Способ снижения времени выключения тиристоров

 

Изобретение относится к электронной промышленности и может быть использовано при конструировании и производстве тиристоров. Сущность способа заключается в однородном по площади облучении выпрямительных элементов тиристоров потоком быстрых электронов или протонов и создании путем дополнительного локального облучения участка повышенной рекомбинации, расположенного под управляющим электродом и примыкающим к нему краем катодной области шириной 200 - 500 мкм, причем доза дополнительного локального облучения () определяется из соотношений: = (t1/t2-1)/(руэ0Kp) или = (t1/t2-1)(t1Ktq), где Kp - коэффициент деградации времени жизни неравновесных носителей заряда при облучении; t1, t2 - измеренные до локального облучения времени выключения тиристора, причем их измерения проводят в одинаковом режиме, но при измерении t2 в цепь управления тиристора подают отрицательный импульс тока; руэ0 - время жизни неравновесных носителей заряда в области управляющего электрода до локального облучения; Ktq - коэффициент деградации времени выключения при дополнительном локальном облучении. Технический результат изобретения - возможность работы приборов при высоких частотах с наименьшими потерями. 2 с.п. ф-лы, 3 табл.

Изобретение относится к электронной промышленности и может быть использовано при конструировании и производстве тиристоров.

Известно, что время выключения тиристоров (tq) в широком диапазоне значений времени жизни неравновесных носителей заряда (p) на выпрямительных элементах может считаться пропорциональным p (см. "Расчет силовых полупроводниковых приборов" под редакцией В. А. Кузьмина. М.: Энергия. 1980 г.), поэтому существует много способов снижения tq, в которых однородно по площади всего выпрямительного элемента (в.э.) снижают p, для чего проводят диффузию Au, Pt или облучение в.э. потоком быстрых электронов, например (см. Патент США N 3881963, заявл. 18.01.73. Заявитель WEC).

Однако, используя такие способы, достигнуть достаточно малых значений tq при сохранении приемлемых значений импульсного напряжения в открытом состоянии (Utm) не удается.

Это обусловлено тем, что тиристоры имеют пониженное значение критического заряда включения (Qkp) в части в.э., расположенной под управляющим электродом и примыкающим к нему краем катодной области шириной 200-500 мкм. Она выключается последней и определяет время выключения тиристора. Для достижения достаточно малых значений tq при использовании вышеописанного способа приходится сильно снижать p по всей площади тиристора, что приводит к недопустимому росту Utm.

Наиболее близким способом того же назначения к заявляемому по совокупности признаков является способ снижения времени выключения тиристоров, заключающийся в однородном по площади облучении выпрямительных элементов тиристоров потоком быстрых электронов или протонов и создании путем дополнительного локального облучения участка повышенной рекомбинации (УПР), расположенного под управляющим электродом и примыкающим к нему краем катодной области шириной 200-500 мкм (см. Патент США N 3877997, заяв. 20.03.73, опубл. 15.04.75, Заявитель WEC).

Недостатком указанного способа является то, что при его использовании для конкретного тиристора неизвестно, на сколько нужно повысить значение Qkp. Поэтому для достижения достаточно высоких значении Qkp и малых tq все тиристоры подвергаются облучению одинаковыми и очень высокими дозами, для большинства из них существенно превышающими необходимые. В то же время избыточное повышение Qkp на указанном участке приводит к недопустимому снижению площади начального включения и, как следствие, к увеличению энергии потерь при включении (Ett), а также снижению критического значения скорости нарастания анодного тока и предельной частоты, на которой могут работать тиристоры (см. Н.Н. Беспалов, Е.М. Гейфман. "Экспериментальные исследования площади начального включения и потерь в тиристорах при включении по цепи управления". Электротехника, 1996г., N 1, с. 48-51). Поэтому у тиристоров, для которых используется этот способ локального облучения вышеназванные параметры недопустимо ухудшаются.

Однако возможно до создания УПР выявить тиристоры, имеющие пониженное значение Qkp в области управляющего элек трода и количественно определить на сколько можно снизить tq v таких тиристоров за счет повышения Qkp в этой области. Для этого необходимо до создания УПР два раза измерить tq в одинаковом режиме, но при втором измерении в цепь управления тиристора нужно подать отрицательный импульс тока. Это приведет к значительному росту Qkp в этой области. Поэтому у тиристоров с зани женным значением Qkp величина tq при втором измерении (t2) будет меньше, чем при первом (t1).

Задача изобретения - сохранение малых значений энергии потерь при включении. Технический результат - возможность работы приборов при высоких частотах с наименьшими потерями.

Решение поставленной задачи достигается тем, что в известном способе снижения времени выключения тиристоров, заключающемся в однородном по площади облучении выпрямительных элементов тиристоров потоком быстрых электронов или протонов и создании путем дополнительного локального облучения участка повышенной рекомбинации, расположенного под управляющим электродом и примыкающим к нему краем катодной области шириной 200-500 мкм, доза дополнительного локального облучения () пределяется из соотношения где Kp - коэффициент деградации времени жизни неравновесных носителей заряда при облучении; t1, t2 - измеренные до локального облучения времена выключения тиристора, причем их измерения проводят в одинаковом режиме, но при измерении t2 в цепь управления тиристора подают отрицательный импульс тока; руэ0 - время жизни неравновесных носителей заряда в области управляющего электрода до локального облучения, или из соотношения где Ktq - коэффициент деградации времени выключения при дополнительном локальном облучении.

