Объемный дозатор

 

Использование: формирование сыпучих материалов в различных отраслях промышленности. Сущность изобретения: объемный дозатор содержит цилиндрический питатель, в верхней части которого расположен сбрасывающий механизм, и приемник. При этом цилиндрический питатель расположен внутри приемника, а стенки цилиндрического питателя и его дно установлены с возможностью вертикального перемещения друг относительно друга. 2 ил.

Изобретение относится к оборудованию для дозированной подачи сыпучих материалов и может быть использовано в производстве самых различных отраслей промышленности химической, металлургической, строительной, пищевой, при производстве стекла.

Наиболее важными характеристиками, определяющими в основном конструкцию дозатора, являются объемный вес материала, размер и форма этих частиц, которые определяют его сыпучесть. Сыпучесть дозируемого материла определяет конструкцию основных узлов и возможную точность взвешивания.

Известно устройство объемного дозирования [1] , которое содержит полый вращающийся барабан. В боковой стенке барабана имеется отверстие. Через это отверстие дозируемый материал поступает самотеком из выпускной воронки-питателя в барабан. При повороте барабана вокруг оси на 180^о материал из барабана высыпается в приемный бункер, откуда через выпускное отверстие поступает по назначению. Такое устройство обеспечивает дискретную подачу, хотя можно сделать многокамерный барабан и несколько сгладить дискретность. Но остается неопределенным полнота засыпки и высыпания.

Известен объемный дозатор барабанного типа [2] - прототип, в верхней части дозатора над барабаном укрепляется сбрасывающий механизм - нож в виде металлической полоски, который служит для того, чтобы снимать часть продукта, которая находится выше краев барабана и, удерживаемая силой сцепления с остальным продуктом, движется вместе с ним. Таким образом, нож, способствуя полному заполнению барабана, вместе с тем не пропускает лишнего материала. Недостатком устройства является невозможность обеспечить точное дозирование трудносыпучих материалов.

Целью изобретения является точное дозирование материалов независимо от физических свойств веществ.

Цель достигается за счет того, что в устройстве, содержащем барабанный питатель, в верхней части которого расположен сбрасывающий механизм, питатель расположен внутри приемника, а питатель и его дно установлены с возможностью вертикального перемещения относительно друг друга.

За счет вертикального перемещения цилиндрического питателя и его дна относительно друг друга регулируется скорость подачи вещества различной степени сыпучести. За счет варьирования скорости подачи вещества различной степени сыпучести. За счет варьирования скорости подачи вещества и скорости вращения сбрасывающего механизма можно регулировать дозирование вещества.

На фиг. 1 схематически изображен дозатор, на фиг. 2 - то же, вид со стороны сбрасывающего механизма.

Дозатор (фиг. 1) содержит цилиндрический питатель 1 с дном 2. Питатель расположен внутри приемника 3 с выпускным отверстием 4. Внутри питателя 1 имеется вал 5, в верхней части которого закреплен вращающийся сбрасывающий механизм 6 в виде лопастей или щеток 7 (фиг. 2). Щетки могут быть выполнены в виде вращающихся барабанов. Цилиндрический питатель 1 и дно 2 установлены с возможностью перемещения относительно друг друга в осевом направлении. Дно 2 питателя 1 (фиг. 1) может быть установлено подвижно на валу 5, который может иметь винтообразную форму и служит подъемником для дна 2. Можно установить стенки питателя 1 перемещающимися в вертикальной плоскости относительно дна 2 (не показано).

В начальный момент дно 2 находится в нижней части цилиндрического питателя 1, который заполнен дозируемым веществом 8. При относительном перемещении питателя 1 и дна 2 часть вещества над верхней кромкой контейнера сбрасывается лопастями или щетками 7 в приемник 3. Сбрасывание вещества лопастями является непрерывным и равномерным, исключая первый момент работы, когда перед лопастью, перемещающей вещество от центра к периферии, не образуется определенный и не изменяющийся в дальнейшем рельеф. Подбирая скорость подъема вещества, количество лопастей сбрасывающего устройства и частоту их вращения, можно получить заданное дозирование сыпучих веществ с высокой точностью и равномерностью по времени независимо от размера частиц, влажности, сыпучести и др. , а также можно осуществлять дозированную непрерывную подачу слежавшегося или подпрессованного сыпучего вещества. (56) 1. Орлов С. П. Дозирующие устройства, М. : Машгиз, 1960, с. 15.

2. Орлов С. П. Дозирующие устройства. М. : Машгиз, 1960, с. 93-94.

Формула изобретения

ОБЪЕМНЫЙ ДОЗАТОР , содеpжащий цилиндpический питатель, в веpхней части котоpого pасположен сбpасывающий механизм, и пpиемник, отличающийся тем, что цилиндpический питатель pасположен в пpиемнике, пpичем стенки цилиндpического питателя и его дно установлены с возможностью веpтикального пеpемещения относительно дpуг дpуга.

РИСУНКИ

Рисунок 1, Рисунок 2