Способ коррекции оптической системы

 

Способ коррекции оптической системы, заключающийся в том, что рассчитывают оптическую систему со сферическими поверхностями при небольших остаточных аберрациях, вводят в систему асферические поверхности для получения допустимых значений остаточных аберраций, подбирают ближайшие к асферическим поверхностям сферы, вычисляют толщины слоев, подлежащих нанесению или съему с этих сфер в вакууме, рассчитывают и изготавливают маски для асферизации и изготавливают оптические элементы с заданными асферическими поверхностями, отличающийся тем, что проводят коррекционный перерасчет оптической системы, снижая толщину наносимого или снимаемого слоя материала до технологически освоенных величин на каждой асферической поверхности за счет увеличения общего количества вводимых в систему асферических поверхностей, определяют группу поверхностей, подлежащих асферизации в едином технологическом процессе, рассчитывают и изготавливают для каждой поверхности соответствующую ей маску, выбирая при этом значение максимального угла раскрытия выреза для каждой из масок по следующей математической зависимости: где - максимальный угол раскрытия вырезов маски для асферизации i-того оптического элемента, угл. град; - максимальная асферичность (максимальное отступление асферики от ближайшей сферы) i-го элемента, мкм; - максимальная асферичность опорной поверхности, т.е. поверхности с наибольшей асферичностью из всей группы элементов, подлежащих асферизации, мкм; - максимальный угол раскрытия вырезов маски для асферизации опорной поверхности, угл. град; проводят процесс асферизации с помощью масок одновременно всей группы оптических элементов, а прекращают процесс в момент достижения на опорной асферизуемой поверхности толщины наносимого или снимаемого слоя, равной расчетному значению ю



 

Похожие патенты:

Изобретение относится к оптике и предназначено для использования в оптических приборах различного назначения

Изобретение относится к области оптического приборостроения, а именно к способам изготовления асферических зеркал

Объектив // 1619216

Изобретение относится к оптическому приборостроению и обеспечивает возможность освещения площади произвольной формы без энергетических потерь за счет управления формой и размерами излучаемого пучка

Изобретение относится к технологии изготовления и контроля асферических оптических деталей и позволяет повысить точность контроля крупногабаритных поверхностей

Микроскоп // 1273861

Линза // 1267333

Изобретение относится к области микроэлектроники, в частности к созданию прецизионных топологических рисунков в тонких пленках, и может быть использовано в производстве ИС, ГИС, изделий индикаторной техники

Изобретение относится к нанесению тонких пленок в вакууме путем пучково-плазменного распыления

Изобретение относится к микроэлектронике, в частности к технологии изготовления сверхбольших интегральных схем

Изобретение относится к нанесению покрытий вакуумным испарением и может быть использовано для получения на ленте из цветных металлов и сплавов полосчатых и дискретных покрытий

Изобретение относится к прокатному производству и может быть использовано на металлургических и машиностроительных заводах преимущественно для листовой прокатки с одновременным нанесением на прокатываемую полосу различных металлических покрытий

Изобретение относится к области литейного производства, в частное ти к способу изготовления кокилей,
Наверх