Способ получения неравновесной плазменной среды

 

Изобретение относится к плазменной технике, а именно к управлению плазмой разряда, и может быть применено для получения сильно неравновесной плазмы с управляемыми характеристиками. Цель изобретения - получение неравновесной плазмы с высокой концентрацией возбужденных частиц при стабильных условиях воспроизводимости параметров неравновесности. Неравновесную плазменную среду получают путем пропускания разрядного тока через инертный газ при приложении к нему импульсного электрического поля. Длительность импульса напряжения устанавливают расчетным путем до момента начала пробоя в газе, который контролируют по величине разрядного тока, и на фазе начала резкого роста тока и одновременно резкого спада амплитуды импульса напряжения производят искажение заднего фронта импульса напряжения, вводя активное сопротивление в анодную цепь разрядной трубки, чем задают нелинейную скорость изменения заднего фронта импульса напряжения. Это приводит к изменению скорости нарастания концентрации электронов, что позволяет менять время существования сильно неравновесной плазмы до десятков микросекунд. Величину приведенного электрического поля выбирают в пределах (8 - 25) х 10-17 В/см. Способ позволяет достичь неравновесности плазмы Nm/Nl в пределах 10 - 100 и регулировать длительность существования полученной среды в пределах четырех порядков (здесь Nm, Nl - концентрация возбужденных атомов и электронов соответственно). Для стабилизации разряда дополнительно прикладывают фоновое электрическое поле. 1 з. п. ф-лы. 3 ил., 1 табл.

