Устройство для выращивания монокристаллов из расплава

 

Изобретение относится к технологии полупроводниковых материалов, а более конкретно к устройствам для выращивания монокристаллов из расплава,и обеспечивает увеличение стабильности скорости перемещения кристаллодержателя при, стях вытягивания кристаллов порядка 0.1-Ю ММ /Ч. УСТРОЙСТВО СОСТОИТ ИЗ K5VOpb с нагревателем и тиглем, датчикз с ссь; кристалла или тигля с блоком регулирорячиз мощности нагревателя, механизма еытчгпвания кристалла с датчиком положек.-, крнсталлсдеожателя и регулируемым э. рпприводсм. Отличие заключается р т;м, что ДЭТЧИК ПОЛОженИР КрИСТалЛСДерА Лй Ebiполнен в виде двух пндуктив. -их rvi-e- -. одна из которых закреплена на направляющих корпуса механизма ьытягирзчия. а лгл гая - на каретке, и б г сa p irnc-рн i: .i, соединенного t т осприьс д.-., Vr.c i -- ние ввода штока рэамещечс ь cve -n-cf г т , кане. Сопряженные г:с р .н:::-н т.--,, .- и направляющих выполи-:.и плсс .м.-,1 а :л мера соединена с механизмом вы: я г и г.-.г. ,. через упругий элемент. 5 ил с:

сОюэ сОВетских

СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ

РЕСПУБЛИК

isles С 30 В 15/30, 1.-5/24

ГОСУДАРСТВЕОНЫй КОМИТЕТ

ПО ИЗОБРЕТЕНИЯМ И ОТКРЫТИЯМ

ПРИ ГКНТ СССР

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

« ь (Ю

ОГ р .)--t (21) 3937901/26 (22) 23,08.85 (4б) 23.01.92. Бюл. hk 3 (7;;1 Институт кристаллографии им. А.В.Шубникова и Специальное конструкторское бюро Инс итута кристаллографии им

А.B.Шубникова (72) Э.Я.Станишевский, Б.К.Севастьянов, Ю.В.Семенков, И.Е.Лифшиц, А.П.Чиркин и

Я.В.Васильев (53) 621.315.592(088.8) (5б) Вильке К.Т. Выращивание кристаллов.

Л.: Недра. 1977, с.341.

Установка типа MSP1 или MSP2, Проспект фирмы Metals Research". !

54) УСТРЭЙСТВО ДЛЯ ВЫРАЩИВАНИЯ

1.10НОКРИСТАЛЛОВ ИЗ РАСПЛАВА (57) Изобретение относится к технологии полупроводниковых материалов, а более конкретно к устройствам для выращивания монокристаллов из расплава, и обеспечиваИзобретение относится к устройствам для выращивания монокристаллов иэ расплава преимущественно по методу Чохральского.

Целью изобретения является увеличение стабильности скорости перемещения кристаллодержателя при скоростях вытягивания кристаллов порядка 0,1 — 10 мм/ч.

На фиг.1 схематически изображено заявляемое устройство с датчиком массы тигля, общий вид; на фиг.2 — механизм перемещения с датчиком положения кристаллодержателя; на фиг,3 — устройство с датчиком массы кристалла, общий вид; на фиг.4 — разрез А-А на фиг.2; на фиг.5 — вид Б на фиг,4.,„. Ж „„1707089 А

Вт /Bed«M 4еН><е ста5ил ь нссти C:opocT>l f1 el. мещения кристаллодержателя r«pil ° оростях вытягивания кристаллов пс р qла

0 1-10 мм /ч, Устройстго состоит из Ka ."p.i

С нагревателем и тиглел длтч .>. ".;.ссь л-,сталла или тигля с бл. Ко> рег>: < „.

