Способ дозирования плохо сыпучего материала

 

Изобретение относится к черной металлургии и может быть использовано при производстве окускованного сырья для металлургического передела, Цель изобретения - повышение точности дозирования. Осуществляется поддержание во втором бункере 4 в определенных пределах минимального объема материала, величина которого определяется из соотношения Амакс У Уф где Амакс. - максималь2 VMWH ная амплитуда колебаний расхода плохо сыпучего материала; умин - минимальная частота колебаний расхода плохо сыпучего материала; у - насыпная плотность плохо сыпучего материала. 3 ил. ё

СОЮЗ СОВЕТСКИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ

РЕСПУБЛИК

=с (я)s G 01 F 11/28

ГОСУДАРСТВЕННЫИ КОМИТЕТ

ПО ИЗОБРЕТЕНИЯМ И ОТКРЫТИЯМ

ПРИ ГКНТ СССР

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ (21) 4697541/10 (22) 29.05.89 (46) 30.!0.91. Бюл, М 40 (71) Донецкий научно-исследовательский институт черной металлургии (72) С,Г. Савельев, В,А. Мартыненко, И.И.

Шестопалов, И.И. Кочевенко, И.М. Мищенко, Ш,Джаббаров, В.Д. Кучук и В,Н. Домничев (53) 66,028(088.8) (56) Орлов С.П. Дозирующие устройства. М.:

Машиностроение, 1966, с. 28- 30, Авторское свидетельство СССР

М 527600, кл. G 01 G 11/08, 1975. (54) СПОСОБ ДОЗИРОВАНИЯ ПЛОХО СЫПУЧЕГО МАТЕРИАЛА

Изобретение относится к черной металлургии и может быть использовано при производстве окускованного сырья для металлургического передела.

Целью изобретения является повышение точности дозирования.

На фиг. 1 представлена схема устройства для реализации способа; на фиг. 2 — диаграмма колебаний расхода материала при выдаче его из первого бункера; на фиг. 3— схема изменения уровня материала во втором бункере.

Устройство для осуществления способа включает ленточный конвейер 1, первый бункер 2, на выходе которого размещен питатель 3, второй бункер 4, на выходе которого размещен питатель 5.

Способ осуществляется следующим образом.

„„Я „„1688116 А1 (57) Изобретение относится к черной металлургии и может быть использовано при производстве акускованного сырья для металлургического передела. Цель изобретения — повышение точности дозирования.

Осуществляется поддержание во втором бункере 4 в определенных пределах минимального объема материала, величина которого определяется иэ соотношения

Амакс

Чф —, где Ам,кс. — максималь2 vMw ная амплитуда колебаний расхода плохо сыпучего материала; уми, — минимальная частота колебаний расхода плохо сыпучего материала; y — насыпная плотность плохо сыпучего материала. 3 ил.

По ленточному конвейеру 1 в первый бункер 2 подают материал, который посту- а пает через питатель 3, установленный на 0с, необходимый расход материала, во второй ()О бункер 4 и заполняет его до уровня, соответ- 0р ствующего фиксированному количеству материала Чф. После этого включают питатель

5, предварительно установленный на необходимый расход материала. В процессе дозирования уровень материала во втором бункере 4 непрерывно колеблется, не превышая значения, соответствующегодвойно- а му заданному объему его заполнения Чр и не опускаясь до нулевого уровня, т.е. во втором бункере 4 постоянно находится материал, объем которого минимален, что, с одной стороны сокращает время нахождения материала в бункере и, следовательно, предотвращает образование сводов, а с

1688116 другой стороны, обеспечивает непрерывность потока материала на питателе 5.

Определение фиксированного количества материала во втором бункере 4 основано на закономерност$lx, вытекающих из колебательного характера изменения расхс«да материала в процессе дозирования.

Mecca материала во втором бункере 4 к моменту начала его разгрузки должна соответствовать величине, определяемой по фОрмуле

Тмакс

Р =Амакс

ГДЕ Амакс — МаКСИМаЛЬНаЯ аМПЛИтУДа КОЛЕбаний расхода материала;

Тмакс ПЕРИОД ОДНОГО ПОЛНОГО КОЛЕбанйя расхода материала на выходе питател «З;

2 — коэффициент, учитывающий, что откЛонение расхода материала с минимальНОй амплитудой не может длиться дольше половины периода.

После замены периода колебаний его частотой и деления обоих частей уравнения на насыпную плотность материала получится формула для определения фиксированного количества материала во втором бункере 4; макс

Чф—

2 мин у где Умин, — минимальная частота колебаний расхода материала; у — насыпная плотность материала.

