Способ изготовления рулонного многослойного кинофотоматериала

 

Изобретение относится к галогенсеребряной фотографии и может найти применение в производстве цветных пленок. Цель - сокращение общего времени сушки и улучшение физико-механических свойств готового материала. При нанесении на основу фотослоя с последовательно установленных поливных устройств каждый последующий фотослой наносят на фотослой, подсушенный до критического влагосодержания, затем все слои одновременно подсушивают до равновесного влагосодержания. 3 ил., 4 табл.

СОЮЗ СОВЕТСКИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ

РЕСПУБЛИК (5!)5GОЗС1 74

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ

ПО ИЗОБРЕТЕНИЯМ И ОТКРЫТИЯМ

ПРИ ГКНТ СССР (21) 4450439/24-10 (22) 29.06.88. (46) 15.10.90. Бюл. № 38 (71) Научно-производственное объединение «СВЕМА» (72) В.К. Кислицин, И.Б. Ефимов, P Â. Дианов, В.В. Рудевич и Н.А. Потоцкий (53) 771.72 (088.8) (56) Патент США № 3793051, кл. 427 — 402, 1974.

ÄÄSUÄÄ 1599651 А 1 (54) СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ РУЛОННОГО МНОГОСЛОЙНОГО КИНОФОТОМАТЕРИАЛА (57) Изобретение относится к галогенсеребряной фотографии и может найти применение в производстве цветных пленок.

Цель — сокращение общего времени сушки и улучшение физико-механических свойств готового материала. При нанесении на основу фотослоя с последовательно установленных поливных устройств каждый последующий фотослой наносят на фотослой, подсушенный до критического влагосодержания, затем все слои одновременно подсушивают до равновесного влагосодержания.

3 ил., 4 табл.

1599651

Изобретение относится к галогенсеребряной фотографии, в частности, к способам изготовления рулонных многослойных кинофотоматериалов и может найти применение в производстве цветных пленок.

Цель изобретения — сокращение общего времени сушки и улучшение физико-механических свойств готового материала.

На фиг. 1 показан лабораторный кольцевой стенд, на котором могут быть воспроизведены требуемые режимы сушки:, на фиг. 2 — зависимость изменения температуры многослойных систем во времени, наблюдаемая при осуществлении предлагаемого (пунктирная линия) и известного (сплошная линия) способов; на фиг. 3 — зависимость изменения влагосодержания при тех же условиях.

Лабораторный кольцевой стенд для многократного нанесения, студенения, подсушки и окончательной сушки фотослоев на гибкой ленте (фиг. 1) представляет собой за мкнутый лентопротяжный тракт 1 с системой опорных валиков 2. Нанесение эмульсионных слоев на перемещаемую с помощью электропривода 3 гибкую ленту 1 осуществляется экструдером (поливным устройством) 4, а студенение, подсушка и сушка -— технологическим воздухом, нагнетаемым вентилятором 5 в короба статического давления 6 с перфорированными панелями 7. Бесконтактный пирометр 8 управляет работой задвижки 9 и экструдера 4 в зависимости от температуры поверхности многослойной системы, представляющей ленту с нанесенными на нее фотослоями. Для охлаждения и нагрева технологического воздуха используют теплообменники 10 и 11.

Пример 1. Полив модельных слоев по прототипу. На пол иэтилентерефталатную основу шириной 300 мм и длиной 6 м, перемещаемую с помощью электропривода 3 по лентопротяжному тракту 1, поливают модельный слой с наносом 100 г/см представляющий собой 10Я-ный водный раствор фотографической желатины марки Б. Такой слой общепринят в химико-фотографической промышленности при изучении студенения, сушки и нанесения фотослоев. Слой студенят в течение 2 мин (что соответствует отрезкам а — б на фиг. 2, 3) технологическим воздухом, охлажденным в теплообменнике 10 до 8 — 10 С и нагнетаемым вентилятором 5 в короб статического давления 6, из которого через перфорированную панель

7 воздух подают на поверхность пленки. На протя жении всего периода сушки модельного слоя через каждые 60 с вырубали образцы пленки (основа+модельный слой) для определения зависимости влагосодержания слоя от времени сушки. Образцы взвешивали для получения массы«мокрого» образца, сушили до постоянной массы, смывали с основы модельный слой, а основу вы25

55 сушивали вновь до постоянной массы. Влагосодержание модельного слоя в данный момент времени определяли как отношение массы воды W к массе абсолютно сухого слоя — масса воды в модельном слое.

