Способ определения размеров плазмы разряда высокого давления

 

Изобретение относится к плазменной технике и предназг1ачено для определения размеров, площади поверхности и объема плазмы высокого давления . Целью является повышение точности измерения размеров самосветящейся плазмы разряда теневыми методами . Для этого фотографирование производят в течение ( после отключения источника питания разряда, а размеры плазмы определяют по измерениям области, ограниченной на теневой фотографии скачком яркости изображения . 1 ил.

союз совктсних социАлистичксних

Ща1УЬЛИН

„. BU „„ l47ô75

Н 05 и 1/ОО

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ

re изот кткниям и атнрцтищм п1 и плант сса

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ,",.,, ., ;,,„ ",""," -;

H АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ падением уровня оптического излуче- („ ния иэ плазмы. В промежуток времени

-4 -й с 10 до 10 с оно становится во много раз меньше внешнего изпучения, Isa! например меньше оптического иэлуче- ф ния, выходящего из осветительной вфла части теневого прибора. За этот про- е, межуток времени по поверхности плазмы возникает скачок (или разрыв) плотности среды, on åäåëëeìûé тепло- @ .вым потоком за счет электронной теплопроводности. Это соответственно вызывает скачок показателя преломления, который четко фиксируется на теневой картине в виде тонкого замкнутого контура, отделяющего объем, ранее занимаемый плазмой, от окружаю щего теплового слоя, Если время регистрации больше 10 с, то в силу тепловых н газодинамических процессов> связанных с молекулярной (кондуктивной) теплопроводностью, происходит (46) 07. 07. 92. Бюл. 9 25 (21) 4382099/25 (22) 18.0).88 (7I) Институт оптики атмосферы СО

АН СССР (72) А.С. Тоболкин (53) 533.9(088.8) (56) Тихомиров И.А, и др. Исследование характеристик и режимов горения ВЧФ-разряда. ЖТФ, 1983, т. 53, вып. 6, с. 1179-1181.

Методы исследования плазмы./Под ред. Лохте-Хольгревена, М,: Мир, 1971, с. 151 (54) СПОСОБ ОПРЕДЕЛЕНИЯ РАЗМЕРОВ

ПЛАЗМЫ РАЗРЯДА ВЫСОКОГО ДАВЛЕНИИ

Изобретение относится к плазменной технике и предназначено для определения размеров, площади поверхности и объема плазмы высокого давления.

Целью изобретения является повышение точности измерения размеров самосветящейся плазмы разряда, На чертеже представлена блок-схема экспериментальной установки для осуществления способа в случае ВЧ-факельного (одноэлектродного) разряда.

Энергия от ВЧ"генератора 1 подается на электрод 2, с которого горит ВЧфакельный разряд 3, освещаемый светом, выходящим из осветительной части 4 теневого прибора. Результирующее свечение поступает в приемную часть 5 теневого прибора и фиксируется фотоаппаратом или к.:нокамерой б, После отключения внешнего электро-, магнитного полн происходит распад плазмы, характеризующийся быстрым (57) Изобретение относится к плазменной технике и предназначено для определення размеров, площади поверх" ности и обьема плазмы высокого давления. Целью является повышение точности измерения размеров самосветящейся плазмы разряда теневыми методами. Для этого фотографирование про-4 изводят в течение 10 -1О с после отключения источника питания разряда, а размеры плазмы определяют по изме- . рениям области, ограниченной на теневой фотографии скачком яркости изображения. 1 ил.

15676тт5 ряда. Это позволяет определить платт?Я11ь поверхности 33 объе?(п??аэмь?. Обработка полученных с увеличением в

1 0--20 pa a 33306paz".B?IH1! I?lоз валяет сНН бдить ои?(бку 3?змерен?!?! до 3-5Х, При этом ни состав фОтамятерияла, ни сОст ЯВ ОПТИЧЕСКО ГО Излт(Ч ЕНИЯ НЗ ПЛ(а ЗМЬ? а в том числ= излучение разогретых дисПЕРСНЫХ ЧЯСТИЦ а 3?Е СКЯЭЫВЯЮТСЯ На i 0 s3I0C TH сна Саба, 5 О p i / J l В и э О б р е т е 33 и я

Р

Саста(тт".ТВПЬ А а ОЗЕРЕИКО

Те?сред 1ат.дида?к КОРРЕКТОР (3 КУт(ЕРЯВЯЯ ъ едактор f 33?ба?-0 в а

Заказ 2819 TIIp8_#_(262 3?ОДПИСНОЕ

В1П1ИПИ Государствен?!Ого ком;.;.тета по изобретениям и открытиям при 3 КЙ7 ССС?113035, 11ОСКВа, 3,"(-35, Ра?т.??СКая Наб.. д...4/5

"Ъ -7

ПРоизводственно-!!ад((тет?ьс:(??й комбинат "Патент",, г -. УЯгоРода- Ул. ГЯ3 ЯРина-. ?О1 ряэ?!ытие с!".a IKa (разрыва) и трян(.фармирав ап?(яя 310в ерх??асTь pa apblBa уме не огражает размеров и объемов пцаэ" мы. 1313! !HI!a c?(a fKa 33MPP T 330pFI+0K HP скольких десятков Длин свабОЦНОГÎ пробега ионов т,??олекул) и она мала по сравне?ц(ю с радиусом плазменного

Каца?та.

