Способ химического травления кристаллов титания - фосфата калия (кт @ оро @ )

 

Использование: в квантовой оптике. Сущность изобретения: монокристаллы КТЮРО травят в смеси состава 2H2S04:3HF при 160-180°С в течение 5-15 мин. Способ позволяет выявлять дефекты структуры на поверхностях любых кристаллографических направлений и характер их объемного распространения, а также получать картины селективного травления независимо от характера предварительной обработки поверхностей кристалла. 1 табл., 5 ил.

СОЮЗ СОВЕТСКИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ

РЕСПУБЛИК

isiis С 30 В 33/10, 29/14

ГОСУДАРСТВЕННОЕ ПАТЕНТНОЕ

ВЕДОМСТВО СССР (ГОСПАТЕНТ СССР) ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

СО

iO

О

О (л) (21) 4917102/26 (22) 05.0 3.91 (46) 15,03.93. Бюл. N 10 (71) Институт геологии и геофизики СО АН

СССР (72) Т,И.Коновалова и Е.Г.Цветков (56) Shen Dezhong and Huang Chaoen "А new

nonlinear crystal КТР" Prog. Crystal Growth

and Charact„1985, 11, 269-270. (54) СПОСОБ ХИМИЧЕСКОГО ТРАВЛЕНИЯ

КРИСТАЛЛОВ ТИТАН ИЛ-ФОСФАТА

КАЛИЯ (КТ ОРО4) Изобретение относится к исследованиям реальной структуры кристаллов, а именно кристаллов титанил-фосфата калия (KTP), методом химического травления.

Цель изобретения — выявление дефектов структуры на поверхностях любых кристаллографических направлений и характера, их объемного распространения. а также получения картин селективного травления, Полученный результат травления кристаллов КТР, по многим параметрам превосходящий результат травления известным способом.

На фиг.1 изображен фрагмент кристалла, выращенного по (100). Образец описан в примере ¹ 1. Морфология образца: 1,2— пиленные поверхности (001): 3 — спайный скол по (100); 4 — пиленная поверхность (010); 5 — округлая ростовая поверхность; на фиг,2 — структуры травления на поверхности (001) — 1; на фиг,З вЂ” структуры травления на поверхности (001), параллельной поверхности 1 — 2. Ростовая полосчатость; 1 — в секто. Ж 1801993 Al (57) Использование: в квантовой оптике.

Сущность изобретения: монокристаллы

KTi0PO4 травят в смеси состава

2HzS04:3HF при 160 — 180 С в течение 5 — 15 мин. Способ позволяет выявлять дефекты структуры на поверхностях любых кристаллографических направлений и характер их объемного распространения, а также получать картины селективного травления независимо от характера предварительной обработки поверхностей кристалла. 1 табл„

5 ил. ре роста грани (110); в секторе роста грани (100); А. — редкие полосы или их отсутствие;

Б. — штриховка; на фиг.4 — секториальная граница, ростовая полосчатость, ямки травления (поверхность (001). Увеличение 500: на фиг.5 — морфология ямок травления на поверхностях разных кристаллографических ориентаций: (100). (201). (110), (011), (010), (001).

Пример 1. Образец выращенного по (100) кристалла КТР с пиленными поверхностями (001), (010). спайным сколом по (100) и округлой ростовой поверхностью (см.фиг.1) помещался на фторопластовую подставку.

Травящая смесь (2Н2504:3HF) нагревалась во фторопластовом стакане до 170 С. Подставка с образцом опускалась внутри стакана. Через 10 мин протравленный образец извлекался из раствора и промывался в воде.

На пиленных поверхностях (001) после травления проявились ростовые полосы и секториальная граница (см. фиг,1), На обо v. рисунках (см. фиг.2 и фиг.З) область 11 отно1801993 сится к сектору роста грани (110), о чем говорит расположение ростовых полос, параллельных этой грани. Таким же образом определяется, что область 1 — сектор роста грани (110). Помимо этого, поверхности делятся на два участка, между которыми обозначивается довольно четкая граница (А и Б).

Один из них (Б) покрыт частыми и тонкими полосками.(штриховкой). На другом (А) ростовые полосы шире и расположены с большими промежутками либо совсем отсутствуют. Поверхность 11.Б кроме того имеет ямки и борозды травления (фиг,4).

Бороздки и направление, трассируемое ямками, параллельны полосам. Приуроченность борозд и ямок травления к ростовым полосам свидетельствует, что они являются источником напряжений в кристаллах.

Протравленная поверхность (010) делится на два участка по характеру расположения на ней холмиков травления. На участке 11 они расположены плотнее, Граница между участками на (010) продолжает аналогичную границу на (001), Поверхность (100) после травления стала равномерно шероховатой. Тогда как один участок на ней покрыт плотно расположенными ромбовидными ямками. Граница участка по ребру стыкуется с секториальной границей на (001).

