Выпарной аппарат

 

Союз Советских

Социалистических

Республик

Зависимое от авт. свидетельства №

Заявлено 31Х111.1964 (№ 919672/23-26) с присоединением заявки ¹

Приоритет

Опубликовано 02.ll!.1967. Бюллстснь ¹ 6

Кл. 12а, 2

Комитет по делам изобретений и открытиИ при Совете Министров

СССР

ЧПт; В Old х.д1х 66 048 541;62 2о1 (088.8) Дата опубликования описания 26Л1Ч.1967

ВЫПАРНОЙ АППАРАТ

Известны выпарные аппараты с падающей пленкой раствора, содержащие вертикальный корпус с греющей рубашкой и размещенным по центральной оси ротором, на котором укреплены лопатки.

Предлагаемый выпарной аппарат отличается от известных тем, что корпус его выполнен ступенчатым с уменьшением диаметра сверху вниз, а ротор — с увеличивающимся от ступени к ступени количеством лопаток. В местах изменения диаметра корпус снабжен

IUT) церами 7я отоора промеж)то шых фракций, Такая конструкция позволяет увеличить производительность, обеспечить постоянну о толщину пленки и повысигь конечнуюкопцентрацгно продукта.

На чертеже изображен предлагаемый выпарной аппарат в продольном разрезе.

Аппарат содержит цилиндрический ступентатый корпус 1 с греющими рубашками 2.

В верхней части 8 его размещено сепарир ующее устр о и ство 4.

По оси размещен ротор б с лопатками б, образующими при вращении на внутренней поверхности корпуса тонкую пленку. раствор подают через штуцер Т, готовый продукт BhI oäèò через пгтуцер 8. Пары низкокипящего комгюнента удаляют через штуцер 9. В местах изменения диаметра корпуса установлены штуцера 10 для отбора нром. жуточных фракций.

Так как при уменьшешш диаметра аппарат» уменьшается окружная скорость вершин ло5 паток 6, то для поддержания условий, необходимых для создания пленки, число лопаток в нижних секциях ротора увеличено.

При работе аппарата обрабатываемый раствор поступает в аппарат через штуцер 7, за10 хватывается лопатками б ротора б и распределяется по внутренней поверхности корпуса

1 в виде тонкой пленки.

При этом происходит испарение низкокипящих компонентов, пары которых после сепа15 рации сепарирующим устройством 4 напра зляют=я через штуцер 9 в конденсатор. Пленка продукта, уменьшаясь в толщине, стекает по цилиндрической поверхности корпуса вниз и попадает на участки греющей поверхности, 20 нмeющиe атеньший диаметр. Благодаря этому толщина пленки поддерживается по высоте

»впар»та в примерно одинаковых пределах.

Зто обстоятельство позволяет получить на выходе аппарата продукт высокой концентрац;щ

25 нли с малым содержанием легкокипящего компоне;та. Кроме того, в результ»те улучшения условий орошения греющей поверхности увеличивается количество передаваемого тепла, а следовательно, производительность аппар»та. Наличие штуцеров 10 в местах изменения

Выпарной аппарат Выпарной аппарат 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к энергетике, а более конкретно к вспомогательным системам парогенерирующей установки атомной электростанции, а также может быть использовано в выпарных установках для упаривания перегретых солесодержащих жидкостей в металлургической, химической и других отраслях промышленности

Изобретение относится к способу получения раствора и, в частности к способу получения раствора целлюлозы в N-оксиде третичного амина

Изобретение относится к ионной технологии и может быть использовано в медицине, машиностроении, на транспорте, в том числе речном и морском, в автомобильной промышленности, сельском хозяйстве, авиации, космической технике, металлургии, энергетике

Изобретение относится к способу извлечения твердых остатков, находящихся в суспензии или в растворе текучей среды, которая включает в себя быстроиспаряющиеся компоненты, в частности воду

Изобретение относится к высокодисперсному сыпучему анионному поверхностно-активному веществу для моющих и/или очистительных средств, которое имеет микропористую структуру без пылеобразующих долей, причем его насыпная плотность составляет минимум 150 г/л, а содержание в нем остаточной воды - максимум 20 мас

Изобретение относится к оборудованию для выпаривания жидкости и может быть использовано в сахарной и других отраслях промышленности

Изобретение относится к производству оборудования для химической, пищевой, медицинской и биотехнологий, в частности вакуум-выпарных установок
Наверх