Выше указывалось, что tq пропорционального p, т.е.

t1= Kруэ0, (1) t2= Kруэ1, (2) где K - коэффициент пропорциональности между tq и руэ,
поэтому для того, чтобы снизить tq с t1 до t2 нужно снизить руэ от исходного значения руэ0 до значения руэ1. Изменение времени жизни неравновесных носителей заряда в результате электронного или протонного облучения описывается соотношением

где Kp - коэффициент деградации времени жизни неравновесных носителей заряда при облучении;
- доза облучения.

Исходя из соотношений (1) - (3) можно рассчитать необходимую дозу дополнительного локального облучения из соотношения
= (t1/t2-1)/(руэ0Kp). (4)
В ряде случаев, например при облучении участка повышенной рекомбинации большими дозами быстрых электронов, протонов или альфа-частиц, при создании участка повышенной рекомбинации специальной формы и в ряде других, величина Kp в процессе облучения изменяется. Тогда для определения величины при создании участка повышенной рекомбинации необходимо предварительно у выпрямительных элементов данного типа тиристоров снять зависимость tq от дозы дополнительного локального облучения. Эту зависимость можно представить в следующем виде

где Ktq - коэффициент деградации времени выключения при дополнительном локальном облучении.

Из соотношения (5) легко определить величину дозы дополнительного локального облучения из соотношения
= (t1/t2-1)/(t1Ktq). (6)
Предлагаемый способ был использован для регулирования времени выключения партии тиристоров типа Т453-800 в количестве 50-ти штук, изготовленных на АО "Электровыпрямитель" по серийному технологическому процессу. Выпрямительные элементы тиристоров имели диаметр 56 мм. Они изготавливались из кремния марки КОФ60- 140, имели толщину 680 мкм и глубины переходов: Хn-p - 105 мкм, X+n-p-21 мкм. До создания участка повышенной рекомбинации все тиристоры подвергались однородному по площади облучению. После этого значения Uтм у всех выпрямительных элементов лежали в диапазоне 2.0-2.2 В. Затем на каждом выпрямительном элементе измерялись значения времени выключения t1 и t2, в следующем режиме: Tj = 125oC. Iт = 800 A, di/dt = -5 A/мкс, UR = 100 В, du/dt = 50 В/мкс, UD = 1600В. При измерении t2 в момент прохождения анодного тока через ноль в цепь управления тиристора подавался отрицательный импульс тока с амплитудой, равной 50 A. На тиристорных структурах также проводилось измерение величины руэ и энергии потерь при включении Ett. Измерение Ett про водилось на специально разработанном аналого-цифровом измерителе в следующем режиме: амплитуда анодного напряжения перед включением 1000 B, амплитуда анодного тока 160 A, ток трапецеидальной формы со скоростью нарастания 40 A мкс. Энергия потерь определялась за интервал времени, равный 20 мкс от момента достижения анодным током значения 0.1 A. Результаты измерений представлены в таблице N 1. Из полученных данных следует, что только у 26-ти тиристоров из 50-ти t1 превышает t2 более, чем на 5%, следовательно, только для них целесообразно создание участка повышенной рекомбинации. Требуемая доза дополнительного локального облучения для каждой тиристорной структуры рассчитывалась из соотношения (4). Коэффициент деградации Kp для используемого режима облучения принимался равным 7.110-15 см2/(элмкс). Результаты измерений и расчетов приводятся в таблице 3. После этого выпрямительные элементы, имеющие недостаточные значения Qkp, подвергались дополнительному локальному облучению. Облучение участка повышенной рекомбинации проводилось на линейном ускорителе электронов "Электроника У-003". Максимальная плотность тока на мишени составляла 0.01 мкА/см2, а энергия электронов 7МэВ. Распределение относительной плотности потока электронов по экрану приведено в таблице N 2. После облучения вторично измерялись значения Utm, t1, t2, Ett руэ1. Место расположения тиристорной структуры при облучении, номер строки (N стр.) и столбца (N стл.) на экране, реальная доза облучения выпрямительного элемента с учетом плотности потока в месте расположения выпрямительного элемента и результаты измерений параметров после дополнительного локального облучения приведены в таблице N 3. Из полученных результатов следует, что после дополнительного локального облучения только у двух выпрямительных элементов t1>t2 более, чем на 5%. Значения Ett изменились незначительно, а на величину Utm локальное облучение участка повышенной рекомбинации практически не повлияло.