При рассмотрении кривых температур процесса сушки (фиг. 2) и кривых сушки (фиг. 3) можно установить два периода сушки. период постоянной скорости сушки, когда скорость сушки не изменяется, а все тепло, передаваемое материалу, расходуется только на испарение поверхностной влаги (при этом температура модельного слоя остается постоянной и равной температуре испаряющейся влаги); и период падающей во времени скорости сушки, когда температура слоя повышается и при равновесном влагосодержании (динамическое равновесие между влагосодержанием слоя и влажностью сушащего воздуха) становится равной температуре сухого воздуха.

Точку в на кривой кинетики сушки (фиг.

3), в которой прямолинейный участок переходит в криволинейный, называют критической точкой, а влагосодержание материала в этой точке — критическим влагосодержанием. В этой же точке на температурной кривой (фиг. 2) видно резкое повышение температуры поверхности слоя. Критическое влагосодержание характеризует собой конец испарения поверхностной влаги и начало испарения влаги, диффундирующей из внутренних слоев пленки.

Сигнал о достижении модельным слоем температуры сушащего воздуха, равной

30 С (точка к на фиг. 2), à "íà÷èò и равновесного влагосодержания (точка к на фиг. 3), воспринимается бесконтактным пирометром

8 и на исполнительный механизм 12 через управляющее устройство 13 посылается сигнал на выдвижение экструдера 4 для полива второго слоя. Одновременно сигнал поступает и на исполнительный механизм 14 для переключения заслонки 9 на режим студенения. Второй слой по содержанию желатины и наносу аналогичен первому. По окончании студенения (фиг. 2, отрезок к — г ) заслонку 9 переключают на режим сушки второго модельного слоя, который проводят до конца второго периода сушки, т.е. до температуры по поверхности слоя 30 С (фиг. 2, отрезок r — к ). Аналогично первому и второму слою наносят третий модельный слой (фиг. 2, отрезок к — е ), который сушат также до температуры поверхности

30 С (фиг. 2, отрезок е — к" ).

Пример 2. Полив модельных слоев по базовому объекту. Условия нанесения, студенения и сушки трех модельных слоев, как в примере 1, но с учетом времени охлаждения каждого слоя до 20 С, равного 1 мин.

Пример 3. Полив модельных слоев по предлагаемому способу. Условия нанесения

1599651 первого модельного слоя и состав трех модельных слоев аналогичны примеру 1. После студенения первого модельного слоя в течение 2 мин (фиг. 2, отрезки а — б) переключают задвижку 9 на режим сушки первого модельного слоя. По окончании первого периода сушки в точке в (фиг. 2) резко (в среднем на 2 — 3 С) повышается температура слоя. Сигнал о повышении температуры первого слоя воспринимается пирометром 8 и управляющее устройство 13 передает сигналы на исполнительные механизмы 12 и 14. По окончании нанесения и студенения модельного слоя (фиг. 2, отрезки в — г) заслонку 9 переключают на режиме сушки второго слоя, который подсушивают также до начала второго периода (фиг. 2, отрезки г — д). Аналогично первому и второму слою наносят третий модельный слой, который студенят (фиг. 2, отрезки д — е), затем проводят одновременную сушку всех слоев до равновесного влагосодержания (фиг. 3, отрезки е — к ), т.е. до температуры слоев, равной температуре сушащего воздуха =/ =30 С (фиг. 2, отрезки е — к).

Длительности периодов сушки слоев по примерам 1 — 3 сведены в табл. 1.

Пример 4. Условия нанесения, состав слоев и студенения первого модельного слоя, как в примере 1, но второй слой наносят на первый слой, подсушенный в течение ЗО с, с последующей одновременной сушкой слоев до температуры поверхности 30 С. Качество полива второго слоя наблюдают визуально.

Пример 5. Условия нанесения, состав слоев и студенение первого модельного слоя, как в примере 4, но второй слой наносят на первый слой, подсушенный в течение 1 мин, с последующей одновременной сушкой двух слоев до температуры поверхности ЗО С. Наблюдают качество нанесения.

Пример 6. Условия нанесения, состав слоев и студенение первого модельного слоя, как в примере 4, но второй слой наносят на первый слой, подсушенный в течение 2 мин, что близко началу второго периода сушки.

Затем слои одновременно высушивают до

30 С и наблюдают качество полива.

