Способ дозированной подачи компонентов стекольной шихты

 

Изобретение относится к технологии приготовления стекольной шихты, может быть использовано и в других процессах смесеприготовления. Изобретение позволяет повысить точность и производительность процесса дозирования плохосыпучих материалов. Заданная масса компонента подается в смеситель частичными дозами массой, равной частному от деления величины заданной массы на число частичных доз. В случае, если разность между заданной массой дозы и массой выгруженного материала меньше удвоенного значения массы частичной дозы, задание на отвес предпоследней частичной дозы уменьшают на величину наименьшего предела дозирования, а оставшуюся часть дозы формируют в режимах интенсивной, а затем замедленной подачи. Все предыдущие части подают в интенсивном режиме.

СОЮЗ СОВЕТСКИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ

РЕСПУБЛИН

Л0,»15 45 (51)5 0 В 1 00

1 Г1 и «ар Е 4: .. .,!/li

Ь ir.11j,à Г, "1, опислник изоБрктКНИЯ

Н ABTOPCHOMY- СВИДЕТЕЛЬСТВУ

= 880 кг.

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ

fl0 ИЗОБРЕТЕНИЯМ И ОТКРЫТИЯМ

ПРИ ГКНТ СССР (21) 4621173/23-33 (22) 15.11.88 («) 07.09.90. Бюл. V 33 (71) Государственный научно-исследовательский институт стекла (72) Д.Л.Бенюхис, В.Е.Маневич, М.В.Ткач, А.Б.Жималов, В.В.Максимов и А.Е. Соркина (53) 666.1.022.1 (088.8) (56) Авторское свидетельство CCCP

N 655659, кл. С 03 В 1/00, 1976.

Заявка Японии 58-18611, кл. С 01 G 13/00, опублик. 1983. (54) СПОСОБ ДОЗИРОВАННОЙ ПОДАЧИ

КОМПОНЕНТОВ СТЕКОЛЬНОЙ ШИХТЫ (57) Изобретение относится к технологии приготовления стекольной шихты, может быть использовано и в других

Изобретение относится к стекольному производству и может быть использовано в различных отраслях народяого хозяйства.

Целью изобретения является повышение точности и производительности процесса дозирования плохосыпучих материалов.

Пример. Величина массы заданной дозы M = 1000 кг, количество циклов дозирования и = 10, тогда масса

М части равна -- = 100 кг. Выбирают п дозатор с наибольшим пределом дозирования (НПД = 125 кг) и наименьшим пределом дозирования (HM!lfl = 12,5 кг) .

2 процессах.смесеприготовления. Изобретение позволяет повысить точность и производительность процесса дозирования плохосыпучих материалов. Заданная масса компонента подается в смеситель частичными дозами массой, равной частному от деления величины заданной массы на число частичных доз. В случае, если разность между заданной массой дозы и массой выгруженного материала меньше удвоенного значения массы частичной дозы, за" дание на отвес предпоследней частичной дозы уменьшают на величину наименьшего предела дозирования, а ос- тавшуюся часть дозы формируют в режимах. интенсивной, а затем замедленной подачи. Все предыдущие части подают в интенсивном режиме.

Погрешность дозирования для режима интенсивной подачи равна 10ь, тогда за два цикла дозирования наибольшая величина отдозированной массы, m ° = --- (1 + ---) (n - 2) М (P макс и 100

При дозировании по предлагаемому способу после (n-2)-ro цикла остает2М ся отдозировать величину C---и

1000 т е 120 (2

° °

1590450

Производят (n-1)-й цикл дозироваM ния по заданию --" - НмПД, получая

87,5 кг, а Фактическая величина дозы может быть реализована с 10ь-ной ошибкой, т.е. 96,5 кг.

Таким образом, п-й цикл дозирования в соответствии с заданием МЮ и-1

,Е IQ =. 23 5 кг, что больше НмПД. =» и-й

М- „> m,. -"1

------------ = 60 кг.

Формула изобретения

Способ дозированной подачи компонентов стекольной шихты, включающий подачу дозы частями массой, равной частному от деления заданной массы дозы на число частей, определение массы выгруженного материала после подачи каждой части, вычисление разности между заданной массой дозы и массой выгруженного материала, корректирование массы последней части, причем все части, кроме последней, подают в режиме интенсивной подачи, отличающийся тем, что, с целью повышения точности и производительности процесса дозирования плохосыпучих материалов, определяют разницу между заданной массой и массой выгруженного материала перед подачей предпоследней части и при значении разности меньше удвоенного значения массы заданной части задание на отвес предпоследней части уменьшают на величину наименьшего предела,дозирования, а подачу последней части ведут вначале в режиме интенсивной подачи, а затем замедленной.

n-(Е ш = 50 кг, т.е. больравна Mп-1 Ф ш,. = --- (1 + ---) (n-1) = макс 100

= 990 кг.

Следовательно, величина заданной дозы для последнего n-ro цикла доэи-! рования равна 10 кг. Полученная вели" чина меньше наименьшего предела дозирования (12,5 кг), а следовательно, доэирование в соответствии с известным способом не приемлемо.

Таким образом, известный способ . может быть использован только для дозирования хорошо сыпучих материалов, когда большие величины случайных погрешностей маловероятны. При дози50 ровании плохосыпучих материалов наСоставитель Т.Буклей

Редактор И.Дербак Техред л.Одийяык

Корректор С.Черни

Заказ 2611 Тираж. 393 Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета,по изобретениям и открытиям при ГКНТ СССР

113035, Москва, Б-35, Раушская наб., д. 4/5

Производственно-издательский комбинат "Патент", г. Ужгород, ул.Гагарина,101

Можно также на (n-1)-й цикл дать задание, равное половине оставшейся 15 части дозы

При фактическом значении реализованной дозы, равной 70 кг, оставшая, ся часть дозы для последнего цикла ше, чем наименьший предел дозирования.

Осуществляя дозирование в соответ- ЗО ствии с известным способом в цикле

l. (n-1) получают копленная величина погрешностей эа (n-1) цикл будет такой величины, что для последнего цикла может выйти эа критическую зону, ограничиваемую вели чиной наименьшего предела доэирования, ПоэТому для плохо сыпучих материалов возможна организация процесса дозирования лишь в соответствии с предлагаемым способом.

Использование способа дает возможность повысить категорию шихты, качество вырабатываемого стекла и увеличить коэффициент использования сырьевых материалов на 0,54. В результате питания ванных печей однородной по химическому составу шихтой выход стекла 1-го сорта увеличивается на 14,а также повышается производительность за счет подачи последней.