Коллиматор свч

 

Использование: для построения компактных антенных полигонов СВЧ-диапазона и проведения антенных измерений. Сущность изобретения: коллиматор содержит осесимметричную линзу 1, выполненную из однородного диэлектрика, тангенс угла потерь которого выбран в пределах 5 10-3 ...510-2 , облучатель 2 с осесимметричной диаграммой направленности шириной равной (0.4 ...2.1)20 , где 0 - угол раскрыва линзы, при этом толщина линзы tл выбрана из условия равенства затухания в центральной части линзы уровню поля на ее кромке и определяется соотношением: tл=д/(tg)ln[A(0f(0)] , где д - длина волны в диэлектрике; tg - тангенс угла потерь; A(0) - значение множителя амплитудного распределения линзы на ее кромке; f(0) - значение диаграммы направленности облучателя в направлении на кромку линзы. 2 ил.

Изобретение касается антенных измерений и может быть использовано для построения компактных антенных полигонов СВЧ-диапазона.

Для уменьшения размеров антенного полигона используют коллиматоры, у которых вблизи от раскрыва формируется плоская волна, распространяющаяся перпендикулярно к раскрыву.

Известен коллиматор СВЧ, который содержит осесимметричную линзу (t = 20 мм), выполненную из однородного диэлектрика с малыми диэлектрическими потерями (фторопласт), и облучатель с осесимметричной диаграммой направленности, установленный в фокусе линзы.

Недостатком этого коллиматора является невысокий уровень электромагнитного поля в его рабочей зоне, обусловленный тем, что из-за требования однородности распределения электромагнитного поля в раскрыве коллиматора необходимо использовать облучатели с широкой диаграммой направленности. Широкий сектор облучения приводит к рассеянию значительной доли мощности вне коллиматора и как следствие - к низкому уровню поля в рабочей зоне антенного полигона.

Цель изобретения - увеличение уровня электромагнитного поля в рабочей зоне коллиматора без ухудшения однородности поля.

Для этого в устройстве, содержащем осесимметричную линзу, выполненную из однородного диэлектрика, и облучатель с осесимметричной диаграммой направленности, установленный в фокусе линзы, облучатель выполнен с шириной диаграммы направленности равной (0,4-2,1) 2 o где 2 o - угол раскрыва линзы, линза выполнена из диэлектрика с потерями, причем значение тангенса угла потерь выбрано в пределах 5х10-3-5х10-2, а толщина линзы tл выбрана из условия равенства затухания в центральной части линзы уровню поля на ее кромке и определяется соотношением tл= ln[A(0f(0)], (1) где д - длина волны в диэлектрике; tg - тангенс угла потерь; A (o) - значение множителя амплитудного распределения линзы на ее кромке; f (o) - значение диаграммы направленности облучателя в направлении на кромку линзы.

Коллиматор СВЧ показан на фиг.1 и 2.

Он содержит диэлектрическую линзу 1, облучатель 2, поглощающий материал 3, металлический (экранирующий) корпус 4.

Коллиматор СВЧ работает следующим образом.

Облучателем 2 создается волна, падающая на линзу 1 и имеющая волновой фронт, близкий к сферическому в секторе o (2 o угол раскрыва линзы). После преломления в линзе 1 вблизи ее теневой поверхности формируется электромагнитное поле с почти синфазным распределением в плоскостях, перпендикулярных фокальной оси. Это поле должно, во-первых, иметь малые отклонения фазы от постоянной величины, что достигается выбором облучателя (имеющего четко выраженный фазовый центр). Во-вторых, поле должно мало отличаться от однородного, т.е. плотность потока мощности в поперечных сечениях должна мало отличаться от постоянной величины. На выходе линзы поле должно быть близким к однородному, ширина ДН облучателя (2 0,5) должна быть по крайней мере больше угла раскрыва.

Расширение ДН облучателя приводит к уменьшению его коэффициента усиления и, следовательно, к уменьшению уровня поля в рабочей зоне коллиматора.

Ширина ДН облучателя выбирается равной (0,4-2,1)2 o. При этом увеличивается спад поля к краям линзы, т.е. возрастает его неравномерность. Для компенсации этого эффекта линза выполнена из материала с заметными диэлектрическими потерями. Наличие потерь в диэлектрике ослабляет поле в центральной части в большей мере, чем на периферии линзы.

Варьируя диаграмму направленности облучателя, параметры линзы и затухание в материале, можно восстановить однородность поля, ухудшенную сужением ДН облучателя. Для этого должно выполняться условие равенства затухания в центре линзы уровню поля на ее краю, т.е.

f2(0)A2(0)= e, (2) где fл - толщина линзы; - коэффициент затухания.

Таким образом наибольшая однородность поля будет, когда толщина линзы выбрана равной (1).

Существует множество значений толщины линзы, при которых можно обеспечить более равномерное поле за счет затухания в материале линзы. Однако при определенных значениях ширины ДН облучателя и тангенса угла потерь можно добиться увеличения уровня поля по сравнению с линзой без потерь.

