Устройство для нанесения покрытий в вакууме

 

Использование: изобретение относится к технике для получения защитных покрытий и может найти применение в электронной технике и машиностроении Цель изобретения - расширение технологических возможностей за счет повышения равномерности покрытий при обработке больших поверхностей. Сущность изобретения: повышение равномерности покрытий обеспечивается за счет того, что вспомогательный электрод, создающий радиальное электрическое поле, выполнен в виде кольца , высота которого меньше высоты соленоида , создающего магнитное поле, а диаметр превышает диаметр прямонакального катода , и размещен между экраном и катодом. Кроме того, соленоид, в котором испаряется рабочее вещество из водоохлаждаемого анода, выполнен в виде расширяющегося к подложкодержателю конуса и имеет максимальное число витков на единицу длины соленоида в области анода Такая конструкция устройства обеспечивает более широкую диаграмму направленности потока плазмы и позволяет расширить технологические возможности его применения. 1 ил.

„, Ж, „1 751224 А1 (51)5 С 23 С 14j32

СОЮЗ СОВЕТСКИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ

РЕСПУБЛИК

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ

ПО ИЗОБРЕТЕНИЯМ И ОТКРЫТИЯМ

ПРИ ГКНТ СССР

", 1 r)g g

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

1 -, -: -::: - 2 (21) 4751777/21,:: ских возможностей за счет повышения рав(22)23.10.89 :: номерйости.покрйтий при обработке боль(46) 30.07.92. Бюл. Ь 28 ших поверхностей. Сущность изобретения: .(71) Ийститут ядерных исследований АН повышение равномерности пОкрытий обесУССР .: . : .— печивается эа счет того; что вспомогатель(72) B. А. Саенко, А. Г, Борисенко, А. А. Де- ный электрод, создающий радиальное ркач и С; В. Гарюк, " электрическое поле, выполнен в виде"коль(53) 621.793.14(088.8) . - - . ца, высота. которого меньше высоты солено(56) Попов В. Ф. и Горин IO. Н, Процессы и ида, создающего магнитное поле; а диаметр установки электронно-ионной технологии. превышает диаметр прямонакального катаМ.: Высшая шкала, 1988. :, . да, и размещен между экраном и катодом.

Владимиров А. И., Горюк С; В. и Саенка Кроме тога, соленоид, в котором испаряется

В. А. "Приборы и техника эксперймента", рабочее вещество иэ вадоохлаждаемого

1987, N. 2, с. 136..— - ":: ::, - анода, выполней в виф расширяющегося к (54) УСТРОЙСТВО ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ПО- подлажкодержателю койуса и имеет максиКРЫТИЙ В ВАКУУМЕ .. ::- .-; . мальнае числа витков на единицу длины со(57) Использование: изобретение относится ленаида в области анода. Такая конструкция . к технике для получения защитных покры- устройства обеспечивает более широкую тий и может найти примененйе в электрон- диаграмму найравленнасти потока плазмы най технике и машиностроении Цель и позволяет расширить технологические изобретенйя — расширение технологиче- возможности его применения. 1 ил. ф

Изобретение относится к нанесейию покрытий и может найти применение в машиностроении для нанесения изнасостойких и защитных покрытий и в электронной технике при производстве интегральных схем.

Целью изобретения является расширеwe технологических, возможностей за счет повышения равномерности покрытий при обработке больших поверхностей.

На чертеже схематически представлена конструкция устройства для нанесения покрытий.

Устройство состоит из водоахлаждаемого тигля-анода 1, пряманакального вольфрамовага катода 2, соленоидов 3, 4 и 5, вспомогательного электрода 6, падлажкадержателя 7, заземленного экрана 8 и источников электропитания 9 — 11.

Устройства для нанесения покрытий работает следующим образом.

