Способ защиты поверхности полупроводниковых приборов свинцово-силикатным стекловидным покрытием

 

Использование: в способе защиты поверхности полупроводниковых приборов свинцово-силикатным стекловидным покрытием, используемом в микроэлектронике. Сущность изобретения: при приготовлении водного раствора стеклообразующих элементов перед добавлением раствора кремниевой кислоты в раствор азотнокислых солей свинца и алюминия добавляют азотнокислую соль никеля. Способ позволяет повысить пробивное напряжение полупроводниковых приборов.

Изобретение относится к технологии изготовления пассивирующих покрытий для защиты поверхности полупроводниковых приборов.

В качестве защиты меза-структуры высоковольтных приборов широко применяются стекловидные покрытия, что вызвано их высокой влагоустойчивостью, термоустойчивостью, высокими электроизоляционными свойствами, стабильностью во времени. Среди них особое место занимают низкотемпературные свинцово-силикатные стекловидные покрытия.

Наиболее близким к заявленному способу является способ защиты поверхности полупроводниковых приборов свинцово-силикатными стеклами. Стекло защищает поверхность меза-структуры, но не повышает пробивное напряжение полупроводниковых приборов.

Техническим результатом изобретения является повышение пробивного напряжения полупроводниковых приборов после защиты их поверхности стекловидным покрытием путем введения в него добавки никеля.

Способ заключается во введении в водный раствор азотнокислых солей свинца и алюминия азотнокислого никеля с последующим смешиванием с раствором кремниевой кислоты, осаждением осадка гидроокисей водным раствором аммиака, просушиванием их до образования оксидов, помолом.

П р и м е р. Получение 200 г стеклопорошка состава, 44,99 PbO, 10 Al2O3, 44 SiO2, 0,01 NiO. Готовится водный раствор: 142 г Pb(NO3)2, 162 г Al(NO3)39H2O, 0,1 г Ni(NO3)2 в 4800 мл Н2О [1] Гидролизом водного раствора тетраэтоксисилана 2 мл HNO3 в 1 л Н2О готовится раствор кремниевой кислоты (2). Растворы 1 и 2 сливают, перемешивают, получается раствор 3. Смешиванием 2200 мл 25% -ного аммиака и 4600 мл воды готовится водный раствор аммиака (4). Растворы 3 и 4 сливают при интенсивном перемешивании. Образующийся осадок гидроокисей отделяется от маточного раствора, высушивается, прокаливается при 740оС в течение 3 ч в атмосфере кислорода до получения оксидов, подвергается помолу на шаровой планетарной мельнице. Полученный стеклопорошок методом электрофореза наносится на поверхность полупроводниковой пластины, оплавляется при 870-900оС в сплошное прозрачное стекловидное покрытие.

Пробивное напряжение полупроводниковых приборов, изготовленных по предложенному способу, повышается на 200-400 В, что особенно важно при изготовлении высоковольтных приборов.

Формула изобретения

СПОСОБ ЗАЩИТЫ ПОВЕРХНОСТИ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ ПРИБОРОВ СВИНЦОВО-СИЛИКАТНЫМ СТЕКЛОВИДНЫМ ПОКРЫТИЕМ, включающий приготовление водного раствора азотнокислых солей свинца и алюминия с последующим смешиванием с раствором кремниевой кислоты, осаждение осадка гидроокисей водным раствором аммиака, просушивание осадка, прокаливание и помол полученных оксидов, нанесение порошка оксидов на поверхность полупроводниковой пластины и оплавление, отличающийся тем, что перед смешиванием с раствором кремниевой кислоты в раствор азотнокислых солей свинца и алюминия добавляют азотнокислую соль никеля.



 

Похожие патенты:

Изобретение относится к технологии производства полупроводниковых приборов, а именно к технологии получения диэлектрических слоев на кремниевых подложках, и может быть использовано при изготовлении приборов по МОП- и КМОП-технологии, а также в сенсорной микроэлектронике при изготовлении газовых датчиков, выполненных из пленок диоксида кремния

Изобретение относится к микроэлектронике и может быть использовано в полупроводниковой технологии для получения диэлектрических слоев при низких температурах

Изобретение относится к области электронной техники и может быть использовано в производстве КМОП полупроводниковых приборов, стойких к воздействию внешних факторов, в частности гамма-излучения
Изобретение относится к микроэлектронике и может быть использовано в технологии полупроводниковых приборов, в частности МДП-приборов на полупроводниках типа АIIIВV
Изобретение относится к микроэлектронике и может найти широкое применение в технологии полупроводниковых приборов, в частности МДП-приборов на полупроводниках типа АIIIВV

Изобретение относится к микроэлектронике и может найти применение в технологии МДП-приборов, в частности многоэлементных приемников на узкозонных полупроводниках типа АIIIВV

Изобретение относится к области микроэлектроники и может найти широкое применение в технологии полупроводниковых приборов

Изобретение относится к технологии изготовления полупроводниковых приборов и интегральных микросхем
Изобретение относится к области тонкопленочной технологии и предназначено для использования в микроэлектронике и интегральной оптике
Изобретение относится к технологии получения полупроводниковых приборов, в частности к способам получения пленок, содержащих бор на поверхности полупроводниковых материалов
Изобретение относится к технологии получения полупроводниковых приборов, в частности к способам получения пленок, содержащих бор и фосфор на поверхности полупроводниковых материалов
Изобретение относится к технологии получения полупроводниковых приборов, в частности к способам получения пленочных диэлектриков, из которых наиболее широко используемым является окись тантала (Ta2O5)

Изобретение относится к микро- и наноэлектронике и может быть использовано в производстве СБИС, полевых нанотранзисторов, а также устройств оптической волоконной связи
Наверх