Оптимальному значению соответствует ширина ДН облучателя, равная (при значениях 2 o = 20-50о).

2 0,5= 2 o (0,595-0,629) , (3) а уровень поля на краю линзы, равный затуханию в центральной ее части e=cosm0=0,374...0,405 (4) При выполнении линзы из материала без потерь ширина ДН облучателя должна быть большей. Сравнение плотностей потока мощности для линзы без потерь, но с более широкой ДН и линзы с потерями, но более узкой ДН облучателя показывает, что результирующий эффект состоит в увеличении плотности потока мощности при наличии потерь. Наличие потерь дает эффект увеличения плотности потока мощности в 2,4-1,7 раза.

Положительный эффект сохраняется и при более узких ДН облучателя. Однако из-за возрастания фазовой ошибки излученного поля в направлениях, удаленных от нормали, выбирать уровень облучения краев линзы менее -10 дБ нецелесообразно. Кроме того, "выигрыш" в этом случае снижается и составляет при уровне -10 дБ величину порядка 1,7-1,09, при тех же параметрах 2 o. Ширина ДН облучателя при этом выбирается равной (0,38-0,4)2o.

Увеличение уровня сигнала при выполнении линзы из материала с потерями в действительности будет значительно большим, так как из-за влияния амплитудного множителя, не равного единице (как это принималось выше), ширина ДН облучателя в прототипе не будет равной 2 o, а значительно большей (близкой к 180о).

Устройство может быть реализовано следующим образом. Необходимое значение потерь достигается применением в качестве диэлектрика материала с умеренными потерями, например пенополиуретана. В зависимости от марки значение для них составляет от 1,05 до 1,2-1,4, а tg = 10-3-10-2. Линза может выполняться с преломляющей освещенной и плоской теневой поверхностью или двоякопреломляющей. Облучатель может быть выполнен в виде синфазного рупора с импедансными стенками (канавками). Требуемое значение ширины ДН 15-35о легко достижимо.

Кроме того, коллиматор СВЧ улучшает равномерность поля в рабочей зоне коллиматора без связи со свойствами облучателя. В линзе существуют многократно отраженные волны от обеих преломляющих поверхностей. Складываясь с прошедшей волной, они вызывают осцилляцию амплитудного распределения поля.

Таким образом, амплитуда осцилляций оказывается меньшей (для оптимального случая в 2,5 раза, для случая с уровнем поля на краю - 10 дБ, соответственно в 10 раз).

Формула изобретения

КОЛЛИМАТОР СВЧ, содержащий осесимметричную линзу, выполненную из однородного диэлектрика и облучатель с осесимметричной диаграммой направленности, установленной в фокусе линзы, отличающийся тем, что облучатель выполнен с шириной диаграммы направленности, равной (0,4...2,1) 2o , где 2o - угол раскрыва линзы, а линза выполнена из диэлектрика с потерями, причем значение тангенса угла потерь диэлектрика выбрано в пределах tg = 0,510-3 - 510-2 , толщина линзы выбрана равной tл= ln[A(0f(0)],
где д - длина волны в диэлектрике;
tg - тангенс угла потерь диэлектрика;
A(o) - значение амплитудного множителя линзы на ее кромке;
f (o) - значение диаграммы направленности облучателя на его кромке.

РИСУНКИ

Рисунок 1, Рисунок 2



 

Похожие патенты:

Изобретение относится к технике измерений параметров антенн

Изобретение относится к технике антенных измерений и может быть использовано для определения характеристики направленности (ХН) фазированной антенной решетки (ФАР) при ее настройке и испытаниях

Изобретение относится к технике СВЧ- и ИК-диапазонов (прежде всего миллиметрового и субмиллиметрового), а именно к способам определения фазового разбаланса интерферометров в этих диапазонах

Изобретение относится к технике измерений эффективной площади рассеяния и может быть использовано для измерения эффективной площади рассеяния (ЭПР) маркера телеметрической системы идентификации объектов

Изобретение относится к технике антенных измерений и может быть использовано для оценки работоспособности апертурных антенн с произвольными количеством апертур и поляризационной структурой излучаемого поля

Изобретение относится к технике антенных измерений и может быть использовано для измерения положения измерительного элемента для дефектоскопии стен строительных сооружений, для определения ближнего поля антенн с большой апертурой защищенных обтекателем сложной формы, например в виде полусферы ил конусообразной формы

Изобретение относится к технике радиоизмерений и может быть использовано для поэлементного контроля работоспособности каналов кольцевых антенных решеток, фазируемых по методу кольцевых гармоник

Изобретение относится к способам измерения параметров антенн и может быть использовано для измерения коэффициентов усиления (КУ) исследуемой антенны и двух вспомогательных антенн с неизвестными КУ

Изобретение относится к технике антенных измерений и может быть использовано для контроля фазированной антенной решетки (ФАР) в составе радиотехнической системы, измеряющей угловые координаты объектов
Наверх