Способ определения содержания разупорядоченной фазы в кристаллах полупроводников

 

Использование: изобретение относится к области контроля параметров полупроводниковых материалов и может быть использовано для определения содержания разупорядоченной фазы в кристаллах полупроводников. Сущность изобретения: регистрируют спектры комбинационного рассеяния света (КРС) на фононах. При направлении волнового вектора падающего света вдоль оптической оси, поляризации перпендикулярно этой оси и регистрации рассеянного излучения при той же поляризации в обратном направлении, регистрируют линию КРС A1 - L0. Второй спектр КРС получают при направлении волнового вектора падающего излучения перпендикулярно оптической оси с поляризацией в направлении оси и регистрации рассеянного излучения в направлении, перпендикулярном как направлению волнового вектора падающего света, так и оптической оси, с поляризацией, совпадающей с направлением волнового вектора падающего света. При этом регистрируют линию КРС E1 - L0. Измеряют затем полуширину указанных линий и вычисляют уширение, обусловленное наличием разупорядоченной фазы и ее количеством. 1 ил.

Изобретение относится к области контроля параметров полупроводниковых материалов, используемых в приборах полупроводниковой оптоэлектроники.

Известен способ определения содержания разупорядоченной фазы с помощью рентгеновского двухкристального спектрометра, в котором монохроматический диафрагмированный пучок рентгеновского излучения дифрагирует на кристалле, а приемник регистрирует распределение интенсивностей рефлексов, обусловленных различными кристаллическими модификациями [1].

Недостатком аналога является невозможность одновременного исследования достаточно протяженных областей образца без его перемещения, так как ее наличие фиксируется не непосредственно, а путем определения количества всех других компонентов (например, кубической, гексагональной, тригональной и т. д.) и определение содержания разупорядоченной фазы как разности между принимаемым за единицу содержанием всех фазовых компонент и измеренными с определенной погрешностью относительными концентрациями различных упорядоченных фаз. Серьезными недостатками аналога являются, кроме того, необходимость прецизионного ориентирования образца и использование дорогостоящей и являющейся источником ионизирующего излучения рентгеновской техники, требующей обработки результатов измерений.

Известен способ [2], который заключается в освещении ориентированного образца поляризованным светом, регистрации спектров экситонного отражения, измерении расщепления поляризованных компонент этих спектров и определении содержания разупорядоченной фазы из сравнения полученного расщепления с расщеплением поляризованных компонент структурно чистого образца того же состава по известной зависимости расщепления компоненты от содержания разупорядоченной фазы.

Недостатком способа является недостаточная достоверность, обусловленная тем, что о количественном содержании разупорядоченной фазы судят по расщеплению поляризованных линий экситонного отражения, в то время как в указанное расщепление могут вносить вклад и политипы, не относящиеся к разупорядоченной фазе, что дает завышенную оценку содержания разупорядоченной фазы еще и потому, что информация о расщеплении линий экситонного отражения получается в слое кристалла не более 10 мкм вблизи поверхности, в котором при обработке увеличивается содержание разупорядоченной фазы.

Известен также принятый за прототип способ определения содержания разупорядоченной фазы в кристаллах полупроводников (Ge, Si, GaAs), в котором ориентированный образец облучают лазерным излучением и регистрируют спектры обратного комбинационного рассеяния света (КРС) на фононах, а о наличии разупорядоченной фазы в кристалле судят по ширине и форме LO и ТО линий [3].

Однако этот способ не позволяет определить количественное содеpжание разупорядоченной фазы, а только выявляет ее присутствие.

Цель изобретения - осуществление возможности количественного определения содержания разупорядоченной фазы.