МОЩНОСТИ НаГРЕВатЕЛЯ. М Ханпэь;а ВЬ«тГ,;вания кр OTaлла с датч >.oi ooло: е .; к Г >;

СталлОдЕОжа.Еля и рс.г,. >;::УЕ>1ым:2 приводом. Стлич,le aaKЛ«г«чазтся в тс .;, ч . датчик положенис крис-.з;.лс с„-..: .;я =«,полнен в виде д ух пндуктив" >: одна иэ которых закреплена нз напгавля;-щих корпуса меланизл,а ьытягl .:"" ия,;l,гая — - а каоетке. и б;.-.;. с г,;с-;.2 н 1, соедин е> но о з .е" .,с и;ч ьс,, . У,". ;>

HVe Вьода LiIOK2 Pac> ЕL>,e",O «. .,". i > кане. Сопряжен:,; по:;; .н" -; -,"--, .1 ндправлРющил н i..о,",н н, плс. мера соединена с механ,.змол -,,i-. ->.;,через упруг и зле>кент. 5 ил

Устройство содержи1 сто> ину 1, у тановленную на ней «.р,;с,a;,л;;за.,ио>iíy«o ламеру 2 с нагревателем 3 и иглем 4, датчик

5 массы тигля 4. механизм б вытягивания кристалла 7 с регулируел".blf4 з leKTpor,«o дом, включающ; 4 двигатель 8;1Gcto÷íí.-;o тока, например, ДК-1 с талоген=„"атсрсл. =, полупроеодникзг>ый грес,бразз зте ь 10 выполненный, напри..;ер, на базе гине йн" с преобразователя типа УПЛ-;, и блок 11 рс-гистрации, например, БИl -1И, да -,:<;o;;Cжения кристаллодержател„,";. выпс.",.-.::.-<««ы . в виде двух индуктивных л 1«чеек 12, =,..::2 -«з

KoTopàõ закреплена н2 KOo>1 ce с !- 2 г . -! ющими 13 механизма б вытягивания, à 2

1 07080 рая — ía его аретке ".4 Д-..u«t 5 массы

Т11гля 4 электрически соед;н:>. с н=гп".еат;:лем 3 через блок 15 регул>1рс.э -«= .10...и:.сти нагревателя, Кристаллиэацl :,, H-:!>3

I камера 2 соединена с механизмом 6 вь гяl иван«я кристалла через упругий элемент 16 выполненный, например, в В«ре ма .жеты из эластичного материага ил 1 с.1л фона и т.п.

Устройство может быть выполнено с датчиком 17 массы растущего кристалла (фи r.3).

Уплотнение 1Я ввода штока 191ристаллодержателя в кристаллиэационную камеру

2 размещено в стакане 20, закрепленном во

1ланце 21 корпуса 13 механизма 6 ьытя иван«Я кристалла с помощь о гайки 22 (ф Г.4).

Кар?тка 14 размЕщвна В ПлоСких на.ipa3r Bн3щ1х корпуса "3 меха".13мз 6 в тя11ван;1Я но«с1 aa- (; «> .) Инду>.тивные линеi1!!1 ) 2 ч> Г>.3 +)>0 1 Г>е!!1стг 3>, >1>1 .рс","аэователь 10 совT>>не>1ы с д:-!1!ВТ

-.eI1 Ь Г>Е)->,:,".«Р„ЕМ0. 0 3?0> TPOC>P«BCäa, УСГГ>эйство ра501?е1 ледуюи .1>л обра30 1.

Б по)лость Harpeвателя 3 ус анзвл«вэют

Tvlleль 4 с исходным еее.естзок1, вav,у> ..Ovзл;>>эационн> ю кэ, "1у 2 екл 0 ->,>ГОД=лов 0ХЛахКДЕн> Е il t -«Г В > 10C е

)а-о,г>-С .1Я BKrl>0uàIOT I e .?H!13>.1 r Bt 1 11> я Р,i„lar а7. Сэ,0 0 >л ч .-. H -> нa> с-,счет д;,и ь. кр.>с-а". а !л= ?-BIO на

Г,-Уа 1 1,?Г«.;-- °,,1e; ).= .. )t!.: >- к>> и!ЕТ. >" > ° 1 -. Pa т ГуРу. э 1 3 >!e > 3> . 3» 3 6 В>) т Я Г!1>>а>»1Я)

>1 н:-л эт ин, кт«еных г« -еек 12 датч«ка

-10->0.» .erl с к,.1C1aЛЛОДЕГ Ч ЗТ ЛЯ С Д«CKPETcì Рс д.-„e в 5 мкм Г>с>д3еТСЯ ч-реа бгок