Поверхность разрыва фиксируется

HI те??е?3с?33 фатографци цри любом пер--В О Н г? Ч ЯЛ Ь I I o. 4 $" P O В 3 т Е O r! H u P С К 0 Г 0 И -3 Л" ченця иэ !!лаз??ы и дця любой фОрмь?

РВЭРЯДа: 3?РЯ?(ай а В!33(ТО??ат1, СПИРВЛЕBI(iJ! !bitt H для ?тир ОКОГО диегцаз Отlа рВ дца,!гЬ?3?3Х 3?ЯЭМЕгтОВ Пцаа??Ь?, ПОВтЕр?С?тОСтт разттЫ?1.3 тат<,3(Е (13?г?(СИ!?уЕ:! Ся Ня ТЕ??га Ват" фо 30!.-Рагт1?Ц1 ЦРИ Ц С Лт !то?та?(ИИ и ПРЕРЬ(г -но гоРЯ??(ега РЯЭРЯД(! пРИ Усновцца когДЯ ЦЯЦРЯ!К(?НЦЕ lta ЭЛЕК:г-Раг(Е ВМттци-t г3(т?то мадулирова?30 ." ":-ac TOTO!1 3!Огтуцнfial!

100-300 Гт! и с гт3уб?ц?о?! ?30цчпя?3?-".и 20АОЯ. Произ?30д?3 iriocrlå многа!(ратногс> уВЕЛИт!ЕН?lя Из абра. ?(Е3?ц?3 С ПО?3033(Ь?О г(а(г?таб?30! Пине!?ки 33:3местеция Uaэмерап обЛВСТ?3 ОГ(таит?а(Е?ц?О?! ПОВЕРХНОСТЬЮ разрыва B по?!Срач нам и г?рстдо3(ьнсзм

i!ßÏÏßÂÏÅ?3И?3Х. 0(.3т((3ЕСТВЛЯЕТС?! -.3З?3ЕР -:-.

Нтta ОВЭ;.(С PC?F! ттна»!bi г(ВК СРЕЦтп-,l(8338: тте?3333!. ТВК i! !?стст(1;.!Пя поцепечно! О се?ения т?лазмы вдсцг B, е?! д!г?тны р:.;з--!

Способ определения размеров ппаз

3,,т..! !!ЯЗВ яда ВЫСОКОГО дВВЛЕНИя Bt(JIKI-" а

Ча?ИИЦ ЦОЛУт?Е?(3?Е ТЕ?3ЕВОй фстОГРафИИ ся?!ос!тетя?(е??сtt плазмы газового разряда и 0rIp!*делени = рйэ?яерОВ ппяэ??ь? по раЭМЕрВМ ОблаС -И, Ol ра??нт(Е?(НО?т На г пег!о(1 фото! 1",Яй?(и . вь?бран??ь?м уровнем ярхостн Изобттаяапня О Т Л И Ч а Ю

tI3 и и с H тем„что, с целью 330Bblttta ти!Я ТОЧНОСТИ ?3З?!тРЕН333(ю ЭКСПОЗ?3ЦИЮ г1вт(33031у I o?I!EH VQV QBOA 630TOI ð т(3??1И (тс II!IPcтьляют в тече??ие 10 10 т ! после преai a. .ta?1?tit подачи

0?та! ?П?т(301 ; Энергии в плазму и за

, p-,цнцу области принимают JIHHHI(? кон:т Г;. г: .счрт С т? 3,

Способ определения размеров плазмы разряда высокого давления Способ определения размеров плазмы разряда высокого давления 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к области плазменной техники и управляемого термоядерного синтеза и может быть использовано для получения высокотемпературной плазмы и генерирования нейтронного излучения

Изобретение относится к вакуумной и напылительной технике и, в частности, к электродуговым испарителям металлов и сплавов, используемый для нанесения тонких пленок и покрытий в вакууме

Изобретение относится к плазменной технике, а более конкретно к дуговым плазменным генераторам, служащим для термообработки диэлектрических материалов с целью полировки, создания декоративно-защитных покрытий

Изобретение относится к плазменной технике, а более конкретно к дуговым плазменным генераторам, служащим для термообработки диэлектрических материалов с целью полировки, создания декоративно-защитных покрытий

Изобретение относится к плазменной технике, а более конкретно к устройствам для ускорения заряженных частиц, и может быть использовано, в первую очередь, для обработки высокоэнергетическими плазменными потоками металлических поверхностей с целью повышения таких их характеристик как чистота поверхности, микротвердость, износостойкость, коррозионная стойкость, жаростойкость, усталостная прочность и др

Изобретение относится к системам тепловой защиты из огнеупорного композитного материала, которые охлаждаются потоком жидкости, и более точно касается конструкции тепловой защиты для отражателя камеры удерживания плазмы в установке термоядерного синтеза, охлаждающего элемента, который использован в конструкции тепловой защиты, и способа изготовления такого охлаждающего элемента

Изобретение относится к электротехнике и может быть использовано для получения электрической энергии путем преобразования тепловой энергии плазмы в электрическую

Изобретение относится к области технологии очистки и обезвреживания отходящих газов, газовых выбросов различных производств и процессов, а также плазмохимического синтеза химически активных соединений с использованием электрических методов, в частности к устройству газоразрядных камер, в которых производят процесс детоксикации и очистки
Наверх