Шликер для магнитотвердых ферритовых пленок

 

Изобретение относится к технологии магнитотвердых ферритов и может быть использовано при изготовлении пленочных магнитов. Цель изобретения - ускорение скорости сушки отливаемых пленок. Поставленная цель достигается тем, что шликер, включающий ферритовый наполнитель, полиакриловую кислоту, триэтаноламин и воду, дополнительно содержит олеиновую кислоту при следующем соотношении компонентов, мас. %: полиакриловая кислота 2-6, триэтаноламин 4-10, олеиновая кислота 0,05-0,3, вода 28-45, ферритовый наполнитель остальное. 2 табл.

Изобретение относится к технологии магнитотвердых ферритов и может быть использовано при изготовлении пленочных магнитов.

Известен шликер для керамических пленок, включающий керамический наполнитель, поливиниловый спирт, поливинилацетатную эмульсию, глицерин, дибутилфтолат, латекс синтетического каучука и воду (авт. свид. СССР N 1147705). Использование поливинилового спирта в составе шликера является причиной малой скорости высыхания отливаемой пленки. Это обусловлено образованием на поверхности шликера прослойки, обогащенной молекулами поливинилового спирта. Диффузия молекул воды через эту прослойку затруднена, что снижает скорость сушки пленок, отливаемых из шликера.

Наиболее близким к предлагаемому решению по технической сущности и достигаемому эффекту является шликер, включающий ферритовый наполнитель, полиакриловую кислоту, триэтаноламин и воду (авт. свид. СССР N 1310368). Полиакриловая кислота в отличие от поливинилового спирта имеет большую растворимость в воде и менее склонна к образованию поверхностной прослойки. Это позволяет повысить скорость высыхания пленки при литье, однако эта скорость недостаточно высока.

Цель изобретения - ускорение скорости сушки отливаемых пленок.

Поставленная цель достигается тем, что шликер, включающий ферритовый наполнитель, полиакриловую кислоту, триэтаноламин и воду, дополнительно содержит олеиновую кислоту при следующем соотношении компонентов, мас.%: полиакриловая кислота - 2 - 6 триэтаноламин - 4 - 10 олеиновая кислота - 0,05 - 0,3 вода - 28 - 45 ферритовый наполнитель - остальное Молекулы олеиновой кислоты, располагаясь на поверхности шликера, препятствуют вытеснению молекул полиакриловой кислоты к этой поверхности. В результате заметно ускоряется испарение воды через поверхность отливаемой пленки.

Пример 1 Приготавливали шликер мокрым помолом в аттриторе порошка стронциевого феррита марки ПФС (ТУ 6-0020-4854-18-93), полиакриловой кислоты (ТУ 6-01-1260-81), триэтаноламина (ТУ 6-09-3506-78) и олеиновой кислоты (ГОСТ 10475-75). Для сравнения приготавливали шликер согласно прототипу с использованием карбамида (ГОСТ 6691-77).

Из приготовленных шликеров отливали пленки стронциевого феррита толщиной 1 мм на литьевой машине "Кармадон". Сушка пленки на этой установке осуществляется в потоке теплого воздуха, нагретого до 70^oC. Данные о влиянии состава шликера на скорость литья пленки приведены в таблице 1. Результаты получены усреднением десяти замеров. Как видно из данных, использование шликера по предлагаемым составам позволяет заметно повысить скорость сушки при литье пленки.

Пример 2.

Приготавливали шликер мокрым помолом в аттриторе порошка бариевого феррита марки ПФБ (ТУ 6-09-4788-86), полиакриловой кислоты, триэтаноламина и олеиновой кислоты. Для сравнения приготавливали шликер согласно прототипу.

Из приготовленных шликеров отливали пленки бариевого феррита толщиной 1 мм на литьевой машине "Кармадон". Данные о влиянии состава шликера на скорость литья пленки приведены в таблице 2. Результаты получены усреднением десяти замеров. Как видно из данных, использование шликера по предлагаемым составам также позволяет повысить скорость сушки.

Формула изобретения

Шликер для магнитотвердых ферритовых пленок, включающий ферритовый наполнитель, полиакриловую кислоту, триэтаноламин и воду, отличающийся тем, что дополнительно содержит олеиновую кислоту при следующем соотношении компонентов, мас.%: Полиакриловая кислота - 2 - 6
Триэтаноламин - 4 - 10
Олеиновая кислота - 0,05 - 0,3
Вода - 28 - 45
Ферритовый наполнитель - Остальное

РИСУНКИ

Рисунок 1, Рисунок 2