Раствор для анодного травления мостовидных протезов

 

Сущность изобретения: раствор содержит (г/л) соляную кислоту 98-105; хлористый натрий 105-125, щавелевую кислоту 42-52. 1 табл.

СОЮЗ СОВЕТСКИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ

РЕСПУБЛИК

„„5U„„1789575 А1 (si)s С 25 D 3/02

ГОСУДАРСТВЕННОЕ ПАТЕНТНОЕ

ВЕДОМСТВО СССР (ГОСПАТЕНТ СССР)

Ааи Ещ

ОП ИСАН И Е И ЗО БР ЕТЕ Н Ия "","„","„„ 0,", „", К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ (21) 4808366/26 (22) 03.04.90 (46) 23.01.93. Бюл. № 3 (71) Уральский политехнический институт им, С,M.ÊèðoBà (72) В,M,Ðóäoé, М,А.Евсеева, О,А.Петрикас, А.С.Щербаков и О,Н.Быкова (56) Гумецкий P.À., Завадка А,Е., Лобач А.О.

Опыт применения адгезионных мостовидных протезов. / Стоматология, 1987, т, 66, № 5, с. 57 — 59.

Thompson V.P., GroIman К„Lэо R. Электролитическое травление Со — Cr сплавов для адгезионных мостовидных протезов. /

J,Denf. Res. 1984, N. 63, р, 320, АЬзтг, ¹ 1346.

Изобретение относится к электрохимическим способам подготовки поверхности, в частности к способам создания шероховатой поверхности и может быть использовано в стоматологии при изготовлении адгези вн ых мостовидн ых и ротезов (АМ П).

В литературе описан ряд растворов и методов, обеспечивающих шероховатость подлежащей склеиванию поверхности каркаса протеза. Так предлагается использовать естественную неровность рельефа поверхности металла, отлитого на огнеупорной модели, с последующей обработкой металлической поверхности пескометным аппаратом, Данный метод не обеспечивает достаточной силы сцепления клеящего композита с поверхностью металла и основан на недостатках отечественных огнеупорных материалэв, которые со временем будут устранены, Указанных недостатков лишен раствор для химического и электрохимического травления металлического каркаса протеза. (54) РАСТВОР ДЛЯ АНОДНОГО ТРАВЛЕНИЯ МОСТОВИДНЫХ ПРОТЕЗОВ (57) Сущность изобретения: раствор содержит (г/л) соляную кислоту 98 — 105; хлористый натрий 105-125, щавелевую кислоту

42-52. 1 табл.

Предлагаются составы и режимы анодного С травления четырех кобальта-хромовых сплавов, один из которых Виталлиум, по составу и свойствам близок к широко применяемому в отечественной практике сплаву

КХС, Приведенный состав для травления сплава Виталлиум (HCI 196 г/л) как наиболее близкий к заявляемому использован в Q() качестве прототипа, Недостатком прототи- } па являются высокая токсичность раствора и относительно низкая (не выше 10 МПа) с сила сцепления между металлической час- ц тью протеза и композитом

Целью изобретения является понижение токсичности электролита и повышение адгезии мостовидных протезов при склеивании. I

Поставленная цель достигается за счет того, что в раствор, содержащий соляную кислоту, дополнительно включены хлористый натрий и щавелевая кислота при следующем соотношении компонентов, г/л.

HCI 98...105, NaCI 105...125, HzC204 42...52.

1789575

Режим работы: анодная плотность тока

5400. „6200 А/м, тем и ература 27...32 С, время обработки 6...8 мин. Порядок приготовления раствора: навески хлористого натрия и щавелевой кислоты растворяются во

3/4 необходимого объема дистиллированной воды, после полного растворения вводится расчетное количество соляной кислоты, и раствор доводится водой до заданной метки.

Примеры выполнения приведены в таблице, Составы растворов и результаты работы

Концентрация компонентов (г/л) и результаты для растворов азного состава

Компоненты раствора и рабочие характеристики

1 (прототип

52

32

196

98

42

27

29

47

29

47

4000

12

Отсутств ет

10 15

Заметный Отсутствует

Ощутим

Отсутствует

Отсутств ет

20

Составитель Н,Пономарева

Техред M.Ìoðãåíòàï Корректор Л,Пилипенко

Редактор О.Стенина

Заказ 330 Тираж Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета по изобретениям и открытиям при ГКНТ СССР

113035, Москва, Ж-35, Раушская наб„4/5

Производственно-издательский комбинат "Патент", г, Ужгород, ул,Гагарина, 101 ислота ористый я кислота

