Проекционный объектив с увеличением -1/5 @

 

Изобретение относится к оптическим системам и может найти применение в микроэлектронике в проекционных системах экспонирования для изготовления полупроводниковых приборов. Цель изобретения - увеличение поля зрения объектива. Проекционный объектив содержит одиннадцать компонентов, первый из которых отрицательный мениск, обращенный вогнутостью к плоскости предметов с соотношением радиусов 1:2, второй - отрицательный мениск, обращенный выпуклостью к плоскости предметов, третий - двояковыпуклая линза, четвертый и пятый - положительные мениски, обращенные выпуклостью к плоскости предметов, шестой - склеенный отрицательный мениск, обращенный выпуклостью к плоскости предметов, седьмой и восьмой - отрицательные мениски, обращенные выпуклостью и вогнутостью к плоскости предметов, соответственно, девятый - положительный мениск, обращенный вогнутостью к плоскости предметов и склеенный из положительной и отрицательной линз, десятый-двояковыпуклая линза, а одиннадцатый - положительный мениск, обращенный выпуклостью к плоскости предметов и выполненный из двух положительных менисков. 2 ил.

СОЮЗ СОВЕТСНИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ

РЕСПУБЛИН

„„SU„„1587461 . (51)5 G 02 В 13/24

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

К А BTOPCHQMY СВИДЕТЕЛЬСТВУ.

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ

ПО ИЗОБРЕТЕНИЯМ И ОТНРЫТИЯМ

ПРИ ГКНТ СССР

1 (21) 4471157/24-10 (22) 03.08,88 (46) 23.08.90. Бюл. Р 3 1 (72) В.И.Цуран и И.Ф,Гуревич (53) 535,824.? (088.8) (56) Авторское свидетельство СССР

N - 1303972, кл. G 02 В 13/24, 1985. (54) ПРОЕКЦИОПНЬП1 ОБЪЕКТИВ С УВЕЛИЧЕНИГМ вЂ” 1/5х (57) Изобретение относится к оптическим системам и может найти примене-— ние в микроэлектронике и проекционных системах экспонирования для изготовления полупроводниковых приборов.

Цель изобретения — увеличения поля зрения объектива, Проекционный объектив содержит одиннадцать компонентов, первый из которых отрицательньп» меННсК обращенный вогнутостью к плоскости предметов с соотношением раИзобретение относится к оптичес— ким системам и может найти применение в микроэлектронике в проекционных системах экспонирования для изготовления полупроводниковых приборов.

Целью изобретения является увеличение поля зрения объектива.

На фиг. 1 приведена оптическая схема объектива; на фиг. 2 — частотно-контрастные характеристики (линия — — — — идеальная система, линия — — меридиальное сечение, — сагиттальное сечение).

Объектив состоит из четырнадцати линз, собранных в одиннадцать компонентов. Первый компонент — отрицатель2 диусов 1: 2, второй — отрицательный мениск, обращенньп» выпуклостью к плоскости предметов, третий — двояковыпук— лая линза, четвертый и пятьп» вЂ” положительные мениски, обращенные выпуклостью к плоскости предметов, шестой— склеенный отрицательный мениск, обращенный выпуклостью к плоскocTH предметов, седьмой и восьмой — отрицательные мениски, обращенные выпуклостью и вогнутостью к плоскости предметов соответственно, девятьп»вЂ” положительный мениск, обращенный вогнутостью к плоскости предметов и склеенньп» из полом»тельной» и отрицательной линз, десятьп» вЂ” двояковы- пуклая линза, а оди»п»адцатьп» вЂ” положительный мениск, обращенньп» выпуклостью к плоскости предметов и выполненный из двух положительных менисков.

2 ил. ный мениск 1, обращенный вогнутостью к полости предметов, второй — отрицательный мениск 2, обращенньп» выпуклостью к плоскости предметов, третий — двояковыпуклая линза 3, четвертый и пятый — положительные мениски

4 и 5, обращенные выпуклостью к плоскости предметов, шестой — отрицатель-. ный мениск, обращенйьп» выпуклостью к плоскости предметов и склеенньп» из положительной 6 и отрицательной 7 линз, седьмой — отрицательньп» мениск

8, обращенньп» выпуклостью к плоскости предметов, восьмой — отрицательный мениск 9, обращенный вогнутостью к .плоскости предметов, девятый — по15874б1

1О

Оло снасть

apelwemc78

4 ложительный мениск, обращенный» вогнутостью к плоскости предметов и склеенный из отрицательной 10 и положительной 11 линз. Десятый — двояковыпуклая линза 12, одиннадцатый — гТо5 ложительньп» мениск, обращенный выпуклостью к плоскости предметов и склеенный из положительных менисков 13 и 14.

Объектив имеет высокую степень коррекции аберрации для области спектра 404,6 + 5 нм. Увеличение объектива — 1/5х. Апертура 0,27, поле зрения 28 мм.

Предлагаемый объектив имеет преимущество перед известным, увеличено поле изображения до d - =28 мм, что позволит размещать большее количество полупроводниковых приборов на пластине при одном экспонировании.

Формула изобретения

Проекционный объектив с увеличени- 2 ем — 1/5х, включающий одиннадцать компснентов, первый из которых — отрицательный мениск, второй — отрицательный мениск, обращенный выпуклостью к плоскости предметов, третий — двояковыпуклая линза, четвертый и пятьп — положительные мениски, обращенные выпуклостью к плоскости предметов, шестой — склеенный отрицательный мениск, обращенный выпуклостью к плоскости предметов, седьмой — отрицательный мениск, обращенный выпуклостью к плоскости предметов, восьмой — отрицательный мениск, обращенный вогнутостью к плоскости предметов, девятый компонент — положительный мениск обУ ращенный вогнутостью к плоскости предметов и склееннь»»» из положительной и отрицательной линз, десятый компонент двояковыпуклая линза, одиннадцатый компонент — склеенный положительный мениск, обращенный выпуклостью к

/плоскости предметов, о т л и ч а юшийся тем, что, с целью увеличе.ния поля зрения, первый компонент обращен вогнутостью к плоскости предметов и имеет соотношение радиусов

1:2, а одиннадцатый компонент выполнен склеенным из двух положительных менисков °

15874б!

1- ъ и»

М

1 л

Составитель В.Архипов

Редактор Н.Бобкова Техред Л.Сердюкова Корректор О.Пипле

Заказ 2418 Тираж 454 Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета по изобретениям и открытиям при

113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5

ГКНТ СССР

Производственно-издательский комбинат "Патент", г. Ужгород, ул. Гагарина, 101