Цель достигается тем, что в известном способе, включающем облучение полированного ориентированного образца монохроматическим электромагнитным излучением с энергией кванта меньшей ширины запрещенной зоны, регистрацию спектров обратного комбинационного рассеяния на фононах и определение наличия разупорядоченной фазы на основе сравнения ширины LO-линий спектра, образец приготавливают в виде параллелепипеда с ориентацией оптической оси параллельно его ребру, а о наличии разупорядоченной фазы судят по сравнению с линией А1-LO и E1-LO комбинационного рассеяния света, причем линию A1-LO получают при направлении волнового вектора падающего света вдоль оптической оси, поляризации перпендикулярно этой оси и регистрации рассеянного излучения в обратном направлении при той же поляризации, а линию Е1-LO при направлении волнового вектора падающего излучения перпендикулярно оптической оси с поляризацией вдоль этой оси и регистрации рассеянного излучения в направлении, перпендикулярном оптической оси и направлению падающего излучения при поляризации соответствующей направлению волнового вектора падающего света, а содержание разупорядоченной фазы определяют из соотношения Г = 3,2[ (1- )]2/3, где Г - разность полуширины измеренных линий; - содержание разупорядоченной фазы.

Способ поясняется чертежом, где 1 - линия A1-LO спектра КРС, а 2 - линия Е1-LO.

П р и м е р. Исследовалось содержание разупорядоченной фазы в кристаллах Zn1-xMgxS (x = 0,056). Был изготовлен образец в форме параллелепипеда, оптическая ось совпадала с одним из ребер. Грани были химически отполированы. Для возбуждения спектров комбинационного рассеяния используют Аг-лазер ЛГМ-503, возбуждение осуществляют = 4880А.

Первый спектр КРС регистрируют при направлении волнового вектора падающего света вдоль оптической оси с поляризацией перпендикулярно этой оси и регистрации рассеянного излучения в обратном направлении. Второй - при направлении волнового вектора падающего света перпендикулярно оптической оси с поляризацией перпендикулярно этой оси и регистрации рассеянного излучения в направлении, перпендикулярном оптической оси и направлению падающего излучения, при поляризации, соответствующей направлению волнового вектора падающего света. Для регистрации спектров используют рамановский спектрометр Spex-Ramalog (USA). Температура кристалла составляет 300К. Полуширину линий комбинационного рассеяния света измеряют по спектрам, приведенным на чертеже. Кривая 1 представляет собой линию комбинационного рассеяния A1-LO, кривая 2 - E1-LO соответственно. Полуширина линий измерялась на уровне, отмеченном пунктиром.

Измерения полуширины дали следующие результаты: Г1 = 3,40 см-1; Г2 = 3,16 см-1. Было вычислено уширение Г = 0,24 0,04 см-1 и по формуле Г = 3,2[ (1- - )]2/3 определено содержание разупорядоченной фазы, = 0,980 0,005.

Формула изобретения

СПОСОБ ОПРЕДЕЛЕНИЯ СОДЕРЖАНИЯ РАЗУПОРЯДОЧЕННОЙ ФАЗЫ В КРИСТАЛЛАХ ПОЛУПРОВОДНИКОВ, включающий облучение полированного ориентированного образца монохроматическим электромагнитным излучением с энергией кванта, меньшей ширины запрещенной зоны, регистрацию спектров обратного комбинационного рассеяния на фононах и определение наличия разупорядоченной фазы на основе сравнения ширины LO линий спектра, отличающийся тем, что, с целью осуществления возможности количественного определения содержания разупорядоченной фазы, образец изготавливают в виде параллелепипеда с ориентацией оптической оси параллельно одному из его ребер, о наличии разупорядоченной фазы судят на основе сравнения спектральных линий A1 - LO и E1 - LO, причем линию спектра A1 - LO получают при направлении волнового вектора падающего света параллельно оптической оси, поляризации перпендикулярно этой оси и регистрации рассеянного излучения при этой же поляризации, линию E1 - LO получают при направлении волнового вектора падающего излучения перпендикулярно оптической оси, поляризации параллельно этой оси и регистрации рассеянного излучения в направлении, перпендикулярном оптической оси и волновому вектору падающего излучения, и поляризации, параллельной направлению волнового вектора падающего излучения, а содержание разупорядоченной фазы определяют из соотношения Г = 3,2 [(1-)]2 / 3 , где Г - разность полуширины измеренных линий, см-1; - содержание разупорядоченной фазы.

