Патент ссср 190211

 

I9O2II

ОПИСАНИЕ

ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

Союз Советских

Социалистических

Республик

Зависимое от авт. свидетельства №

Кл. 570, 10

Заяв tctto 24.Х11.1965 (№ 1045211/23-4) с присоединением заявки №

Приоритет

Опублпковаtt0 16«Х!1.1966. Бюл tezcttt ¹ 1.ЧГ(К G 031

Комитет па аелам иеобретеиий и открытий ори Совете Мииистрсв

СССР ЛК 771.531:778.\ 11 (088.8),7 tiTtl 0ttIб,пп;овапня ollit .а пня 31.1. 1967

1,"т. Л. Берлин, Б. Ю. Гординский, Е. Г. Лкоева, Н. A. Пущина уи О. В. Хорошун

Украинский научно-исследоватепьский институт полиграфичес ой промышленности и Институт химической физики АН СССР

Лв воры

ii::обретения

Заявите,iii

СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ФОТОПОЛ ИМЕРИЗУЮЩИХСЯ

КОМПОЗИЦИЙ

Способ изготовления фотополимеризующихся композиций, растворимых в водных щелочах и состоящих из смеси полимера, полученного сополимеризацией мономеров, содержащих и не содержащих кислотные группы, например сополимера метакриловой кислоты и метилметакрилата, полимеризационно-способного олигомера, например полиэфира

МГФ-9 — — ди мета крил атди (триэтиленгликоль)фталата, и инициатора фотополимеризации, например метплового эфира бензоина, известен. При нанесении толстого слоя этих композиции па металлическую подложку,экспонировании в УФ-свете и вымывании незаполимеризовавшихся участков слоя раствором бикарбоната натрия получают рельефные изображения, с высокой точностью воспроизводящие огигипал, механически прочные, но хрупкие. *

С целью придания гибкости фотополимерным слоям, предлагается в состав композиций, полимеризующпхся под действием света, вводить сополимер метакриловой или акриловой кислоты с бутилакрилатом, алкилметакрилатом алкилакрилатом, содержащими в алкильпом радикале С: — Са.

Фотополимерные рельефы изображения, изготовленные из этих композиций, сохраняют положительные качества подобных изображений из известных композиций и в то же время обладают достаточной гибкостью. Образец такого фотополимерного слоя не разрушается и не трескается при изгибании вдоль поверхности с кривизной радиуса 75 мл .

Предлагаемые полимеризующиеся композиции могут быть использованы для изготовления печатных форм н схем, элементов пнеьмопики, радиоэлектроники и других рельефных изображений.

Пример 1. Получение сополимера метакриловой кислоты п бутилакрилата.

86 г метакриловой кислоты, 142 г оутилакрилата и 1,15 г перекиси бензоила растворяют в 300 лтл этанола и полпмеризуют прп нагревании с обратным холодильником на кипящей водяной бане и механическом перемешивапии. Когда реакция сополимеризацпп закончится, реакционной смеси дают остыть и разбавляют ее 100 льт ацетона. Количество метакриловой кислоты, вводимой в сополпмеризацию с указанным количеством бутплакрплата, можно увеличить до 130 — 175 г. Кроме того, ее можно заменить аркиловой кислотой, а вместо бутилакрилата использовать алкплметакрилаты илп алкплакрилаты из смеси спиртов С.- — Са.

Пример 2. Приготои "e!ttte раствора фотополимеризующейся компознци.

К полученному, как описано в примере 1, 30 раствору сополнмера дооавляют 230 г сопо190211

Составитель Э. Рамзова

Техред T. П, Курилко Корректор Е. Ф. Полионова

"сдактор Л. A. Ильина

Заказ 4!99/17 Тираж 535 Подписное

ЦНИИПИ Комитета по делам изоорегепий и открытий при Совеге Мгн нстров СГГР

Москва, Центр, пр. Серова, д. 4

Типографии, пр. Сапунова, 2 лпмера, полученного сополимеризацией 155 г метакриловой кислоты с 200 г метилметакрилата, в виде 30 — 45%.-ного спирто-ацетонового раствора, 115 †2 г полимеризационно-способного олигомера, например эфира ТГМ-3— диметакрилаттриэтиленгликоль, полиэфира

МГФ-9 — диметакрилатди (триэтиленгликоль)фталат или полиэфира МДФ-2 — диметакрнлатди (диэтиленгликоль) фталат, и 0,6 — 10 г инициатора фотополимеризации, например метилового эфира бензоина, и тщательно перемешивают.

Раствор содержит смесь сополимера метакриловой или акриловой кислоты с бутилакрилатом или алкилметакрилатами (акрилатами) С.- — Св и сополимера метакриловой кислоты с метилметакрилатом в соотношении 1: 1.

Указанные сополимеры можно вводить в состав фотополимеризующейся композиции и в других соотношениях, например 2: 3, 1: 2 2О ит. д.

Пример 3. Изготовление рельефных изображений.

Приготовленный по примеру 2 раствор фотополимеризуюгцейся композиции наносят на подложку и после испарения растворителей, получают на ней фотополимеризующийся слой, толщина которого определяется концентрацией раствора фотополимеризующейся компознцнп и ее количеством, Пластину экспонируют в вакуумной копировальпои раме через негатив ртутно-кварцевой лампой пли другим источником УФ-лучей в течение 10—

20 мин. Зкспонировапную пластину обрабатывают 2 — 3",ь-ным раствором бикарбоната натрия или соды до полного растворения в широких пробелах незаполимеризовавшегося на неосвегцепных участках слоя, промывают водой и сушат.

Изготовленное таким способом фотополимерное рельефное изображение хорошо воспроизводит оригинал, обладает высокой механической прочностью и достаточной гибкостью.

Предмет нзобретени я

Способ изготовления фотополимеризуюшихся композиций па основе сополимера метакрнловой кислоты и метилметакрилата, полимеризационно-способного олигомера и инициатора фотополимеризацни, отличающийся тем, что, с целью получения композиций, придаюгцих гибкость фотополимерным слоям, в состав композиций вводят сополнмер метакриловой нли акриловой кислоты и бутилакрилата, алкнлметакрилата или алкилакрилата, содержащих в алкильном радикале 5 — 8 атомов углерода.