Способ формирования электронных пучков с помощью взрывоэмиссионной электронной пушки

 

Изобретение относится к ускорительной технике, в частности к устройствам генерирования сильноточных электронных пучков (СЭП) и может быть использовано для формирования СЭП с различной формой поперечного сечения. Цель изобретения - повышение однородности плотности тока и стабильности параметров формируемого пучка. При осуществлении способа взрывоэмиссионную пушку нагружают во внешнее магнитное поле, создаваемое соленоидом 6. Создают анодную плазму с помощью низковольтного пеннинговского разряда. Длительность горения пеннинговского разряда выбирают из условия t2120M1/2P , где М - масса атома рабочего газа, г; P - давление рабочего газа, мм рт. ст. Подают на катод 4 от ГИН биполярный импульс напряжения и формируют сильноточный элекронный пучок. При реализации способа нестабильность тока пучка не наблюдалась и после 1106 импульсов. 5 ил.

Изобретение относится к технике генерирования сильноточных электронных пучков (СЭП) и может быть использовано для формирования и транспортировки импульсных СЭП с различной формой поперечного сечения. Целью изобретения является повышение однородности плотности тока и стабильности параметров формируемого пучка. На фиг. 1 приведена конструктивная схема устройства реализации способа; на фиг. 2, 3, 4 и 5 - фотографии отпечатков пучка на винипрозе и характерные осциллограммы плотности тока, полученные в сравнительном эксперименте. Устройство реализации способа содержит кольцевой анод 1 и сетчатые молибденовые катоды 2 и 3, которые образуют газоразрядную пенинговскую ячейку. Катод электронной пушки 4 образует с сетчатым катодом 2 пеннинговской ячейки ускоряющий промежуток. Электроны пучка поглощаются коллектором 5 (при удалении сетчатого катода 3 коллектор 5 может являться одним из катодов ячейки). Секционированный соленоид 6 создает магнитное поле напряженностью до 2 кЭ, служащее одновременно для зажигания пеннинговского разряда и для транспортировки формируемого пучка. Вакуумный кожух 7 устройства снабжен каналом 8 для напуска рабочего газа. Устройство также содержит генератор импульсных напряжений (ГИН) 9, блок питания пеннинговского разряда (БПР) 10 и схему синхронизации 11. При осуществлении способа пушку погружают во внешнее магнитное поле, создаваемое соленоидом 6. Далее создают анодную плазму с помощью низковольтного паннинговского разряда. Для этого по каналу 8 подают рабочий газ и включают БПР. При этом длительность горения пеннинговского разряда выбирают из условия t2 = 120 М1/2Р, где М - масса атома рабочего газа, г; Р - давление рабочего газа, мм рт. ст. При подаче на катод 4 от ГИН 9 биполярного импульса напряжения формируют сильноточный электронный пучок. Повышение одновременности плотности тока и стабильности параметров формируемого пучка объясняется лучшей однородностью распределения концентрации плазмы, создаваемой импульсным пеннинговским разрядом, вследствие объемного характера ионизации газа в таком разряде. Напротив, искровые источники плазмы являются точечными и генерируют плазму отдельными сгустками в течение импульса тока искрового разряда. Плотность тока СЭП, формируемого в двойном слое между катодной и анодной плазмами, определяется параметрами анодной плазмы jе = ji (М / m1/2), (1) где ji = 0,4еna (2КTe / M)1/2, (2) где ji - плотность ионного тока насыщения анодной плазмы; na - концентрация плазмы; Те - температура электронов плазмы; m и М - масса электрона и иона соответственно; е - заряд электрона; К - постоянная Больцмана. Поэтому неоднородность и нестабильность анодной плазмы приводит к неоднородности и нестабильности параметров формируемого пучка. Длительность горения импульсного пеннинговского разряда выбирается из определенного условия. Это связано с тем, что через определенное время импульсный пеннинговский разряд может перейти из режима тлеющего разряда в дуговой при возникновении взрывоэмиссионных центров (ВЦ) на катодах ячейки. Появление ВЦ, являющихся начальной стадией катодных пятен, обусловлено пробоем неметаллических включений и пленок при их зарядке ионным током из плазмы. Время запаздывания пробоя для этого случая можно оценить по соотношению t3= (3) где 2-2,5 - диэлектрическая