11 реги".тоз,i1i1 в Teuerile все 0 Рpnqecca

° риста, л«эац«и в преобрээоеате,-ь 8 регу,;руем го злектропр«есда Задан>1ая ско00 >- выт Гивани крис>алла 0. е"печива=,.:Я при помощи преобра ова еля 10 ното-,>. и .:рзвнивает два сигнала — c«rrai aaäàния «сигнал тахогеHeðaòîðà 9. ,с;а - OB."ieHHoro на валу злектооде«гателя 8

"1„"и наличии paccornacnBaeèÿ скорость эле тродви> ателя 8 автс. - атичес> 11 коррек-. руеТся Погрешность поддержа «.я скоро:ти вытягивания Рри 3Тс>1 н превышает

0,5ф,.

Для поддержания постоя Hc Tea диаметра выращиваемого кристалла Bv>lþuàeTcÿ датчик 5 массы ти ля 4 с блоком 15 регулирования мощности нагревателя 3 (при схеме работы устройства с контроле>л массы растущего кристалла включается датчик 17 массы кристалла), При появлении с«гнала рассо>ласования датчиков 5 или 17 массы

55

30 кр«сталла «ли гигл>я с зада>>ной программой блок 15 регул 1"„ования мощности нагревателя изlãå < яет ре жим питания нагревателя

3, меняя Tå!1 са>лым температуру в рабочей зоне, чем достигается псддержание постоянства диаметра выращиваемого кристалла.

При возникновении колебания давле= ния в системе водяного охлаждения двустенная водоохлаждаемая кристаллизационная камера 2 изменяет в такт изменению давления воды свои геометрические размеры (в том числе и по высоте). Изменение вертикальных размеров каплеры может достигать до 0.8 мм.

Упругий элемент 16, помещенный межлу кр«сталлизационной кзмерой 2 и фланцем 21 механизма 6 вытяг вания кристалла, B0cr,рини"-,acT -a себя кслеб ние размеров нр.!сТа.",л 1эац>10«ной ка;леры. препятствуя п=,=иэд 1леско>л неэапроГраммир)сэанному

«эн>е 1ени, -оло;. BH«I кр 1с Taллодержателя Го.-, >00.. 11ю к т>1гла. Те 1са;ль м стаб«:l.". i" Суется C> ОрОс ь еытяГ«вания кр. сталla «пг .-шается cTB ilribHCcTt. рабо и CI CTe;„!bI ° ) ССЕОГО KOH > 0 II» и Ci СТЕМЫ

;. > .:,. ;,: =«rl, i руе..1 . 3r bòpог>>ч>е>ода е;=.,". ilaa,эс»ым po,, ccoi4 >,311стаг;„,13ац,1.1;,Еоеа«; а от вак r-, >иOe уПлотнЕч«Е

>8 Яв.>.;а ш10ка 1.9 ь к: --= и ационную

КЗ>л=оу 2 ДЛЯ 3ТС-0 Стк;;УЧИ1аaiOT ГайКУ 22, :b! I ).Bai,T era, 2>, V, 00))-CTBЯI;V3T r! 0)?к > . Э у >О . Е Л !Ieр>одлie

-"; < Р ), а 1 g l (I 0 T Н . r «È 0 . :.3нг: . 1 д; "..!Te ;,HO cuecll.--«влет эсеы,er,1.= cтa6. лbíоcTи и:-реl» е цен«я кр, с1ал" ep»:aTp "я. 13 бр -,eíi;å ri03-:OëÿåT Р=лу-ilT= плае0е ":eРк1=:ЦЕ Ve КРИСтаЛЛОДЕ=»:атЕЛЯ ПРИ скоростЯx 0,1 10 >л)>ч с поГÄ BLUнсст!-ю под держания снорости вытягивз>.ия не более

0,5 r ; уna «306реТр ия

1. Ус>войс>во для в !pal>; .aH«ÿ монскриста лов иэ расплава, пре>1мущественчо

РO методу Чохральского, содержащее стаН«Ну, уст;.ч-;.:-..- - ub!e Ha ней vp«cTaar иэационную каме„у с нагревателем и тиглем. датчики магсы кристалла или тигля с блоком регулиоования л щност: наГрэеателя и мех?Hi»3 вытяГивания кристал)1а с дат»икОм