Пример 7. Условия нанесения, состав слоев и студенение первого модельного слоя, как в примере 4, но второй слой наносят на первый слой, подсушенный в течение 2 — 2 мин

20 с (что соответствует чачалу второго периода сушки). Затем слой одновременно высушивают до 30 С и наблюдают качество полива.

Пример 8. Условия нанесения, состав слоев и студенение первого модельного слоя, как в примере 4, но второй слой наносят на первый слой, подсушенный в течение 3 мин, что соответствует значению влагосодержания слоя ниже критического. Затем слои одновременно высушивают до 30 С и наблюдают качество полива. отражены в

15 ставлены в табл. 3 и 4.

Пример 10. Предлагаемый способ. На

25 формула изобретения

Результаты табл. 2.

Из табл. 2 видно, что нанесение последующего слоя на предыдущий слой, подсушенный до критического влагосодержания, не снижает качество полива.

Пример 9. На поливной машине фирмы

«Конисироку» (базовый объект) поливали 3 слоя позитивной цветной пленки ЦП-8Р.

При этом каждый предыдущий слой высушивали до равновесного (-6Я) влагосодержания перед нанесением последующего слоя. Испытания готовой пленки на фотон физико-механические свойства проведены по ТУ 6 — 17 — 827 — 82. Результаты предотечественном многоголовочном агрегате поливали 3 слоя позитивной цветной пленки ЦП-8Р. При этом каждый предыдущий слой высушивали до критического (110—

120Я) влагосодержания перед нанесением последующего слоя с последующей сушкой всех слоев до равновесного влагосодержания. Испытания проведены по методике, приведенной в примере 9.

Фото- и физико-механические свойства готовой пленки представлены в табл. 3 и 4.

Из табл. 3 видно, что фотосвойства пленки ЦП-8Р, изготовленной способом подсушивания предыдущих слоев до критического влагосодержания перед нанесением последующего слоя, в пределах нормы технических условий ТУ 6 — 17 — 827 — 82 не ухудшаются по сравнению с пленкой ЦП8Р, изготовленной способом высушивания предыдущих слоев до разновесного влагосодержания перед нанесением последующих слоев.

Из табл. 4 видно, что физико-механические свойства пленки ЦП-8Р, изготовленной способом подсушивания предыдущих слоев до критического влагосодержани я перед нанесением последующих слоев, улучшились по всем показателям по сравнению с пленкой ЦП-8Р, изготовленной способох. высушивания предыдущих слоев до равновесного вл а госодер жа ни я перед на несен v с м последую щи х сл ое в.

При использовании в промышленных условиях предлагаемого способа по сравнению с прототипом производительность поливных машин можно увеличить на 22—

25Я. Выход годной продукции увеличивается на 5 — 7Я по сравнению с базовым объектом и на 3 — 4Я по сравнению с прототипом, а энергозатраты снижаются на 30 — 40О.

Способ изготовления рулонного многослойноГО кинофотоматсриаля 1утеM нанесс ния фотослоев на r:"нову с пос.-:ел," по xcT;iновлспных i(>. ц1БГ1i>1х lc Гп:. .. °:. Ill1599651 ки каждого нанесенного слоя подачей на него воздуха до равновесного влагосодержания, отличающийся тем, что, с целью сокращения общего времени сушки и улучшения физико-механических свойств, каждый посСпособ полива

Время сушки,мин, слоев

) модельного

L слоя первого второго третьего общее

По,прототипу 5

19 в том числе мин кондиц. пленки

По базовому объекту

21 в том чис ле 1 мин в том в том чис ле 1 мин числе

1 мин кондиц. слоя кондиц. пленки кондиц. слоя

2,5

2,3

Предлагаемый

13,8 в том чис ле 1 мин кондиц. пленки

Таблица 2

ПриКачество полива мер первого второ о

Таблица 3

Фотосвойства пленки ЦП-8Р по способу

11оказатель

Норма по ТУ Прототип Предлагаемый 1увствительность, :т. ГОСТ 9160-82, !

1ижний слОЙ средний слой верхний с. ой

Градиент нижний слой средний слой

Bp!)хний cëÎÉ

0,2 — 0,75

0,68

0,72

0,52

0,38

0,32

0,38

2,7 — 3,3

2,75

2,9

3,0

2,8

3,0

3,2

0,5

1,0

2,0

3,0

1,0

1,5

2,5

2,5

3,0 ледующий фотослой наносят на фотослой, подсушенный до критического влагосодержания, с последующей одновременной сушкой всех нанесенных слоев до равновесного влагосодержания.

