Катодный узел

 

Изобретение относится к вакуумному нанесению пленок методом ионного распыления материалов и может быть использовано в магнетронных установках. Сущность изобретения: катод - мишень магнетронного типа выполнен в виде выпуклого конуса с углом при вершине = 120-160, что позволяет при распылении кислородсодержащих соединений обеспечить угол разлета отрицательных ионов кислорода, ускоренных в электрическом поле катода, равный 10 - 30o. При этом ионы кислорода O- ускорены с перпендикулярном мишени направлении и при диаметре подложки, составляющем 80% от диаметра мишени, не достигают подложки, чем обеспечивается однородность по составу и толщине тонких пленок, напыляемых на подложки большой площади. 3 ил.

Изобретение относится к нанесению тонких, преимущественно кислородсодержащих, пленок путем ионного распыления материала в вакууме и может быть использовано в установках для нанесения пленок на подложки магнетронным распылением. Целью изобретения является повышение качества пленок за счет снижения неоднородности состава пленок на подложках большого диаметра. В сущность изобретения заложен метод отклонения от подложки отрицательно заряженных ионов кислорода (О-), которые, ускоряясь в электрическом поле катода, интенсивно перераспыляют растущую пленку. В изобретении рабочая поверхность катода-мишени, выполненная в виде выпуклого конуса с углом при вершине от 120 до 160о, отклоняет от подложки ускоренные в электрическом поле катода ионы (О-). Механизм получения положительного эффекта заключается в следующем. При зажигании плазмы вблизи мишени возникает темное катодное пространство, толщина которого не сильно отличается от длины пробега частиц в плазмообразующем газе. В этом темном катодном пространстве сосредоточено почти все падение напряжения, и заряженные частицы, имеющиеся в плазме, разгоняются именно в нем. Его толщина зависит от давления и в обычных режимах составляет несколько миллиметров. Почти всегда распыление мишени производится положительными ионами, чаще всего (Ar+). Выбитые из мишени частицы атомы материала мишени имеют энергетическое распределение, максимум которого приходится на половину энергии связи их в материале мишени (порядок величины 10 эВ). Атомов с более высокой энергией и ионов среди вылетающих частиц очень мало. Угловое распределение частиц часто близко к косинусному: вероятность вылета P(Q) пропорциональна косинусу угла Q между нормалью к мишени и направлением вылета P(Q) PQ cosQ. Существенно иначе ведут себя отрицательные ионы в плазме, в частности (О-), концентрация которых может быть заметной из-за большой энергии связи кислорода с электроном (Е 1,5 эВ). Их движение можно охарактеризовать двумя энергиями: энергией при вылете из мишени или полученной в результате соударений с другими компонентами. Ее величина обычно составляет 10 эВ. Движение с такой энергией осуществляется во всех направлениях. Наличие отрицательного заряда у иона (О-) приводит к его разгону в катодном пространстве в перпендикулярном от мишени направлении. Максимальная энергия, соответствующая этому движению, составляет величину, равную приложенному к катоду потенциалу. Среднюю энергию такого направленного движения рассчитать точно невозможно, так как она определяется газокинетическими процессами в плазме (сечениями рассеяния (О-) на различных компонентах плазмы, плотностью различных компонентов и т.д.), которые в неоднородной магнетронной плазме известны недостаточно. Из-за упомянутых двух энергий отрицательных ионов угловое распределение направлений движения этих ионов будет сильно вытянутым в направлении нормали к мишени по сравнению с косинусным. В конечном итоге эти ускоренные ионы кислорода и являются причиной перераспределения напыляемой пленки. Экспериментально установлено, что угол разлета таких ионов составляет от 10 до 30о в зависимости от рабочих параметров разряда, давления рабочего газа, напряжения на катоде, содержания кислорода в рабочем газе. При этом, так как электрическое поле строго перпендикулярно поверхности мишени, ионы (О-) ускорены именно в этом направлении. Авторами использовался стандартный плоский магнетронный катод (диаметром 75 мм); напротив него строго соосно помещалась подложка диаметром, вдвое превышающим диаметр катода (150 мм), проводилось напыление с данного катода при различных параметрах разряда. Затем с помощью рентгеноспектрального микроанализа определялся состав пленки и выделялись области, где он отличался от состава мишени из-за перераспределения растущей пленки ускоренными ионами кислорода (фиг.2). При различных расстояниях мишень подложка (от d1 12 до d2 54 мм при диаметре мишени 75 мм и диаметре зоны эрозии 54 мм) выяснилось, что область перераспыления растет линейно с расстоянием пленка подложка. В диапазоне давлений 10-3 мбар до 5 10-2 мбар справедливы представления о конусном разлете перераспыляющих частиц с углом образующей конуса по отношению к нормали к мишени = 10 -30о. Для подавления этого эффекта перераспыления авторы и предложили форму выпуклого конуса поверхности мишени. Связь между углом разлета ионов кислорода и углом при вершине конуса мишени определялась расчетным путем, а затем подтвердилась экспериментально. При этом принималось, что желаемая область ненарушенного состава равна по диаметру зоне эрозии магнетрона (в магнетронах этот диаметр обычно равен 80% от наружного диаметра катода-мишени). Фиг.3 поясняет расчет: 2 (90о _ ); 10-30о; т.