Способ измерения непрямолинейности цилиндрических отверстий

 

Изобретение относится к измерительной технике и может быть использовано для измерения непрямолинейности цилиндрических отверстий. Целью изобретения является расширение типоразмеров контролируемых отверстий за счет отсутствия ограничений количества отражений пучков лучей в контролируемом цилиндрическом отверстии. Пучки лучей лазера 1 собираются объективом 2 на диафрагме 3. После диафрагмы пучок лучей попадает в цилиндрическое отверстие 4 и после многократных отражений от цилиндрическом поверхности отверстия 4 в плоскости регистрации Р образуется кольцевая картина, при этом величина непрямолинейности определяется по эксцентриситету колец из соотношения о 4( а расстояние X от контролируемого сечения до плоскости регистрации определяется по формуле X С 2Н 0„ - величина непрямолинейности контролируемого сечения цилиндрического отверстия; N - число отражений пучков лучей; С - расстояние от центра пучков лучей до плоскости регистрации P,s a. - величина эксцентриситета кольцевой картины, 1 ил. i (Л

(gg)g G 01 В 11/27

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

К А ВТОРСЙОМ,Ф СВИДЕТЕЛЬСТВУ с

P ф

) !ф,, х фу1 ссюз сснхтсних

РЕСПУБЛИК

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ НОМИТЕТ

ПО ИЗОБРЕТЕНИЯМ И О! НРЫТИЯМ

ПРИ ГКНТ СССР (21) 4724480/28 (22). 03.05.90 (46) 30.12.91. Бюл. Р" 48 (72) А.С,Британ (53) 531,525 (088,8) (56) Методы неразрушающих испытаний/

Под ред. P.màðïà. - M. Мир, 1972, с . 191-1,94, (54) СПОСОБ ИЗМЕРЕНИЯ НЕПРЯМОЛИНЕЙНОСТИ ЦИЛИНДРИЧЕСКИХ ОТВЕРСТИЙ (57) Изобретение относится к измерительной технике и может быть использовано для измерения непрямолинейности цилиндрических отверстий, Целью изобретения является расширение типоразмеров контролируемых отверстий за счет отсутствия ограничений количества отражений пучков лучей в контролируемом цилиндрическом отверстии. Пучки лучей лазера 1 собираются объективом 2 на диафраг„„SU„„1702177 А 1

2 ме 3. После диафрагмы пучок лучеи попадает в цилиндрическое отверстие 4 и после многократных отражений от цилиндрической поверхности отверстия

4 в плоскости регистрации P образуется кольцевая картина, при этом величина непрямолинейности определяется по эксцентриситету колец из соотношения g = --Ф;-С а расХ 2" стояние Х от контролируемого сечения до плоскости регистрации определяется по формуле Х

С

--ц, где aha — величина непрямолинейности контролируемого сечения цилиндрического отверстия; N - число отражений пучков лучей; С вЂ” расстояние от центра пучков лучей до плоскости регистрации Р; а — величина эксцентриситета кольцевой картины, 1 ил, 1702177

35

С

2"

С

X =

2" где „

Изобретение относится к измерительной технике и может быть использовано для измерения непрямолинейности цилиндрических отверстий, Цель изобретения - расширение типоразмеров контролируемых отверстий за счет отсутствия ограничений количества отражений пучков лучей в контролируемом цилиндрическом отверстии, 10

На чертеже представлена функциональная схема устройства, реализующего предложенный способ, Устройство содержит формирователь сферического пучка лучей, выполнен- 15 ный в виде лазера 1 и последовательно установленных по ходу пучка лучей лазера 1 объектива 2 и диафрагмы 3.

После диафрагмы 3 устанавливают контролируемое цилиндрическое отверстие 20

4 так, чтобы его ось проходила через диафрагму 3. После контролируемого цилиндрического отверстия 4 в плоскости регистрации P размещают регистрирующий узел в виде фотоплас25 тинки или оптического наблюдательного прибора (не показаны), Пучки лучей лазера 1 собираются объективом 2 на диафрагме 3. После диафрагмы 3 пучок лучей попадает в цилиндрическое отверстие 4 и после . многократных отражений от цилиндрической поверхности отверстия 4 в плоскости регистрации P образуется кольцевая картина, при этом величина непрямолинейности определяется по эксцентриситету колец иэ соотношения а расстояние X от контролируемого сечения до плоскости регистрации on45 ререляется по формуле где в — величина непрямолинейности х контролируемого сечения цилиндрического отверстия;

N — число отражений пучков лучей;

С - расстояние от центра пучков лучей (диафрагмы 3) до

55 плоскости регистрации; я — величина эксцентриситета

И кольцевой картины, Вывод указанной выше формулы основан на законах геометрической оптики, Перемещением контролируемого цилиндрического отверстия 4 вдоль его оси можно измерять форму любого сечения контролируемого цилиндрического отверстия 4, По сравнению с известными техническими решениями предложенный способ обеспечивает измерения непрямолинейности большего числа типоразмеров цилиндрических отверстий за счет того, что отсутствует ограничение количества отражений в контролируемом цилиндрическом отверстии, Формула и з о б р е т е н и я

Способ измерения непрямолинейности цилиндрических отверстий, заклю-. ,чающийся в том, что на цилиндрическую поверхность отверстия направляют пучок лучей, получают в плоскости регистрации, расположенной после отверстия, картину распределения освещенности, измеряют параметры этой картины, по которым рассчитывают величину непрямолинейности, отличающийся тем, что, с целью расширения типоразмеров контролируемых отверстий, на цилиндрическую поверхность отверстия направляют сферический пучок лучей с центром на оси отверстия, величину непрямолинейности определяют по эксцентриситету колец в картине распределения освещенности из соотношения а расстояние Х от контролируемого сечения до плоскости регистрации определяют по формуле величина непрямолинейности контролируемого сечения, число отражений пучков луча расстояние от центра пучков лучей до плоскости регистра" ции, величина эксцентриситета кольцевой картины.