Изобретение относится к физике плазмы и газового разряда и может быть использовано для получения неравновесной плазмы с управляемыми характеристиками, а именно степенью неравновесности плазмы, отношением концентрации возбужденных атомов к электронам. Цель изобретения получение максимально неравновесной плазмы при стабильных условиях воспроизводимости параметров неравновесности. Для этого к плазме прикладывают дополнительно фоновое электрическое поле, контролируют ток разряда в газе, импульс напряжения электрического поля обрывают в момент начала пробоя в газе, причем задают нелинейную скорость изменения его заднего фронта, при этом величину приведенного электрического поля выбирают в диапазоне (8-25) 10-17 В/см2. Кроме того, для периодического возбуждения неравновесного состояния плазмы импульсное электрическое поле прикладывают с периодом следования, равным времени восстановления фонового электрического поля в газе. Характерной особенностью развития ионизации в газах в широком диапазоне условий является запаздывание момента начала интенсивного роста разрядного тока (пробоя) относительно момента приложения электрического поля к газу. Интервал времени, в течение которого проводимость в зазоре медленно нарастает, обусловлен в основном кинетическими процессами, происходящими в разряде при постоянном значении приведенного электрического поля, квазистационарной функции распределения электронов и степени ионизации. Поэтому процесс ионизации можно условно разделить на две стадии: медленную и быструю, которые определяются характерными временами tм и tб После приложения электрического поля к газу, на медленной стадии происходит постепенное накопление возбужденных атомов Nm газа на четырех низколежащих электронновозбужденных уровнях системы в результате возбуждения электронным ударом и электронов Ne. При этом концентрация возбужденных атомов существенно превосходит концентрацию электронов. На быстрой стадии происходит сначала резкий рост концентрации возбужденных атомов за время порядка 1-2 мкс, а затем (через некоторый интервал времени) резкий рост концентрации электронов. Путем обрыва импульса электрического поля после резкого роста концентрации возбужденных атомов, но до начала резкого роста концентрации электронов в разные моменты времени при tn tm можно устанавливать требуемое отношение концентрации возбужденных атомов и электронов, т.е. задавать степень неравновесности плазмы и соответственно изменять вид функции распределения электронов. В результате реализуются режимы с разными значениями приведенного электрического поля /N1 и соотношением между концентрациями возбужденных атомов и электронов. Опытным путем установлено, что при малых значениях параметров E/N1=(8-25)Тдотношение концентраций возбужденных атомов и электронов может достигать 10-100. В этих условиях плазма оказывается недоионизованной и функция распределения электронов сильнонеравновесной и нестационарной. При значениях параметров E/N2>25TдNm/Ne становится 1, а функция распределения электронов близка к максвелловской, равновесной. Величина параметра E/N1<8 не может вызвать заметного возбуждения атомов плазмы. На фиг. 1 приведена схема экспериментальной установки для осуществления способа; на фиг. 2 представлен качественный ход изменения во времени импульсов напряжения (кривая 1) и разрядного тока (кривая 2) в трубке с газом в процессе ионизации; на фиг. 3 представлены зависимости отношения концентрации возбужденных атомов к электронам Nm/Ne от длительности импульса приложенного электрического поля, нормированного к длительности медленной стадии ионизации tn/tm для неравновесного (кривая 1) и равновесного (кривая 2) состояний газовой плазмы. На фиг. 3 показано, что фоновое поле, приводящее к существованию фоновой величины (Nm/Ne), сказывается на ходе процесса ионизации. Так, при tn/tm>tn/tion отношение Nm/Ne<(N<SUB>me) и эта часть кривых характеризует ход пробоя в газе и последующий процесс восстановления фонового электрического поля. При отсутствии фонового электрического поля импульсный разряд является неустойчивым. Предварительная ионизация газа в данных условиях разряда позволяет стабилизировать во времени начало импульсов напряжения и разрядного тока, осуществить пространственную однородность плазмы и хорошую воспроизводимость параметров получаемого осесимметричного разряда. В таблице приведены экспериментально измеренные величины максимального разрядного тока (в момент начала резкого падения напряжения в газе) Iмакс и расчетные величины степени неравновесности плазмы Nm/Ne для различных значений приведенного электрического поля E/N1. Способ осуществляют с помощью устройства, изображенного на фиг. 1, следующим образом. Разряд зажигают в трубке длиной 30 см и диаметром 3 см, заполненной спектрально чистыми инертными газами (гелий, неон, аргон, криптон, ксенон) при давлениях 1-30 мм рт.ст. что обеспечивает получение требуемых малых значений приведенного электрического поля. Конденсатор 1 емкостью С= (0,005-1,0) мкф, заряженный до напряжения 1-10 кВ от высоковольтного источника ВВ-1 2, разряжается через разрядную трубку РТ 3, заполненную газом при давлении 1-30 мм рт.ст. и тираторон ТГИ-16 4, работающий в ключевом режиме. Предварительная ионизация газа осуществляется постоянным фоновым током величиной 0,2-20 мА, формируемым высоковольтным источником ВВ-2 5, включенным в цепь анода разрядной трубки 3 через сопротивления Rб 6 и активное переменное сопротивление Ra 7, которое соединяет анод трубки 3 также с тиратроном. При выбранных параметрах элементов схемы импульсный разряд в газе возникает в результате приложения к нему импульсного напряжения амплитудой 1-10 кВ и длительностью переднего фронта (1-2) 10-7с. В результате амплитуда импульсов разрядного тока составляет 0,1-100 А длительностью 1-3 мкс, а введение активного сопротивления 7 позволяет регулировать величину разрядного тока в импульсе в диапазоне требуемых значений 0,1-1 А (см. таблицу). Активное сопротивление Ra 7 позволяет регулировать отношение Nm/Ne в широких пределах. Величину Ra подбирают опытным путем так, чтобы величина активного сопротивления была сравнима с сопротивлением разрядной трубки РТ 3 в момент времени tm, т.е. 0 Ra Rтр/t-tм. В этом случае за счет перераспределения напряжения между разрядной трубкой 3 и активным сопротивлением 7 можно менять как величину концентрации электронов, так и скорость ее нарастания, не влияя на кинетику возбужденных атомов. Путем подбора активных сопротивлений можно осуществить энергетическое управление скоростью нарастания концентрации электронов, искажая задний фронт импульса напряжения и таким образом изменить время существования неравновесной плазмы при Nm/Ne>10 от десятых долей до десятков микросекунд и при этом регулировать величину разрядного тока в импульсе в диапазоне 0,1-1,0 А. Для получения неравновесной плазмы накладывают ограничения на внешние параметры, а именно на величину зарядной емкости Сн и величину импульсного напряжения. В этом случае энергия, запасенная в конденсаторе Сн, по порядку величины должна соответствовать в основном энергии возбуждения np5 (n+1)S состояний, т.е. 0,5 EвoзбNmVтр где Eвозб энергия возбуждения np5 (n+1)S состояния атомов инертных газов; Vтр объем разрядной трубки, что позволяет приближенно оценить величину зарядной емкости С, используя значения внешнего электрического поля, давление газа и длину разрядного промежутка. При E/N1>25Тд введенная в разряд энергия расходуется, главным образом, на ионизацию атомов, концентрация возбужденных атомов становится сравнимой с концентрацией электронов, поэтому соотношение Nm/Ne становится 0,5 EвoзбNmVтр 1. Поскольку внутренние кинетические процессы в плазме определяют момент наступления пробоя в газе и время наступления пробоя может быть рассчитано теоретически подбором внешних параметров цепи (емкости Сн и амплитуды импульса напряжения U) можно получить такую длительность импульса, которая будет равна промежутку времени от начала воздействия на газ до начала пробоя, что и обеспечит прерывание импульсного воздействия в нужный момент. В качестве примера конкретного выполнения была получена неравновесная плазменная среда в аргоне. В разрядной трубке находится газ под давление 10 мм рт. ст. К трубке прикладывают импульсное электрическое поле, приведенная величина которого составляла 13Тд. Активное сопротивление Raустанавливают равным 240 Ом, пропускают фоновый ток 5 мА. Это позволяет получить разрядный ток величиной 0,8 А, а отношение концентраций возбужденных атомов и электронов Nm/Ne=50. Длительность импульса напряжения 2 мкс. Контроль разрядного тока в импульсе и концентрации возбужденных атомов показывает, что требуемая степень неравновесности плазмы осуществляется при указанных значениях параметров. Контроль проводят по характеристикам послесвечения плазмы. Технико-экономическая эффективность предлагаемого способа заключается прежде всего в возможности регулировать параметры неравновесной плазмы, что может быть использовано при создании источников неравновесной плазмы (плазмотроны). Наиболее важными приложениями представляются научные исследования по изучению физики плазмы, исследованию послесвечения атомов в возбужденном состоянии. Предлагаемый способ позволяет определять эффективные параметры послесвечения, а также величину атомных констант, исследовать сечение возбуждения атомов при различных энергиях. Преимущества предлагаемого способа по сравнению с прототипом состоят в возможности получения неравновесной плазмы с контролируемым соотношением концентраций возбужденных атомов и электронов, что достигается искажением заднего фронта импульса напряжения за счет аппаратурного приема. Получаемая неравновесная плазма характеризуется хорошей воспроизводимостью параметров, а за счет использования фонового поля пространственной однородностью в продольном направлении и осесимметричным разрядом, стабилизацией во времени импульсов напряжения и разрядного тока.