РИСУНКИ

Рисунок 1



 

Похожие патенты:

Изобретение относится к области измерений электрофизических параметров полупроводниковых материалов и может быть использовано в электронной промышленности для определения диффузионной длины, времени жизни и коэффициента диффузии неравновесных носителей заряда в подложках диодных структур p+-n(n+-p)-типа, в том числе в элементах солнечных батарей

Изобретение относится к оптоэлектронике, в частности к светодиодной технике

Изобретение относится к аналитическому контролю жидкофазных материалов, в частности к количественному и качественному анализу элементного состава примесей в жидких органических и неорганических веществах, используемых в технологии силовых полупроводниковых приборов и электротехнических изделий

Изобретение относится к полупроводниковой технике, в частности к способам кристаллографической ориентации биполярных полупроводников, и может быть использовано для определения кристаллографической полярности поверхностей полупроводниковых пластин, используемых при производстве изделий полупроводниковой оптоэлектроники, при изготовлении полупроводниковых фотоприемников, излучателей, лазеров с электронной и оптической накачкой, а также при изучении физических свойств кристаллов
Изобретение относится к полупроводниковой технологии, в частности к способам подготовки монокристаллического кремния к легированию или нанесению покрытий

Изобретение относится к технологии полупроводниковых приборов, интегральных микросхем, БИС и СБИС, в частности к регистрации поверхностных рекомбинационных или электрически активных дефектов (в дальнейшем дефектов) при получении фотоответного изображения полупроводниковой пластины в устройствах со сканирующим лазерным зондом

Изобретение относится к микроэлектронике и может быть использовано для определения качества подготовки пластин кремния с внутренним оксидным геттером, используемых при производстве ИС и полупроводниковых приборов

Изобретение относится к полупроводниковой технике и может быть использовано для контроля энергетической диаграммы слоистых полупроводниковых гетероструктур в процессе изготовления полупроводниковых приборов и микросхем

Изобретение относится к технологии производства интегральных микросхем и позволяет производить контроль качества исходных кремниевых пластин на начальном этапе

Изобретение относится к электронной технике, в частности к способам контроля технологических процессов в производстве гибридных интегральных схем (ГИС) и печатных плат (ПП), и может быть использовано на операции контроля отверждения (полимеризации) пленок фоторезиста, полимерных паст и других полимерных материалов, наносимых на металлические и диэлектрические подложки

Изобретение относится к технике контроля параметров полупроводников и предназначено для локального контроля параметров глубоких центров (уровней)

Изобретение относится к области измерительной техники, в частности к области измерения геометрических размеров плоских изделий, и может быть использовано при измерении толщины плоских изделий из диэлектриков, полупроводников и металлов, в том числе полупроводниковых пластин, пластических пленок, листов и пластин

Изобретение относится к полупроводниковой технике и направлено на повышение точности измерения параметров эпитаксиальных слоев на изотипных проводящих подложках и применение стандартных образцов, изготовленных по технологии, обеспечивающей существенно более высокий процент выхода годных и более высокую механическую прочность

Изобретение относится к полупроводниковой технике и может быть использовано для выявления и анализа структурных дефектов (ростовых и технологических микродефектов, частиц второй фазы, дислокаций, дефектов упаковки и др.) в кристаллах кремния на различных этапах изготовления дискретных приборов и интегральных схем

Изобретение относится к области силовой полупроводниковой техники и может быть использовано при изготовлении тиристоров и диодов
Изобретение относится к неразрушающим способам контроля степени однородности строения слоев пористого кремния

Изобретение относится к области измерительной техники, в частности к области измерения электрофизических параметров материалов, и может быть использовано для контроля качества полупроводниковых материалов, в частности полупроводниковых пластин
Наверх