проницаемость материала включения или пленки; Eпр5106 B/см - пробивная напряженность электрического поля материала включения или пленки; о - диэлектрическая постоянная. Поскольку появление катодных пятен означает нарушение однородности и стабильности параметров анодной плазмы, то время горения импульсного пеннинговского заряда должно быть t2 t3. (4) Импульсный пеннинговский разряд отличается высокой степенью ионизации ( 90% ). Считая ионизацию газа однократной и стопроцентной, можно выразить концентрацию анодной плазмы через давление рабочего газа Р, мм рт. ст, na= P см-3, (5) где nо = 2,691019 см-3 - число Лошмидта. Подставляя в выражение (4) численные значения величин и Епр и используя выражения (2), (3) и (5), получим t2 120 м1/2/P, с. (6) При проведении сравнительных экспериментов источник анодной плазмы на основе пеннинговского разряда заменялся искровым источником анодной плазмы, питаемым отдельным блоком поджига. Применение сетчатых катодов (характерный линейный размер ячеек сетки составлял b = 0,2 см) обеспечивает проникновение анодной плазмы в ускоряющий промежуток и пространство дрейфа (пространство между сетчатым катодом 3 и коллектором 5) при условии h << b, где b - толщина прикатодного слоя объемного заряда ионов. Величину h можно оценить в предположении, что слой объемного заряда, возникающий вблизи сетчатых катодов 2 и 3, являлся ленгмюровским h= , (7) где Uр - характерное напряжение горения пеннинговского разряда. Подставляя в формулу (7) численные значения величин, определяем диапазон давлений, в котором выполняется условие h << bP 10-4-10-3 мм рт. ст. Характерные значения Up 300-500 В и Te510-4K . На фиг. 2 и 3 приведены фотографии отпечатков пучка на винипрозе, полученные при различных способах создания анодной плазмы: искровым источником (см. фиг. 2) и источником на основе пеннинговского разряда в аргоне при Р = 110-3 Торр (см. фиг. 3). Максимальное ускоряющее напряжение, ток пучка, длительность импульса, напряженность внешнего ведущего магнитного поля были одинаковы в обоих случаях и составляли: U = 30 кВ, In = 103 А; u = 510-7 с, Н = 1,5 кЭ. Из полученных фотографий видно улучшение однородности плотности тока по сечению пучка, полученного по предлагаемому способу. Время горения пеннинговского разряда t2110-6 с. На фиг. 4 и 5 приведены характерные осциллограммы плотности тока, полученные при диаметре коллимирующего отверстия d = 0,05 см, для обоих способов создания анодной плазмы: искровым источником (см. фиг. 4) и источником на основе пеннинговского разряда (см. фиг. 5). Видно, что осциллограмма первого типа является более "изрезанной" (причем местоположение, количество и амплитуда всплесков хаотически меняются от импульса к импульсу), что свидетельствует о большей пространственно-временной нестабильности формируемого пучка. Ресурсные испытания катодов электронной пушки, изготовленных по идентичной технологии, показали, что при использовании искрового источника плазмы регулярные нестабильности тока пучка не наблюдались через 3105 импульсов, в то время как при использовании плазмы пеннинговского разряда нестабильности тока пучка не наблюдались и после 1106 импульсов. Токовая нагрузка на катод 4 была одинакова в обоих случаях. Уменьшение массы катода 4 после 1 2106 включений при одинаковой токовой нагрузке составило 0,1 и 0,04 г для искрового и пеннинговского источников анодной плазмы соответственно. Уменьшение величины удельной эрозии ведет к повышению стабильности параметров формируемого СЭП вследствие увеличения долговечности катода. Проверка соотношения (6) показала, что в рассматриваемом случае значения t2 укладывались в интервал (150-400)М1/2/Р, что связано с определенной производительностью параметров и Епр. Увеличение времени горения импульсного пеннинговского разряда свыше указанной величины приводило к неоднородности плотности тока и нестабильности его параметров. Таким образом, изобретение позволяет улучшать однородность плотности пучка и стабильность параметров формирующего СЭП. (56) Иремашвили Д. В. и др. ЖТФ, т. 49, N 7, 1979, с. 1485-1490. Бугаев С. П. и др. Электронные пучки большого сечения. М. : Энергоатомиздат, 1984, с. 66, 67. Авторское свидетельство СССР N 1478891, кл. Н 01 J 3/02, 1988.

