Способ селективного внутриотвального обогащения пород

 

Изобретение относится к горной промышленности и может быть использовано при внутриотвальном обогащении пород. Способ включает формирование дренажного, барьерного обогащаемого и выщелачиваемого слоев и обработку выщелачивающими растворами. Новым является то, что обогащаемый слой формируют на основе пирита. При этом при миграции мышьяка обогащаемый слой формируют на основе электроположительного пирита, а при миграции кобальта на основе электроотрицательного пирита. 2 з.п. ф-лы, 1 ил.

Предлагаемое изобретение относится к горной промышленности и может быть использовано при внутриотвальном обогащении пород.

Известен способ складирования горных пород [1] включающий формирование антифильтрационного, обогащаемого и выщелачиваемого слоев, растворение и охлаждение металлов за счет испарения растворов.

Недостатком данного метода является его низкая эффективность и невозможность селективного внутреннего обогащения.

Наиболее близким к предлагаемому по технической сущности и достигаемому результату является способ складирования пород [2] включающий формирование дренажного, антифильтрационного, выщелачиваемого и обогащаемого слоев, и обеспечение внутриотвального обогащения некондиционных руд.

Недостатком данного способа является недостаток, указанный выше.

Целью предлагаемого изобретения является повышение эффективности процесса внутриотвального обогащения за счет селективного осаждения металлов на пиритах с различным знаком электродного потенциала.

Поставленная цель достигается тем, что при осуществлении предложенного способа, включающего формирование дренажного, обогащаемого и выщелачиваемого слоев и обработку технологическими растворами, выщелачиваемый слой формируют из многокомпонентных металлосодержащих пород, а обогащаемый слой формируют в зависимости от преобладания мигрирующих соединений (As, Co) из электроположительного или электроотрицательных пиритов.

При обработке выщелачиваемого слоя растворами активных агентов происходит растворение большой группы металлов, миграция металлоносных растворов и обогащение барьерного слоя, где происходит селективное осаждение металлов.

Причем электроположительные пириты обогащаются As, а электроотрицательные Co (см. например, Нюссик Я. М. Комов И. Л. Электрохимия в геологии. Л. Наука, 1981). Этот факт объясняется преимущественной миграцией мышьяка в отвальных водах в виде анионов, а кобальта в форме положительно заряженного иона. Причем необходимо отметить, что указанные процессы, известные из геохимии и природных процессов выветривания, ранее не применялись в технике и технологии.

На чертеже представлен вариант схемы формирования отвала по предложенному способу.

Отвал включает дренажный 1, барьерный 2 и 3, выщелачиваемый 4 слои, источник 5.

Способ осуществляется следующим образом.

Первоначально формируют дренажный слой 1, затем обогащаемые слои 2 и 3. Затем формируют выщелачиваемый слой 4 из многокомпонентных металлосодержащих пород. Причем слой 2 формируют из электроотрицательных пиритов, а слой 3 - электроположительных.

При обработке отвала из источника 5 растворами активных агентов происходит растворение металлов (As, Co) из слоя 4, миграция металлоносных растворов вниз, где в слоях 2 и 3 происходит их последовательное, в определенном порядке, осаждение.

Примером конкретного выполнения предложенного способа служит складирование металлосодержащих пород, содержащих (As, Co).

Первоначально подготавливается площадка под отвал. Затем металлосодержащие породы, вынимаемые селективно, складируются в отвал. Отвал формируется следующим образом: формируют дренажное основание 1, из щебня, мощностью 1 м. Затем формируют барьерный слой 2 на основе электроотрицательного пирита, и слой 3 из электроположительно пирита, мощностью 2 5 м каждый. Последним формируют выщелачиваемый слой 4 из металлосодержащих пород, содержащих мышьяк или кобальт, мощностью 12 20 м. При обработке слоя 4 из источника 5 растворами, например, щелочей, происходит выщелачивание металлов, их миграция вниз, где в слоях 2 и 3 происходит их последовательное осаждение: мышьяка на электроположительном, а кобальта на электроотрицательном пирите.

В результате в барьерных слоях 2 и 3 содержание металлов достигнет промышленных содержаний, а их селективное осаждение обуславливает эффективность последующей его селективной отработки и переработки.

Положительный эффект предложенного технического решения заключается в повышении эффективности процесса внутриотвального обогащения путем селективного осаждения металлов.

Предлагаемое изобретение может быть использовано при внутриотвальном обогащении пород.

Формула изобретения

1. Способ селективного внутриотвального обогащения пород, включающий формирование дренажного, барьерного обогащаемого и выщелачиваемого слоев и обработку выщелачивающими растворами, отличающийся тем, что обогащаемый слой формируют на основе пирита.

2. Способ по п. 1, отличающийся тем, что в случае миграции мышьяка обогащаемый слой формируют на основе электроположительного пирита.

3. Способ по п. 1, отличающийся тем, что в случае миграции кобальта обогащаемый слой формируют на основе электроотрицательного пирита.

РИСУНКИ

Рисунок 1