ПОЛожЕ>1«Я х РИСтаЛЛОДЕРжатЕЛЯ И Peryn«Руемым электропр,1водом, включающий корпус с направляющ11ми, шток кристаллодерk!àTåëÿ, каретку и уплотнение ввода штока в кристаллиэац«онную камеру. о т л и ч а ющ е е с я тем, что. с целью увеличения стабильности скорости перемещения кристаллодержателя при ".êîðîñòÿõ вь>тягивания кристаллов порядка 0,1-10 лмlч, 1707089

10 датчик положения кристаллодержателя выполнен из двух индуктивных линеек, одна из которых закреплена на направляющих корпуса механизма вытягивания, а другая — на каретке, и блока регистрации, соединенного с регулируемым электроприводом, корпус механизма вытягивания снабжен фланцем с укрепленным в нем посредством разьем«ого соединения стаканом, в котором размещено уплотнение ввода штока и сопряженные поверхности каретки и направляющих выполнены плоскими.

5 2. Устройство по п.1, отл ича ю щеес я тем, что кристаллизационная камера соединена с фланцем механизма вытягивания кристалла через упругий элемент.

1707089

СниВ

170 ОЗЭ

А-А

1707089

@or 5

Составитель Г,Золотова

Техред М,Моргентал Корректор Н. Король

Редактор И.Дербак

Заказ 242 Тираж Подписное

8НИИПИ Государственного комитета по изобретениям и открытиям при ГКНТ СССР

113035, Москва. Ж-35. Раушская наб.. 4/5

Производственно-издательский комбинат "Патент, г, Ужгород. ул.Гагарина, 101

Устройство для выращивания монокристаллов из расплава Устройство для выращивания монокристаллов из расплава Устройство для выращивания монокристаллов из расплава Устройство для выращивания монокристаллов из расплава Устройство для выращивания монокристаллов из расплава Устройство для выращивания монокристаллов из расплава 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к технологии полупроводниковых материалов, а именно к установке для выращивания монокристаллов тугоплавких окислов из расплава, и обеспечивает повышение качества кристалла за счет уменьшения механических нарушений

Изобретение относится к выращиванию монокристаллов из расплава и позволяет повысить качество выращиваемых кристаллов

Изобретение относится к области выращивания тугоплавких кристаллов методом Чохральского

Изобретение относится к способам получения кристаллов, а именно к способу получения монокристаллов лютеций-иттриевого алюмината, и может быть использовано при изготовлении сцинтилляционных элементов, применяемых в детекторах ионизирующих излучений в медицинской диагностирующей аппаратуре

Изобретение относится к производству профилированных высокотемпературных волокон тугоплавких оксидов, гранатов, перовскитов. Устройство содержит ростовую камеру 1 с установленными в ней тиглем 2 для расплава с формообразователем 3, нагреватель 4 тигля 2, экраны 5, затравкодержатель 6, средство 7 его перемещения, направляющий элемент 8, расположенный на расстоянии над формообразователем 3, при этом направляющий элемент 8 имеет два или более свободно покоящихся сапфировых стержня 9, концы которых лежат в нижних точках выемок в подставках 10 из тугоплавкого металла, расположенных параллельно друг другу и скрепленных с помощью шпилек и гаек, при этом растущее волокно 11 расположено между сапфировыми стержнями 9 с возможностью соприкосновения с ними. Технический результат состоит в увеличении выхода волокна оптического качества или волокна повышенной прочности, повышении качества профилированного волокна, упрощении конструкции направляющих. 4 ил.

Изобретение относится к области выращивания кристаллов и может быть использовано в ростовых установках с гибкой подвеской затравки для предотвращения раскачки монокристалла

Изобретение относится к оборудованию, предназначенному для получения крупногабаритных монокристаллов кремния методом Чохральского

Изобретение относится к технологии полупроводниковых материалов и может быть использовано при выращивании монокристаллов кремния по методу Чохральского

Изобретение относится к механизмам для вращения и передвижения в установках для выращивания монокристаллов полупроводников по методу Чохральского

Изобретение относится к выращиванию монокристаллов из расплава в температурном градиенте с использованием устройства для передвижения расплава и кристалла

Изобретение относится к технологии высокотемпературной кристаллизации из расплава и может быть использовано для получения крупных монокристаллов
Наверх