е. = 120-160о. При параметрах разряда, указанных в примере заявки: РАr 2 10-2мбар; Р02 110-2 мбар; U горения разряда -150 В; мощность разряда 150 Вт; = 140о, диаметр зоны эрозии мишени 60 мм, зона неизмененного состава ограничена диаметром 60 мм, а области подложки с большим диаметром обладают дефицитом Ва и Cu 1 мас. Из вышеизложенного следует, что чем меньше угол при вершине конуса, тем дальше в бок отклонится поток перераспыляющих частиц, однако при этом уменьшается и скорость напыления, так как cosQ становится маленьким. Вопросы о концентрации кислорода в пленке не связаны с угловым распределением (О-), так как основная часть кислорода летит в виде нейтральных атомов и имеет угловое распределение, близкое к распределению других компонентов мишени. Кроме того, напыление кислородсодержащих соединений производится в смесях Ar+O2 и основное количество кислорода поступает в пленку именно из газовой среды. Итак, в изобретении диаметр подложки, на которой пленка обладает однородным составом и толщиной, равен 80% от диаметра мишени. На фиг. 1 представлен катодный узел, поперечное сечение; на фиг.2 и 3 схематично изображены устройства, используемые для предварительных экспериментов при определении угла разлета отрицательных ионов кислорода с плоским и конусным катодами соответственно. Катодный узел содержит катод-мишень 1, магнитную систему 2, экран 3 и работает следующим образом. В качестве напылительной установки использована стандартная вакуумная установка Z-400 фирмы Leybold-Heraeus. Установленный в ней стандартный плоский магнетронный катод РК75 заменяли магнетронным катодом конусной конструкции. При этом его наружные размеры выполняли в точности равными наружным размерам РК75, что позволяет без изменения использовать посадочное место и оснастку (вакуумное уплотнение, экраны) установки Z-400. Наружный диаметр магнетронного катода равен 75 мм. Магнитную систему выполняли на основе магнита SmCos и магнитопроводов из армко-железа. Для приближения полюсов магнитной системы к поверхности катода водоохлаждаемая полость располагается не под всей поверхностью катода, а по кольцу диаметром 45 мм, высота ее 10 мм, при этом теплоотвод с остальной поверхности мишени обеспечивается за счет теплопроводности стенки медного корпуса-держателя мишени, ее толщина равна 2 мм. Угол при вершине конусной мишени выполняли равным 140о. Материал магнетронной мишени сверхпроводящий иттрий-барий-медный оксид YBa2Cu3O7, крепление ее к медному держателю мишени производится пайкой ультразвуком, в качестве припоя используется индий. В качестве подложки для напыления пленки YBa2Cu3O7 использовали сапфировую пластину толщиной 500 мкм и диаметром 60 мм. Камеру перед напылением откачивали до 10-5 мбар. Напыление проводили при следующих параметрах: рабочий газ смесь аргона с кислородом; РAr 2 10-2 мбар; РО2 1 10-2 мбар. Напряжение горения разряда на мишени 150 В. Мощность разряда 150 Вт, т.е. плотность мощности на мишени составляет 3 Вт. Расстояние от вершины конуса мишени до подложки составляет 45 мм. Подложку при напылении нагревали до 800оС инфракрасным нагревателем, расположенным с ее тыльной части. Скорость на- пыления составляет 55 /мин. Время напыления 180 мин, толщина напыленной пленки 9900 (определены с помощью контактного профилометра). После напыления плавно снижали температуру нагревателя и вынимали подложку из камеры. Затем алмазным резцом вырезали из образца полосу шириной 5 мм и с помощью рентгеновского микроанализатора проводили анализ состава пленки в зависимости от расстояния от центра подложки. Ошибка определения составила 1% Результат измерений представлен в табл.1. Неоднородность состава определяют как отношение максимального отклонения концентрации компонента Смакс.откл. в мас. от ее среднего по подложке значения Сср к этому среднему C 100 В табл. 2 показаны результаты неоднородности состава пленок YBa2Cu3O7, С, на подложке диаметром 0,8 от наружного диаметра катода- мишени. Таким образом, катодный узел позволяет снизить неоднородность состава напыляемых кислородсодержащих пленок до уровня 1 мас. на диаметре подложки в 5-6 раз больше, чем в прототипе. Предлагаемый узел прост по конструкции.