Формула изобретения

1. СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ НЕРАВНОВЕСНОЙ ПЛАЗМЕННОЙ СРЕДЫ, включающий пропускание разрядного тока через инертный газ при приложении к нему фонового электрического поля и подачу импульса электрического поля, отличающийся тем, что, с целью получения неравновесной плазмы с высокой концентрацией возбужденных частиц при стабильных условиях воспроизводимости параметров неравновесности, к плазме прикладывают стационарное фоновое электрическое поле, контролируют ток разряда в газе, при этом импульс напряжения электрического поля обрывают в момент начала пробоя в газе и формируют спадающий фронт импульса напряжения с помощью активного сопротивления, включенного последовательно в разрядную электрическую цепь, причем величину приведенного электрического поля выбирают в диапазоне (8 - 25) 10-17 В/см2. 2. Способ по п.1, отличающийся тем, что, с целью периодического возбуждения неравновесного состояния плазмы заданной величины, импульсное электрическое поле прикладывают с периодом следования, равным времени восстановления фонового электрического поля в газе.

РИСУНКИ

Рисунок 1, Рисунок 2, Рисунок 3, Рисунок 4

MM4A Досрочное прекращение действия патента Российской Федерации на изобретение из-за неуплаты в установленный срок пошлины за поддержание патента в силе

Дата прекращения действия патента: 30.06.1996

Номер и год публикации бюллетеня: 14-2001

Извещение опубликовано: 20.05.2001        




 

Похожие патенты:

Изобретение относится к области энергетики и может быть использовано для получения плазмы в магнитогидродинамических генераторах

Изобретение относится к области энергетики и может быть использовано для получения плазмы в магнитогидродинамических генераторах

Изобретение относится к способам поверхностной обработки импульсной плазмой и может быть использовано в авиационной и металлообрабатывающей промышленности

Изобретение относится к технической физике

Изобретение относится к физике высокотемпературной плазмы и может быть использовано при разработке импульсных источников рентгеновского и нейтронного излучений

Изобретение относится к технике сильноточных генераторов однородной в больших (более ТО л) рабочих объемах плазмы

Изобретение относится к энергетике и может быть использовано для получения плазмы на магнитногидродинамических (МГД)-электростанциях

Изобретение относится к плазменной технике, а более конкретно к устройствам для ускорения заряженных частиц, и может быть использовано, в первую очередь, для обработки высокоэнергетическими плазменными потоками металлических поверхностей с целью повышения таких их характеристик как чистота поверхности, микротвердость, износостойкость, коррозионная стойкость, жаростойкость, усталостная прочность и др

Изобретение относится к системам тепловой защиты из огнеупорного композитного материала, которые охлаждаются потоком жидкости, и более точно касается конструкции тепловой защиты для отражателя камеры удерживания плазмы в установке термоядерного синтеза, охлаждающего элемента, который использован в конструкции тепловой защиты, и способа изготовления такого охлаждающего элемента

Изобретение относится к электротехнике и может быть использовано для получения электрической энергии путем преобразования тепловой энергии плазмы в электрическую

Изобретение относится к области технологии очистки и обезвреживания отходящих газов, газовых выбросов различных производств и процессов, а также плазмохимического синтеза химически активных соединений с использованием электрических методов, в частности к устройству газоразрядных камер, в которых производят процесс детоксикации и очистки
Наверх