Таблица1

Сползание второго слоя

Появление рябизны

Рябизна незначительная

Полив качественный

Полив качественный

1599651

Показатель

Вуаль нижний слой средний слой верхний слой

Частотно-контрастная

-ю характеристика, период за зеленым с/ф за красным с/ф

Гранулярность

Разрешающая способность, мм

Не более О, 15

0,13

0,12

О, 14

0,10

0,12

0,12

0,23

0,15

0,3

0,17

Не более 18

Не менее 75

75

Таблица 4

Норма по ТУ Предложенный Прототип способ

Физико-механические характеристики

Не менее 33 28

Не менее 80 160

Температура деформации, С

Ударная прочность, кг ° см см

103

2,83

EIe более 3,0 2,78

Скручиваемость при отн.вл.ЗОХ, мм

Термостатная усадка, 7

Набухаемость, г/м

Прочность, г

0,22-0,25

47 и00

Не более 0,3 0,15-0,16

Не более 110 45

Не менее 300 500

ГО

tz

thorn

Продолжение табл, 3

Фотосвойства пленки ЦП-8Р по способу

1 Т

Норма по ТУ Прототип Предлагаемый

1599651

u%

10ОО

ЕО0

700 б00 к

500 !!

< ао ъ

4/!//

Соста интел ь В. Кондратьев

Редактор К. Крункина Техред А. Кравчук Корректор О. Кравцова

Заказ 3!33 Тираж 379 Подписное !

>!!(!И!!!! Гогу,>арствснного комнтс>н но изобретениям и открытиям нри КНТ СССР

I I:3035, Москва, Ж - 35, Рах инская наб., д. 4/5 ! !р:»>з«<>детина>к>-издательский комбинат «!!атснт», г. Ужгород, ул. Гагарина, IOI

Способ изготовления рулонного многослойного кинофотоматериала Способ изготовления рулонного многослойного кинофотоматериала Способ изготовления рулонного многослойного кинофотоматериала Способ изготовления рулонного многослойного кинофотоматериала Способ изготовления рулонного многослойного кинофотоматериала Способ изготовления рулонного многослойного кинофотоматериала 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к способу формирования защитного слоя резиста и устройству для его осуществления и позволяет повысить качество защитного слоя путем исключения внутренних напряжений и уменьшения его дефектности

Изобретение относится к технике нанесения тонких слоев жидкости на гибкие подложки и повьппает качество покрытия путем снижения разнотолщинности его по длине подложки

Изобретение относится к микроэлектронике и может быть использовано при изготовлении полупроводниковых иитегральньпс схем, микросборок, устройств на поверхностных акустических волнах и т.п

Изобретение относится к кинотехнике и позволяет повысить качество обработки фонограммы путем регулирования ширины наносимого вязкого проявителя

Изобретение относится к способам изготовления фотографических материалов на стеклянной подложке (фотопластин) и может быть использовано в химико-фотографической промышленности

Изобретение относится к фотографической промышленности, а именно к способам нанесения фотографических слоев на подложку, например, светочувствительной фотоэмульсии на бумагу; причем решающим качеством нанесения является их равномерность

Изобретение относится к изготовлению фотобумаги и может быть использовано при нанесении маловодосодержащей фотоэмульсии на фотобумагу

Изобретение относится к способам получения фоточувствительных слоев сульфида свинца, которые применяют при изготовлении полупроводниковых приборов, чувствительных к инфракрасному излучению
Изобретение относится к области химико-фотографической промышленности и может быть использовано в производстве кинофотопродукции с фотоэмульсионным покрытием с заданными свойствами

Изобретение относится к области химии и может быть использовано для формирования нанокомпозитного покрытия на пористом слое оксида алюминия
Изобретение относится к изготовлению светочувствительных материалов, используемых в голографии и специальной фотографии, предназначенных для изготовления голографических оптических элементов (ГОЭ) сферической формы, требующих высокой оптической точности и чистоты поверхности слоя

Изобретение относится к технологии производства полупроводниковых приборов, в частности к способу и устройству для формирования тонких пленок, например пленок фоторезиста на полупроводниковых пластинах

Изобретение относится к голограммной оптике

Изобретение относится к микроэлектронике и может быть использовано на операциях фотолитографии при изготовлении полупроводниковых приборов и интегральных микросхем

Изобретение относится к области производства фотокиноматериалов и позволяет повысить качество продукции путем регистрации пропусков полива непосредственно на движущейся подложке
Наверх