На округлой ростовой поверхности вытравились ямки четко ограниченной широкой полосой, которая соприкасается с областью Б других поверхностей.

Таким образом, травление позволило выявить в образце 4 отличные одна от другой области (по 2 в каждом секторе роста).

Пример 2, Указанным выше способом травилась пластинка, выпиленная по (001) из кристалла, выращенного по (010). Температура травления 164 С, время 15 мин.

Пластинка закреплялась платиновой проволочкой для того, чтобы обеспечить смачиваемость раствором обеих пиленных поверхностей. На обеих поверхностях вытравились секториальные границы и участки визуально отличающиеся разной отражательной способностью. Поверхность на участках, лишенных полосчатости, отполирована. Местами бороздки переходят в

"0 борозды с острым дном. Кроме того, имеются ямки травления чечевицеобразной формы.

По направлению ростовой штриховки поверхности делятся на три области: два

15 сектора роста граней (110) и между ними выклинивающийся сектор роста поверхности, перпендикулярной направлению вытягивания и не соответствующей какой-либо естественной грани.

Предложенный способ травления является эффективным методом исследования реальной структуры кристаллов и контроля их качества. По результатам травления можно сделать вывод о пригодности монокри25 сталла или его частей для изготовления оптических элементов с нужными генерационными характеристиками, провести отбраковку некачественного материала, Формула изобретения

Способ химического травления кристаллов титанил-фосфата калия (КТ!ОРО4). включающий обработку в кислотном растворе и отмывку, отличающийся тем, что, с

З5 целью выявления дефектов структуры на поверхностях любых кристаллографических направлений и характера их объемного распространения, а также получение картин селективного травления, обработку ведут в

40 смеси состава 2Н2504:ЗНР при 160-180 С в течение 5 — 15 мин, 1801993

1801993 оо

20 I

OIO!

OoI

Составитель Т.Коновалова

Техред М.Моргентал Корректор М.Демчик

Редактор

Производственно-издательский комбинат "Патент", г. Ужгород, ул.Гагарина. 101

Заказ 830 Ти раж Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета по изобретениям и открытиям при ГКНТ СССР

113035. Москва, Ж-35, Раушская наб„4/5

Способ химического травления кристаллов титания - фосфата калия (кт @ оро @ ) Способ химического травления кристаллов титания - фосфата калия (кт @ оро @ ) Способ химического травления кристаллов титания - фосфата калия (кт @ оро @ ) Способ химического травления кристаллов титания - фосфата калия (кт @ оро @ ) 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к исследованиям структурообразования керамики из оксида алюминия и может быть использовано в строительстве, машиностроении, приборостроении , химии при контроле качества изделий и изменения структурообразования в процессе их эксплуатации и обеспечивает ускорение процесса и более эффективное выявление зернистой, дендритной и сферолитной микроструктур

Изобретение относится к области металлографических методов выявления дефектов структуры и может быть ис-'пользовано для контроля структурного совершенства монокристаллов германия

Изобретение относится к изготовлению ферромагнитных монокристаллических изделий для электронной техники, в частности к технологии изготовления сферических резонаторов из монокристаллов феррогранатов
Изобретение относится к обработке кристаллов, а именно к технологии травления кристаллов кварца

Изобретение относится к приборостроению, электронике и радиоэлектронике, может быть использовано в технологических процессах локального травления и позволяет обеспечить анизотропность травления

Изобретение относится к технологии выращивания кристаллов на затравках, ростовая поверхность которых представляет собой естественную грань

Изобретение относится к технологии выращивания кристаллов и может быть использовано при изготовлении затравочных пластин для выращивания кристаллов типа КДР большого сечения

Изобретение относится к способам понижения оптической плотности изделий оптики и может быть использовано для изготовления оптических элементов из кристаллов дигидрофосфата калия и его дейтерированных аналогов, в частности для изготовления удвоителей и утроителей частоты лазерного излучения

Изобретение относится к выращиванию монокристаллов и может быть использовано для скоростного выращивания водно-растворимых кристаллов для нелинейной оптики

Изобретение относится к способам повышения оптической и механической прочноаи монокристаллических материалов, используемых в лазерном гр1бороа|эоении, и поздоляет повысить механическую и лазерную прочность

Изобретение относится к отособу термообработки радиационно - поврежденных монокристаллов дидейтерофосфата калия и позволяет улучшить структуру и оптические харааериаики кристаппов , Радиационно - поврежденные кристаллы нагревают со скоростью не более 2 с/ч до температуры на 3 - 5 с ниже температуры фазового перехода (Т )

Изобретение относится к выращиванию кристаллов из водных растворов и может быть использовано для скоростного выращивания монокристаллов заданной формы и кристаллографической ориентации, например, кристаллов группы КДР
Наверх