Водный раствор химического меднения

 

Раствор химического меднения содержит сульфат меди, динатриевую соль,этилендиаминтетрауксусной кислоты, тригликрльамидовую кислоту, формальдегид и соду. Раствор обеспечивает повышенную скорость металлизации при хорошем качестве медных покрытий и высокой стабильности раствора.

СОЮЗ СОВЕТСКИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ

РЕСПУБЛИК

csus С 23. С 18/40

ГОСУДАРСТВЕННОЕ ПАТЕНТНОЕ

ВЕДОМСТВО СССР (ГОСПАТЕНТ СССР) ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

14 г/л

24 г/л

2,0 г/л

30 мл/л

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ (21) 4934716/26 (22) 11,03.91 (46) 23,04.93. Бюл, hL 15 (71) Московский полиграфический институт (72) Е.В.Семина, И,Г.Мастрюкова, T.M.×óïàтикова и Л.П.Зименкова (56) Патент США

N 4650691, кл. С 23 С 18/40, 1987, Патент СШАь: М 4303443, кл. С 23 С 3/02, 1985.

Авторское свидетельство СССР

М 1138433, кл. С 23 С 18/40, 1985..

Изобретение относится к технологии нанесения металлопокрытий химическим способом и может быть использовано в различных отраслях промышленности при необходимости металлизации токонепроводящих материалов, например в технологии изготовления печатных плат.

Цель изобретения — увеличение скорости меднения.

Поставленная цель обеспечивается при. условии, что раствор химического меднения, состоящий из сульфата меди, динатриевой соли зтилендиаминтетрауксусной кислоты (ЭДТА), формальдегида и углекислого натрия дополнительно содержит добавки тригликольамидовой кислоты (ТГА) при следующем соотношении компонентов, г/л:

ЭДТА 22-24

ТГА 1,5 — 2,0

Формальдегид (40 g,) 25 — 30 (мл/г)

Углекислый натрий 20

При сопоставлении известного раствора с заявляемым было установлено преимущество последнего: оно заключается в увеличении скорости осаждения меди до 4,8-5,2 10 г/см ч. при сохраНении хорошего качества

„„ Ы„„1810394 А1 (54) ВОДНЫЙ РАСТВОР ХИМИЧЕСКОГО

МЕДНЕНИЯ (57) Раствор химического меднения содержит сульфат меди, динатриевую соль,этилендиаминтетрауксусной кислоты, тригликольамидовую кислоту, формальдегид и соду. Раствор обеспечивает повышенную скорость металлизации при хорошем качестве медных покрытий и высокой стабильности раствора. покрытия и высокой стабильности технологических характеристик раствора, Пример 1.

Сульфат меди 12 г/л

ЭДТА 22 г/л

ТГА 1,5 г/л

Формальдегид (30 ) 25 мл/л

Углекислый натрий 20 г/л ааагай

При рН 12,8 и температуре 55 С скорость, (р осаждения меди составляет 7,8 10з г/см ч,, д, осадки меди плотные, мелкозернистые. Стабильность раствора свыше 3 ч, Пример2.

Сульфат меди 13 г/л О

ЭДТА 23 г/л ф

ТГА 1,8 г/л .

Фармальдегид (40г/ь) 27 мл/л . ) ь

Углекислый натрий 20 г/л

При рН 12,8 и температура 55 С скорость металлизации составляет 5,4 10 г/см" ч при стабилизации раствора 3 ч.

ПримерЗ.

Сульфат меди

ЭДТА

ТГА

Формальдегид (407;) 1810394

22-24 г/л

25-30 мл/л;

20 г/л

До 1л, Составитель Е. Семина

Редактор M. Кузнецова Техред M.Ìîðãåíòàë Корректор M. Демчик

Заказ 1421 Тираж Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета по изобретениям и открытиям при ГКНТ СССР

113035, Москва, Ж 35, Раушская наб„4/5

Производственно-издательский комбинат "Патент", г. Ужгород, ул.Гагарина, 101

Углекислый натрий 20 г/л

Скорость осаждения меди 5,2 10 з г/см ч при рН=12,8 и температуре 55О С, Осадки меди плотные, мелкокристаллические, Таким образом, предлагаемый раствор обеспечивает повышенную скорость осаждения металла при хорошем качестве медного слоя и высокой стабильности раствора.

Формула изобретения

Водный раствор химического меднения, содержащий сульфат меди, динатриевую соль этилендиаминтетрауксусной кислоты, формальдегид и натрий углекислый, отл и ча ю щи и с я тем, что, с целью увеличения скорости меднения, он дополнительно содержит тригликольамидовую кислоту при следующем соотношении компонентов:

5 Сульфат меди 12 — 14 г/л

Динатриевая соль этилендиаминтетрауксусной кислоты

Тригликольамидовая кислота 1,5-2,0 г/л

Формальдегид (40 -ный)

Натрий углекислый

Вода

Водный раствор химического меднения Водный раствор химического меднения 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к нанесению покрытий химическим способом, в частности медных, и может быть использовано в радиоэлектронной промышленности для пайки металлизированных диэлектриков для изготовления элементов газоразрядных устройств, для получения микросхем

Изобретение относится к химическому нанесению металлических, в частности медных, покрытий на поверхность диэлектриков

Изобретение относится к области нанесения металлических покрытий, в частности к составам растворов для химического меднения

Изобретение относится к области химического меднения диэлектриков и может быть использовано в электронной и радиотехнической промьшленности

Изобретение относится к химическому меднению диэлектриков и может быть использовано в машиностроительной, автомобильной и приборостроительной промышленности, а также в производстве бытовой техники
Изобретение относится к способам нанесения металлических покрытий на поверхность изделий, выполненных из железа или его сплавов, путем разложения суспензии покрывающего вещества

Изобретение относится к металлизации изделий

Изобретение относится к области получения медных покрытий из растворов методом химического восстановления и может быть использовано для металлизации печатных плат в радиотехнике
Изобретение относится к технологии получения металлизированных тканых и нетканых материалов и может быть использовано для производства катализаторов, а также для изготовления декоративных и отделочных материалов
Наверх