Испаряемое вещества загружается в тигель-анод 1, от источника 11 включается накал катода 2, с помощью соленоидов 3 — 5 создается магнитное поле в области разрядных электродов, затем подается напряже- ние на вспомогательный кольцевой электрод 6 ат источника 9, При включении источника питания 10 зажигается разряд в парах исларяемага вещества, при этом ско3 . . 1751224 . 4 ростьосаждения пленкй регулируетС мощ- верхности с сохранением равном..рности ностью разряда, а-степень ионизации пото- покрытия, что расширяет технологические ка плазмы " регулируется током " возможности устройства. вспомогательного электрода 6. Разлет плаз-,: . Ф о р м у л а и з о б р е т е н и я мы регулйруется размерами кольца и рас- 5 Устройство для нанесения покрытий в твором соленоида 5 и экрана 8. Чемйеньше вакууме, содержащее последовательно развысота вспомогательного электрода по мещенные тигель-анод, заземленный присравнению с высотой соленоида, тем боль-:. ямонакальный катод, вспомогательный ше" угол разлета плазмы и шир@ диаграмма электрод, находящийся под положительным нЪпраалейности плазменного потока испа- 10 относительно тигля-анода потенциалом, и ряемого вещества (при этом наибольший подложкодержатель-, охватываемые электразмер поверхности, подвергаемой обра- . ромагнитной катушкой; и источники электботке, равен верхнему диаметру соленои- ропитания,-отл и ч а ю ще ес я тем, что. с да). Для того, чтобы в данном устройстве целью расширения технологических воз сохрайить ту же плотность ионного тока на 15 можностей за счет повышения равномерноподложку, необходимо иметь большее зна- стй покрытия при обработке больших чение коэффициента ионизации испаряемо- . поверхностей, оно снабжено заземленным го вещества. Это легко осуществляется космическим экраном, а в-"помогательный увеличениемтока йа вспомогательный алек- электрод выполнен в виде кольца и разметрод 6; Конический экран 8 с расширяющей- 20 щен между экраном и катодом, причем часть ся частью в сторону подложки образует соленоида, охватывающая экран, выполнеобласть свободного расвирения незамаг- ка в виде расширяющегося к подложкодерниченных ионов плазмы, что способствует жателю конуса с наибольшим числом витков увеличенйю размера обрабатываемой по- на едййицу длины в области анода.

Составитель С.Мирошкин

Редактор Н.Швыдкая;; Техред M.Ìîðãåíòàë Корректор А.Кравчук

I

Заказ 2666, Тираж Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета по изобретениям и открытиям при ГКНТ СССР

113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., 4/5

Производственно-издательский комбинат "Патент", г. Ужгород, ул.Гагарина, 101

Устройство для нанесения покрытий в вакууме Устройство для нанесения покрытий в вакууме 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к электронной технике и может быть использовано в микроэлектронике и СВЧ-технике при получении тонких пленок различных материалов методом термоионного осаждения в вакууме

Изобретение относится к источникам плазмы для вакуумно-плазменной технологии и может использовано для нанесения покрытий и обработки поверхностей

Изобретение относится к области получения покрытий'и синтеза новых материалов в вакууме и может найти применение в инструментальной промышленности, электронной технике и медицине

Изобретение относится к нанесению упрочняющих или восстана влив^- щих покрытий электрическим взрывом проводника

Изобретение относится к области микроэлектроники

Изобретение относится к нанесению покрытий в вакууме и может быть использовано в машиностроении и станкостроительной промышленности

Изобретение относится к вакуумной ионно-плазменной технике, предназначенной для нанесения покрытий при их одновременном облучении ускоренными ионами и используемой для модификации поверхностей материалов и изделий в машино- и приборостроении, в инструментальном производстве и других областях

Изобретение относится к области нанесения покрытия и может быть использовано для нанесения покрытий на режущий инструмент с помощью электрической дуги в вакууме в атмосфере химически активных газов

Изобретение относится к машиностроению и может быть использовано при упрочнении коленчатых валов двигателей внутреннего сгорания
Изобретение относится к способу нанесения многослойного покрытия на режущий инструмент и может быть использовано в различных отраслях машиностроения при металлообработке
Изобретение относится к способу нанесения многослойного покрытия на режущий инструмент и может быть использовано в различных отраслях машиностроения при металлообработке

Изобретение относится к области нанесения тонкопленочных покрытий в вакууме

Изобретение относится к вакуумно- электродуговому устройству для нанесения высококачественных покрытий и может быть использовано в машиностроении, инструментальной, электронной, оптической и других отраслях промышленности для модификации поверхностей материалов
Наверх