Для сравнения полученных результатов со способом-прототипом все тиристорные структуры партии были дополнительно локально облучены или дооблучены до одинаковой дозы = 71012 эл/см2, которая являлась максимально необходимой для достижения всеми тиристорами данной партии значения t1t2. Расположение тиристорных структур при дооблучении. время дооблучения, значения t1, t2, Utm, Ett, измеренные после дооблучения вышеуказанной дозой, приведены в таблице N 1. Из данных, приведенных в таблицах N 1 и N 3, следует, что при таком способе создания участка повышенной рекомбинации практически все тиристорные структуры (49 штук) имели руэ в участке повышенной рекомбинации ниже, чем требуется для достижения t1=t2, что привело к избыточному точному увеличению Ett в среднем на 20-30% и ограничивает применение тиристоров, изготовленных по способу-прототипу при работе на повышенных частотах, а также в режиме с повышенной скоростью нарастания анодного тока.

В целом, полученные результаты свидетельствуют о высокой эффективности предлагаемого способа.


Формула изобретения

1. Способ снижения времени выключения тиристоров, заключающийся в однородном по площади облучении выпрямительных элементов тиристоров потоком быстрых электронов или протонов и создании путем дополнительного локального облучения участка повышенной рекомбинации, расположенного под управляющим электродом и примыкающим к нему краем катодной области шириной 200 - 500 мкм, отличающийся тем, что доза дополнительного локального облучения () определяется из соотношения

где Kp - коэффициент деградации времени жизни неравновесных носителей заряда при облучении;
t1, t2 - измеренные до локального облучения времена выключения тиристора, причем их измерения проводят в одинаковом режиме, но при измерении t2 в цепь управления тиристора подают отрицательный импульс тока;
руэ0 - время жизни неравновесных носителей заряда в области управляющего электрода до локального облучения.

2. Способ снижения времени выключения тиристоров, заключающийся в однородном по площади облучении выпрямительных элементов тиристоров потоком быстрых электронов или протонов и создании путем дополнительного локального облучения участка повышенной рекомбинации, расположенного под управляющим электродом и примыкающим к нему краем катодной области шириной 200 - 500 мкм, отличающийся тем, что доза дополнительного локального облучения () определяется из соотношения

где Ktq - коэффициент деградации времени выключения при дополнительном локальном облучении.

РИСУНКИ

Рисунок 1, Рисунок 2, Рисунок 3



 

Похожие патенты:

Изобретение относится к методам формирования твердотельных наноструктур, в частности полупроводниковых и оптических, и может быть использовано при создании приборов нового поколения в микроэлектронике, а также в оптическом приборостроении

Изобретение относится к области производства полупроводниковых приборов и может быть использовано в технологии изготовления дискретных приборов и интегральных схем для очистки (геттерирования) исходных подложек и структур на основе монокристаллического кремния от фоновых примесей и дефектов

Изобретение относится к технологии создания сложных проводящих структур с помощью потока заряженных частиц и может быть использовано в микроэлектронике для создания сверхминиатюрных приборов, интегральных схем, запоминающих устройств и оптических элементов

Изобретение относится к устройствам для удаления нежелательных поверхностных примесей с плоской или имеющей нерегулярную форму поверхности подложки 12 высокоэнергетическим излучением
Изобретение относится к технике, связанной с процессами легирования и диффузии примесей в полупроводники и металлы, а именно к способам диффузионного перераспределения примеси с поверхности по глубине полупроводниковых пластин путем обработки в потоке электронного пучка, и может быть использовано в пространстве полупроводниковых приборов и интегральных микросхем

Изобретение относится к области силовой полупроводниковой техники и может быть использовано при изготовлении тиристоров и диодов

Изобретение относится к технологии полупроводниковых приборов, а более конкретно к методам радиационно-термической обработки диодов, работающих на участке пробоя вольтамперной характеристики, и может быть использовано в производстве кремниевых стабилитронов, лавинных вентилей, ограничителей напряжения и т.п

Изобретение относится к способам образования квазиодномерных твердых кремниевых наноструктур

Изобретение относится к способу комбинации электропроводящих и полупроводниковых трехмерных структур в составной матрице, содержащей два или более материалов, обеспеченных в пространственно отдельных и однородных структурах материалов, в которых материалы в ответ на подачу энергии могут подвергаться определенным физическим и/или химическим изменениям состояния, которые вызывают переход от электрически непроводящего состояния к электрически проводящему и/или полупроводниковому состоянию или наоборот, или изменение в режиме электрической проводимости материала, причем каждая структура материала выполнена в форме тонких слоев путем объединения двух или более слоев в слоистую многослойную структуру, которая образует составную матрицу с комбинацией электропроводящих и/или полупроводниковых трехмерных структур, при этом многослойная структура создается путем последовательного осаждения двух или более слоев в конфигурацию стопки на несущей подложке

Изобретение относится к области легирования твердых тел путем облучения ионами фазообразующих элементов и может быть использовано для ионной модификации структуры и физико-механических свойств металлов, полупроводников и сверхпроводников

Изобретение относится к технологии нейтронно-трансмутационного легирования (НТЛ) кремния при промышленном производстве на энергетических реакторах типа РБМК, широко применяемого в технологии изготовления приборов электронной и электротехнической промышленности
Наверх