения устройства, поджигающий электрод установлен в центре катода, выполненного из плотно прилегающих концентрических колец из рабочих материалов, причем внешнее кольцо катода подключено к источнику питания основного разряда, выполненному с регулируемой длительностью импульса.

РИСУНКИ

Рисунок 1



 

Похожие патенты:

Изобретение относится к отжигу полупроводниковых пластин и может быть использовано в технологических линиях по изготовлению приборов

Изобретение относится к ускорительной технике.- Цель изобретения - упрощение конструкции за счет уменьшения Э1)фективного змнттанса пучка ионов, в одиночной лннзе ионно-оптнческой системы, содержащей три последовательно и соосно расположенных цилиндрических злектрода, в выходном торце последнего цилиндрического злектрода линзы расположена диафрагма с центральным отверстием, диаметр d которого и длина L злектрода удовлетв оряют соотношениям d 0,25-0,4D, L 0,2-0,31), где D - апертура линзы

Изобретение относится к источникам ионов и может найти применение в ускорительной технике, в радиационной физике, для улучшения физико-химических свойств полупроводников, диэлектриков и металлов путем имплантации в них различных примесей в виде ускоренных ионов

Изобретение относится к устройствам для получения моноэнергетичных интенсивных пучков ионов различных газов, в том числе активных, и может быть использовано для различных технологических операций в вакууме (травление подложек, нанесение пленок, легирование и т.д.), а также для научных экспериментов

Изобретение относится к ионным источникам и может найти применение в радиационной физике для модификации физико-хпмических свойств материалов методом ионной имплантации

Изобретение относится к ускорительной технике

Изобретение относится к устройствам для получения интенсивных ленточных пучков ионов металлов, включая тугоплавкие, их сплавов, и может быть использовано для технологических целей (ионная имплантация, осаждение пленок заданного материала в вакууме и т.д.) и научных исследований

Изобретение относится к устройствам для получения интенсивных пучков ионов-металлов, сплавов и других

Изобретение относится к электронике и может быть использовано в качестве источника интенсивных электронных потоков, а также в качестве источника ионов

Изобретение относится к электротерапии, а именно к излучателям для ионизации воздуха

Изобретение относится к медицинской технике и технике кондиционирования воздуха и может быть использовано для электрической ионизации, очистки и стерилизации воздуха в целях профилактики и лечения болезней в бытовых, производственных и больничных условиях

Изобретение относится к технике получения потоков положительных ионов, которые используются в науке и технике: ускорителях заряженных частиц, в реактивных двигателях, для различных технологических процессов

Изобретение относится к устройствам для получения пучков заряженных частиц, в частности ионов, заряженных кластеров и микрокапель, и может быть использовано для получения с последующим формированием субмикронных ионных пучков, находящих все более широкое применение при микрообработке распылением; микроанализе и растровой ионной микроскопии; прямом безмасочном легировании полупроводников; в ионной литографии, а также для нанесения тонких пленок и покрытий кластерными и микрокапельными пучками

Изобретение относится к ускорительной технике и может быть использовано в качестве источника ускоренных ионов в технологических установках

Изобретение относится к области технической физики и может быть использовано для вакуумно-плазменной обработки материалов

Изобретение относится к электронно-ионному оборудованию технологического назначения и может быть использовано в качестве генератора металлосодержащей плазмы для обработки поверхностей изделий с целью повышения коррозионной стойкости, увеличения твердости и создания декоративных покрытий, а также повышения износостойкости режущего инструмента в различных отраслях техники и в качестве источника ионов
Наверх