Температура, С

Плотность тока, Аlм

Время обработки, мин

Сцепление с композитом

Эвикрол, МПа

Запах HCI

Формула изобретения

Раствор для анодного травления мостовидных протезов перед склеиванием, включающий соляную кислоту, о т л и ч а ю щ и й5 с я тем, что, с целью снижения токсичности электролита и повышения адгезии, он дополнительно содержит хлористый натрий и щавелевую кислоту при следующем соотношении компонентов, г/л:

10 Соляная кислота 98-105

Хлористый натрий 105-125

Щавелевая кислота 42-52

Раствор для анодного травления мостовидных протезов Раствор для анодного травления мостовидных протезов 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к области гальванического электроосаждения металлов и способам восполнения концентрации металла

Изобретение относится к изделиям из композиционных материалов, в частности к изделиям, состоящим из металла с керамическим покрытием, а также к способу нанесения керамического покрытия на металлы и их сплавы

Изобретение относится к нанесению металлических слоев покрытия и может быть использовано при изготовлении полупроводников. Предложен состав для нанесения металлического слоя, который содержит источник металлических ионов и по меньшей мере один подавляющий агент, который получают путем реакции аминного соединения, содержащего активные функциональные аминогруппы, со смесью этиленоксида и по меньшей мере одного соединения, выбранного из С3 и С4 алкиленоксидов, для получения случайных сополимеров этиленоксида и по меньшей мере еще одного из С3 и С4 алкиленоксидов, причем указанный подавляющий агент имеет молекулярную массу 6000 г/моль или более, а содержание этиленоксида в сополимере этиленоксида и С3-С4 алкиленоксида составляет от 30 до 70%. Также предложен способ электролитического нанесения металлического слоя на подложку путем контакта электролитической ванны для нанесения металлического слоя, содержащей упомянутый состав, с подложкой, и создания плотности тока в подложке в течение периода времени, достаточного для нанесения металлического слоя на подложку. Изобретения позволяет получить слой покрытия, обеспечивающий беспустотное заполнение элементов поверхности нанометрового и микрометрового масштаба. 3 н. и 12 з.п. ф-лы, 12 ил., 8 пр.

Изобретение относится к нанесению металлических слоев покрытия и может быть использовано при изготовлении полупроводников. Предложен состав для нанесения металлического слоя, содержащий источник металлических ионов и по меньшей мере один подавляющий агент, полученный путем реакции аминного соединения, содержащего по меньшей мере три активные функциональные аминогруппы, со смесью этиленоксида и по меньшей мере одного соединения, выбранного из С3 и С4 алкиленоксидов, для получения случайных сополимеров этиленоксида и по меньшей мере еще одного из С3 и С4 алкиленоксидов, причем содержание этиленоксида в сополимере этиленоксида и С3-С4 алкиленоксида составляет от 30 до 70%. Также предложен способ электролитического нанесения металлического слоя на подложку путем контакта электролитической ванны для нанесения металлического слоя, содержащей упомянутый состав, с подложкой, и создания плотности тока в подложке в течение периода времени, достаточного для нанесения металлического слоя на подложку. Изобретения позволяют получить слой покрытия, обеспечивающий беспустотное заполнение элементов поверхности нанометрового и микрометрового масштаба. 3 н. и 11 з.п. ф-лы, 15 ил., 1 табл., 12 пр.

Изобретение относится к композиции для электролитического осаждения металла, применению полиалканоламина или его производных, а также к способу осаждения слоя металла. Композиция для электролитического осаждения металла содержит источник ионов металла и по меньшей мере один выравнивающий агент. В качестве ионов металла используют ион меди. Выравнивающий агент представляет собой полиалканоламин или его производные, получаемые алкоксилированием, замещением либо алкоксилированием и замещением полиалканоламина. Полиалканоламин получают конденсацией по меньшей мере одного триалканоламина общей формулы N(R1-OH)3 (la) и/или по меньшей мере одного диалканоламина общей формулы R2-N(R1-OH)2 (lb), в котором радикал R1 независимо выбран из двухвалентного линейного или разветвленного алифатического углеводородного радикала, имеющего от 2 до 6 атомов углерода, радикал R2 выбран из водорода, линейных или разветвленных алифатических, циклоалифатических и ароматических углеводородных радикалов, имеющих от 1 до 30 атомов углерода. Полученные полиалканоламин или его производные применяют в растворе для электролитического осаждения металла. Способ осаждения слоя металла на подложку заключается в том, что вначале раствор для электролитического осаждения металла, содержащий вышеуказанную композицию, наносят на подложку. Затем на подложку подают ток определенной плотности в течение времени, достаточного для осаждения слоя металла. Изобретение позволяет получить выравнивающий агент, обладающий хорошими выравнивающими свойствами, а также получить плоский слой металла с образованием ровной поверхности, заполнив элементы нанометрового и микрометрового размера без образования дефектов. 3 н. и 12 з.п. ф-лы, 6 ил., 1 табл., 17 пр.