Поскольку расход материала может откЛоняться от установленной величины как в «иеньшую, так и в большую сторону, объем второго бункера 4 следует выбирать не меньшим двойного фиксированного количе.ства материала в нем, т.е. Ч2 2Чф.

Параметры Амакс, Рмакс и у определяют экСпериментально путем анализа диаграмм

5 автоматических приборов непрерывного контроля массы материала на выходе питателя 3 либо с помощью провесок проб материала, непрерывно отбираемых за короткие промежутки времени работы дозатора.

Формула изобретения

Способ дозирования плохо сыпучего материала, заключающийся в том, что плохо сыпучий материал подают через первый

15 бункер с ленточным конвейером во второй бункер до накопления в последнем фиксированного количества материала, после чего осуществляют непрерывную выдачу плохо сыпучего материала через питатель

20 второго бункера, поддерживая в последнем фиксированное количество плохо сыпучего материала,отл ича ющи йся тем, что, с целью повышения точности, определяют максимальную амплитуду и минимальную

25 частоту колебаний расхода плохо сыпучего материала на выходе питателя второго бункера, а фиксированное количество плохо сыпучего материала во втором бункере определяют из выражения

ЗО

Амакс чф—

2 1 мин где Амакс — максимальная амплитуда колебаний расхода плохо сыпучего материала; юмин, — минимальная частота колебаний расхода плохо сыпучего материала; у — насыпная плотность плохо сыпучего материала, 40

1688116

q5

В.

": lt0

55 и

f1

25 го

80 190 200 2IO 220 250 240

Вромя, о

Составитель Г. Мостовая

Редактор М. Циткина .Техред M.Ìîðãåíòàë Корректор M. Шароши

Заказ 3703 Тираж Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета по изобретениям и открытиям при ГКНТ СССР

113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., 4/5

Производственно-издательский комбинат "Патент", r. Ужгород, ул.Гагарина, 101

Способ дозирования плохо сыпучего материала Способ дозирования плохо сыпучего материала Способ дозирования плохо сыпучего материала 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к технике объемного дозирования и позволяет повысить производительность устройства

Изобретение относится к технике автоматического измерения расхода жидкости, заданного объема жидкости и регулирования скорости ее истечения и может быть использовано в технологических процессах периодического непрерывного характера в химической и других отраслях промышленности

Изобретение относится к дозаторам жидкости и позволяет упростить их конструкцию и повысить однородность дозируемой жидкости

Изобретение относится к оборудованию для подачи легкосцепляемых сыпучих материалов

Изобретение относится к объемным дозирующим устройствам и позволяет повысить производительность и удобство эксплуатации

Изобретение относится к дозированию сыпучих материалов

Изобретение относится к технике дозирования сыпучих материалов

Изобретение относится к технике автоматического измерения расхода жидкости, заданного объема жидкости и регулирования скорости ее истечения

Изобретение относится к теплоэнергетике и может применяться при диспергировании жидкости с жидкостями, например воды и органического топлива

Изобретение относится к управлению скорости подачи топлива в двигатель внутреннего сгорания, предпочтительно непосредственным впрыскиванием

Изобретение относится к контрольно-измерительной технике и предназначено для дозирования жидкости и регистрации количества доз

Изобретение относится к устройствам для непрерывного дозирования порошкообразных и мелкозернистых сыпучих продуктов

Изобретение относится к средствам дозирования и может быть использовано для объемного порционного дозирования легкого сыпучего материала, в частности вспученного перлита

Изобретение относится к средствам для образования паровой и парогазовой смеси, используемой при высокотемпературной обработке изделий в производстве полупроводниковых приборов и интегральных схем

Изобретение относится к средствам для образования паровой и парогазовой смеси, используемой при высокотемпературной обработке изделий в производстве полупроводниковых приборов и интегральных схем

Изобретение относится к санитарной технике и может быть использовано для автоматического полива огородных культур с заданным интервалом времени; для точного дозирования жидкости, без ее перелива; для смыва унитазов в туалетах общественного пользования и т.п

Изобретение относится к средствам контроля уровня и может быть использовано, например, в сельском хозяйстве, а именно в тепличном хозяйстве, гидропонике, а также машиностроении и т.д

Изобретение относится к области дозирование материалов, в частности, к устройствам объемного дозирования жидкости и может быть использовано в технологических линиях по производству строительных материалов, например, керамзитопенобетонных стеновых блоков и других изделий
Наверх