Устройство для получения профилированных кристаллов из эвтектических композиций

 

Изобретение относится к технологии получения кристаллов вытягиванием из расплава. Обеспечивает повышение однородности микроструктуры кристаллов. Устройство содержит тигель с формообразователем (Ф) и нагреватель. Ф выполнен сплошным. К его боковой поверхности прикреплены съемные элементы с капиллярными каналами. Устройство позволяет вести процесс вытягивания кристаллов при плоском фронте кристаллизации. Получены кристаллы эвтектической композиции NAF - CAF<SB POS="POST">2</SB> в виде стержней и пластин. Кристаллы имели однородную микроструктуру. 2 ил.

СОЮЗ СОВЕТСКИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ

РЕСПУБЛИК (19) (1!) (51)5 С 30 В 15 34

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

К А BTOPCHOMV СВИДЕТЕЛЬСТВУ

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ НОМИТЕТ

ПО ИЗОБРЕТЕНИЯМ И ОТНРЫТИЯМ

ПРИ ГННТ СССР

1 (21) 4353739/31 — 26 (22) 04. 01. 88 (46) 23.03.90. Бюл. М 11 (71) Физико-технический институт им. А.Ф.Иоффе АН СССР (72) Г.И.Рогальский (53) 62) .315.592(088.8) (56) Патент С!1!А 1! 3801309, кл. С 30 В 15/34, 1974. (54) YCTPOfICI ВО ДЛЯ ПОЛУЧЕНИЯ ПРОФИЛИРОВАНН1!Х КРИСТАЛЛОВ ИЗ ЭВТЕКТИЧЕСКИХ КОМПОЗИЦИЙ (57) Изобретение относится к технологии получения кристаллов вытягиИзобретение относится к технологии получения профилированных изделий вытягиванием из расплава.

Целью изобретения является повышение однородности микроструктуры кристаллов.

На фиг ° 1 показана схема устройства для получения профилированных кристаллов иэ эвтектических композиций; на фиг. 2 — разрез А-А на фиг.l.

Устройство включает тигель для расплава, установленный в подставке

2 и размещенный в полости нагревателя 3, соединенного с токоподводом 4.

В тигле 1 закреплен сплошной формообразователь 5, к боковой поверхности которого прикреплены съемные элементы 6, в которых выполнены капнллярные каналы 7. Съемные элементы 6 закреплены с помощью молибденовых колец 8. Над формообразователем 5 расположен затравкодержатель 9 с затравкой IO.

2 ванием из расплава. Обеспечивает повышение однородности микроструктуры кристаллов. Устройство содержит тигель с формообразователем (Ф) и нагреватель. Ф выполнен сплошным. К

его боковой поверхности прикреплены съемные элементы с капиллярными каналами. Устройство позволяет вести процесс вытягивания кристаллов при плоском фронте кристаллизации. Получены кристаллы эвтектической композиции NaF-CaF в виде стержней и пластин. Кристаллы имели однородную микроструктуру, 2 ил.

Пример. Получение эвтектической композиции NaF-CaF

Нагреватель 3 представляет собой цилиндрическую печь сопротивления, выполненную из графита. с внешним диаметром 7,4 ° 10 м и внутренним диаметром 6 10 м, высотой 7 ° 10 м.

-L -2

В контакт с нагревателем устанавливают термопару ТПП-I которую соединяют с системой регулировки температуры BPT-3 (не показаны).

Тигель 1 объемом 5,81 .10 м с

Э углублением в центре его дна для установки формообраэователя 5 также изготавливают иэ графита.

Затравка 10 представляет собой часть кристалла ранее выращенной эвтектической композиции того же состава, что и выращиваемое иэделие.

Размеры поперечного сечения затравки IO выбирают исходя из того, чтобьl он покрывал как весь торец формооб1551749 ра ователя 5, так и капиллярные каналы 7.

В качестве затравки 10 может бь|ть использован монокристалл более лег5 копланкого компонента, входящего в состав эвтектической композиции. Формообразонатепь 5 из молибдена представляет собой сплошной стержень див -2 аметром 3 10 м и длиной 4,1 ° 10 м.

Изготавливают также устройства, в которых формообраэонатель 5 представляет собой стержень диаметром 1,2 «

- 1

«10 м, а также пластину с попереч-3 ным сечением (2 ° 10) 10 м, длиной

4,1.10 м.

Верхний торец формообразонателя, который является его рабочей поверхностью, обрабатывают на токарном станке, шлифуют на наждачной бумаге с зерном 50/40, 40/28, 28/20, а затем полируют алмазными пастаж с зерном 14/10, 10/7, 7/5, 5/3, 2/1, 1/О мкм.

Капиллярные каналы 7 изготовлены из платиновой трубки внутренним диаметром 0,9- 10 м, а наружным 1,1

-z.

«10 м, длиной 2,5 10 м и закреплены на боковой поверхности формообразователя 5 с помощью закрепляющих колец, изготовленных иэ материала, не взаимодействукч :его с расплавом, в данном случае из молибдена.