Изобретение относится к электрохимической установке для формирования наноразмерного покрытия и может быть использовано в полупроводниковой и электронной промышленности. Установка содержит компьютер, контроллер и манипулятор 1, установленный на стойке 2 с возможностью вращения вокруг вертикальной оси и снабженный держателем 3 обрабатываемого образца 4. Вокруг стойки манипулятора 1 расположены электрохимические ячейки 5 с электродами, соединенными с одним полюсом источника тока. Погружаемый в электрохимические ячейки образец 4 соединен с другим полюсом источника тока. Держатель 3 установлен с возможностью перемещения относительно манипулятора 1, при котором образец 4 в крайнем нижнем положении держателя 3 размещается в одной из электрохимических ячеек. Одна из электрохимических ячеек выполнена в виде измерительной ячейки 7 для контроля параметров обрабатываемого образца 4. Установка снабжена трубчатой печью 8 для термообработки образца. Обеспечивается возможность определения и задания требуемых параметров получаемого наноматериала по абсолютной величине и условий их изменения. 4 ил.

Изобретение относится к композиции для электроосаждения меди, используемой в процессе производства полупроводников, для заполнения небольших элементов, таких как сквозные отверстия и желобки. Композиция содержит источник ионов меди, по меньшей мере одну добавку, содержащую полиалкилениминовую основную цепь, где указанная полиалкилениминовая основная цепь имеет молекулярную массу Mw от 500 до 100000 г/моль, где N атомы водорода в основной цепи замещены полиоксиалкиленовым радикалом и где среднее количество оксиалкиленовых единиц в указанном полиоксиалкиленовом радикале составляет от 1,5 до 10 на N-H единицу, один или более усиливающих агентов, один или более подавляющих агентов и источник ионов галогенидов. Описано также применение композиции в электролитической ванне для осаждения слоев и способ осаждения слоя металла на подложку. Технический результат - достижение однородного осаждения металла на поверхность подложки и исключение дефектов, таких как пустоты и швы в полосках меди. 3 н. и 11 з.п. ф-лы, 2 табл., 17 пр., 10 ил.

Изобретение относится к композициям для электролитического осаждения меди на полупроводниковую подложку. Композиция содержит источник металлических ионов и по меньшей мере одну добавку, содержащую по меньшей мере один полиаминоамид формулы I или производные полиаминоамида формулы I, получаемые путем полного или частичного протонирования, N-кватернизации или ацилирования. Изобретение обеспечивает по существу плоский слой меди и заполнение элементов поверхности нанометрового и микрометрового масштаба по существу без образования дефектов, в частности пустот при применении с электролитической ванной для нанесения металлического покрытия, в частности с электролитической ванной для нанесения медного покрытия. 3 н. и 12 з.п. ф-лы, 8 ил., 1 табл., 14 пр.
Изобретение может быть использовано для защиты от подделки ценных многослойных изделий, таких как монеты, металлические жетоны, медали. Изделие с помощью штанг-держателей погружают в ванну для нанесения гальванического металлического покрытия, снабженную анодами из химически чистого металла, такого как никель, или медь, или латунь, или серебро. В ванну заливают электролит из ряда, включающего пирофосфатный, сульфатный, железосинеродистый, полифосфатный, роданистый, йодистый, сульфаминовый, трилонатный, дицианоаргентатный, цианистый, и добавляют маркирующий люминофор, покрытый защитной оболочкой в виде защитной капсулы, инертной по отношению к электролиту, оптически и/или физически прозрачной, с возможностью пропускать волны, находящиеся в оптически видимом и/или невидимом диапазоне. Гальваническое металлическое покрытие из указанных металлов наносят при непрерывном перемешивании электролита со скоростью до 650 об/мин и температуре электролита 20-70°С, а в процессе осаждения металлического покрытия осуществляют заращивание люминофора. В качестве маркирующего люминофора используют электролюминофор, и/или стоксовый люминофор, и/или антистоксовый люминофор. Защитную оболочку - оксид алюминия или титана, наносят в вакууме с помощью процесса атомнослоевого осаждения, а оксид кремния наносят в вакууме с помощью процесса химического парофазного осаждения. В качестве защитной оболочки также можно использовать силикат кальция, обработанный сульфатом цинка. Полученное многослойное ценное металлическое изделие с защитным люминесцентным элементом обладает повышенной степенью защищенности от подделки. 2 н. и 5 з.п. ф-лы, 4 пр.

Раствор для анодного травления мостовидных протезов

Наверх