Формула изобретения

СПОСОБ ФОРМИРОВАНИЯ ЭЛЕКТРОННЫХ ПУЧКОВ С ПОМОЩЬЮ ВЗРЫВОЭМИССИОННОЙ ЭЛЕКТРОННОЙ ПУШКИ, заключающийся в погружении пушки во внешнее ведущее магнитное поле, создание в ней анодной плазмы и подачи на катод биполярного импульса напряжения, отличающийся тем, что, с целью повышения однородности плотности тока и стабильности параметров формируемого пучка, анодную плазму создают с помощью низковольтного пеннинговского разряда, длительность горения которого выбирают из условия t2 120 M1/2/P, с, где M - масса атома рабочего газа, г; P - давление рабочего газа, мм рт. ст.

РИСУНКИ

Рисунок 1, Рисунок 2, Рисунок 3, Рисунок 4, Рисунок 5

MM4A Досрочное прекращение действия патента Российской Федерации на изобретение из-за неуплаты в установленный срок пошлины за поддержание патента в силе

Номер и год публикации бюллетеня: 10-2002

Извещение опубликовано: 10.04.2002        




 

Похожие патенты:

Изобретение относится к электронно-лучевому оборудованию, в частности к оборудованию для контроля параметров электронных пучков, и может быть использовано при проведении физических и прикладных исследований электронных пучков

Изобретение относится к электронной технике, в частности к технике получения импульсных сильноточных релятивистских электронных пучков

Изобретение относится к электронно-лучевой технике, в частности, к технике получения электронных пучков с большим поперечным сечением, и может быть использовано при обработке электронами больших поверхностей твердых тел или газовых объемов

Изобретение относится к области сильноточной электроники и может быть использовано в ускорительной технике, электронных приборов, установках для поверхностной обработки деталей

Изобретение относится к устройствам для лучевой обработки материа .лов и может быть использовано в любой отрасли народного хозяйства, например для газоразрядных электронно-лучевых пушек с плазменным эмиттером, основанным на извлечении электронов из прикатодной области газового разряда

Изобретение относится к плазменным источникам заряженных частиц дли ионной очистки изделий из тугоплавких материалов

Изобретение относится к электронной технике, в частности к конструкциям электронно-оптических систем

Изобретение относится к электронной технике, а именно к многолучевым электронным пушкам для мощных СВЧ-приборов О-типа

Изобретение относится к электронике и может быть использовано в качестве источника интенсивных электронных потоков, а также в качестве источника ионов

Изобретение относится к источникам электронного и рентгеновского излучений, которые могут применяться при исследованиях в области радиационных физики и химии, радиобиологии, а также в радиационных технологиях, например в химической промышленности, медицине и др

Изобретение относится к области электронной техники и может быть использовано в электронных приборах различного типа с катодами, работающими в режиме автоэмиссии

Изобретение относится к ускорительной технике и может быть использовано для формирования наносекундного пучка электронов

Изобретение относится к электроннолучевым устройствам и может быть использовано в электроннолучевой технологии, например, для сварки изделий в вакууме, в ускорительной технике, экспериментальной физике

Изобретение относится к области электронной техники, а именно к электронным отпаянным пушкам, обеспечивающим вывод электронного потока из вакуумной области пушки в атмосферу или иную газовую среду, и может быть использовано, например, для стерилизации медицинских изделий

Изобретение относится к электровакуумным приборам СВЧ, в частности к лампам бегущей волны О-типа или клистронам с низковольтной модуляцией электронного потока (ЭП), использующим пушки с сетками

Изобретение относится к электронике и может быть использовано при создании электронных приборов, лазеров, а также в плазмохимии, спектроскопии, при обработке материалов, электронно-лучевой сварке и в диагностических измерениях
Наверх