В углубление тигля 1 устанавливают формообразователь 5, вокруг которого размещают кристаллы NaF и СаР в соотношении 58 и 42 об.7., что соответствует соотношению компонентов в точке энтектики. Затем тигель 1 устанавливают на подставку 2 и поме- 40 щают в нагреватель 3, после чего при помощи центровочного кольца производят центровку тигля 1 относительно оси нагревателя 3 ° Устройство помещают в герметичную кристаллизацион- 45 ную нодоохлаждаемую камеру (не показана), откачивают ее до давления — 2 -2

1,33 10 H м, а затем производят напуск инертного газа до давления

5,9 10 H ° м . Для нагрева расплава

+ до необходимой температуры, равной

1130 К, и гомогенизации через понижающий трансформатор и токонводы на нагреватель 3 подают напряжение 612 В. После этого, температуру расплава (Tp) пониж lNT до значения, пре-, 1 ньпиакчцего энтектиче скую температуру на 10 — 20 С.

Температуру расплава подбирают

Tÿê, чтобы толисина пленки расплава над рабочей поверхностью Ьормообразонателя 5 не превышала 0,3 мм, н конкретном случае Т =1102 К.

При соприкосновении с рабочей понерхностью затравка 10 подплавляется, образуя тонкую пленку расплава на рабочей поверхности, которая соединяется с расплавом, находящимся в капиллярных каналах 7.

Вытягивание профилированного кристалла ведут с плоским фронтом кристаллизации, обусловленным плоской изотермой над всей рабочей поверхностью формообразователя, исключая места выходов капиллярных каналов.

Получены кристаллы в вице стержз -х ней диаметром 4 ° 10 и 1,2.10 м и пластины с поперечным сечением (2"

«10) 10 м. На боковой понерхности кристаллов имелись наросты диаметром, равным диаметру капиллярных каналов. Эти наросты легко могут быть сошлифонаны.

Металлографическое исследование поперечнь|х шлифов показало, что микроструктура кристаллов является однородной, морфология фаз одинакова по всей площади поперечного сечения.

Кроме того, преимуществом устройства является возможность замены при необходимости как формообразонателя, так и капиллярных каналов и возможность использования с ними формообразонателей с любой конфигурацией рабочей поверхности. ч о р м у л а и з о б р е т е н и я

Устройство для получения профилированных кристаллов из эвтектических композиций, включающее тигель для расплава, размещенный в полости нагревателя, формообразователь, закрепленный в тигле, капиллярные каналы для подачи расплава на торец формообразонателя и затранкодержатель с затравкой, установленный над формообразонателем, о т л и ч а ю щ е е с я тем, что, с целью повышения однородности микроструктуры кристаллов, формообразователь выполнен сплошным и снабжен съемными элементами, закрепленными на его боковой поверхности, в которых выполнены капиллярные каналы.

1551 749

Фью.!

Корректор А.Обручар

Редактор Н.Рогулич

Тираж 342

Закаэ 309

Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета по иэобретениям и открытиям при ГКНТ СССР

113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5

Производственно-издательский комбинат "Патент", г. Ужгород, ул. Гагарина, 101

Составитель Г.Золотова

Техред M.Äèäûê

Устройство для получения профилированных кристаллов из эвтектических композиций Устройство для получения профилированных кристаллов из эвтектических композиций Устройство для получения профилированных кристаллов из эвтектических композиций 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к способам затравления при выращивании профилированных монокристаллов корунда методом Степанова и способствует повышению их структурного совершенства

Изобретение относится к технологии получения монокристаллов пытягиванием из расплава

Изобретение относится к технологии получения профилированных кристаллов вытягиванием из расплава и обеспечивает упрощение затравления и повышение выхода годных кристаллов

Изобретение относится к области получения монокристаллов вытягиванием из расплава с применением формообразователей и позволяет улучшить качество кристаллов за счет уменьшения асимметрии теплового поля

Изобретение относится к элект- ipoHHoft технике, производству специальных материалов для изготовления диэлектрических подложек

Изобретение относится к технологии получения полупроводниковых материалов , а более конкретно к технологии получения трубчатых кристаллов, и обеспечивает получение монокристаллических трубок с периодически изменяющимся по высоте составом

Изобретение относится к технике выращивания профилированных кристаллов тугоплавких оксидов для конструкционных узлов и изделий

Изобретение относится к выращиванию кристаллов заданной формы из расплава, в частности кристаллов тугоплавких соединений, например лейкосапфира, рубина, алюмоториевого граната и т.п., которые могут быть использованы в приборостроении, электронной и химической промышленности

Изобретение относится к технике выращивания профилированных кристаллов вытягиванием их из расплава с вращением с применением формообразователей и может быть использовано для получения монокристаллических труб и стержней с периодически изменяющимся содержанием примеси по длине кристалла

Изобретение относится к устройствам выращивания профилированных монокристаллов из расплавов на затравочном кристалле, например, сапфира, по методам Чохральского, Киропулоса

Изобретение относится к устройствам выращивания крупногабаритных объемных профилированных монокристаллов из расплавов, например, сапфира по методам Чохральского, Киропулоса

Изобретение относится к технологии выращивания калиброванных профилированных объемных монокристаллов из расплавов тугоплавких оксидов методом Степанова

Изобретение относится к производству монокристаллов и может быть использовано в технологии выращивания монокристаллов из вязких расплавов тугоплавких оксидов методом Степанова для получения объемных профилированных калиброванных монокристаллов больших диаметров с высокой степенью совершенства структуры

Изобретение относится к технологии выращивания из расплавов монокристаллов сапфира методом кристаллизации из расплава

Изобретение относится к технологии выращивания из расплавов монокристаллов сапфира и направлено на совершенствование тепловой защиты системы

Изобретение относится к технологии выращивания из расплавов объемных монокристаллов сапфира и направлено на повышение срока службы элементов конструкции
Наверх