Формула изобретения

КАТОДНЫЙ УЗЕЛ для магнетронного напыления кислородсодержащих тонких пленок, содержащий катод-мишень с конусной рабочей поверхностью, магнитную систему и заземленный экран, отличающийся тем, что, с целью повышения качества пленок за счет снижения неоднородности состава пленок на подложках большого диаметра, рабочая поверхность катода-мишени выполнена в виде выпуклого конуса с углом при его вершине, где = 120-160.

РИСУНКИ

Рисунок 1, Рисунок 2, Рисунок 3, Рисунок 4



 

Похожие патенты:

Изобретение относится к полупроводниковой технике и микроэлектронике и может быть использовано при производстве интегральных схем

Изобретение относится к нанесению покрытий в вакууме и может быть использовано для создания изделий электронной техники, радиотехники, оптики и др

Изобретение относится к пленочной микроэлектронике, в частности к магнетронным устройствам ионно-плазменного нанесения пленок материалов в производстве тонкопленочных элементов интегральных микросхем

Изобретение относится к технологии получения вакуумных покрытий и может быть использовано при нанесении защитных, износостойких и декоративных покрытий, в частности на керамические и стеклянные облицовочные плитки

Изобретение относится к области покрытия металлических материалов, а также других материалов металлическими и диэлектрическими материалами и может быть использовано при разработке устройств для вакуумного нанесения покрытий методом магнетронного распыления, а более конкретно магнитных систем планарного магнетрона в установках вакуумного нанесения покрытия на различные подложки, в том числе на полимерные пленки

Изобретение относится к рентгеновской оптике, в частности, к устройствам для отражения, поворота, деления, фокусировки и монохроматизации потока рентгеновского излучения и может быть использовано для проведения процессов рентгеновкой литографии, рентгеновской микроскопии, рентгеновской спектроскопии, а также в астрономии, физике, биологии, медицине и других областях технике, где используется рентгеновское излучение
Изобретение относится к области нанесения покрытий, в частности к магнетронному распылению электропроводящих покрытий в среде реактивных газов, и может быть использовано для получения прозрачных электродов и прозрачных электрообогревательных элементов

Изобретение относится к области тонкопленочной технологии и предназначено для использования в микроэлектронике и интегральной оптике

Изобретение относится к электрофизике, в частности к системам, служащим для получения потоков частиц, используемых, например, для вакуумного нанесения тонких пленок
Наверх