Способ изготовления газового сенсора

Способ изготовления газового сенсора включает последовательное формирование на подложке системы контактов методами микротехнологии и чувствительного элемента на основе композиционного материала, состоящего из полимерной матрицы, армированной частицами наполнителя. В качестве материала полимерной матрицы используют фоточувствительные композиции. Формирование чувствительного элемента осуществляют методами литографии. Формирование слоя композиционного материала чувствительного элемента осуществляют из смеси раствора фоточувствительной композиции в растворителе с частицами наполнителя. В качестве наполнителя используют моно- или полидисперсные порошки нанотрубок, фуллеренов, сажи, графита, наночастицы окиси олова. Формирование слоя композиционного материала чувствительного элемента осуществляют методом центрифугирования смеси раствора фоточувствительной композиции с частицами наполнителя. Термообработка слоя композиционного материала чувствительного элемента осуществляется после проведения процесса литографии термическим методом при температуре, не выше температуры деструкции полимерной матрицы. Технический результат - упрощение технологии изготовления, исключая операцию формирования микрообъема. 4 з.п. ф-лы.

 

Изобретение относится к области технологии изготовления микроэлектронных и микромеханических устройств и может быть использовано при изготовлении газовых сенсоров, материалами чувствительных элементов которых служат композиционные материалы, состоящие из полимерной матрицы, армированной частицами наполнителя.

Известен способ формирования чувствительных элементов сенсора из каталитических металлов методом взрывной литографии [см. патент RU 2282227 С2, МПК G03F 7/16 от 20.08.06]. Способ включает осаждение на поверхности подложки сенсора слоя поликремния или ленгмюровского слоя поверхностно-активного термостойкого полимерного соединения, формирование маски из осажденного слоя, очищение свободной поверхности подложки методом сухого травления, нанесение каталитического металла и формирование элементов из них методом взрывной литографии.

Однако использование метода взрывной литографии для формирования элементов из композиционного материала, состоящего из полимерной матрицы, армированной частицами наполнителя, невоспроизводимо, поскольку доступ травителя к сформированной маске затруднен из-за планаризации рельефа при формировании слоя материала чувствительного элемента по растворной технологии [У.Моро. Микролитография, М.: Мир, 1990, ч.1 и 2].

Наиболее близким по технической сущности и достигаемому эффекту является способ изготовления чувствительного элемента газового сенсора, описанный в статье [Zee F., Judy J.W. Micromachined polymer-based chemical gas sensor array // Sensors and Actuators, В 72, 2001, pp.120-128], согласно которому для формирования чувствительного элемента заданной топологии на поверхности или в объеме подложки методами поверхностной или объемной микрообработки выполняют матрицу микрообъемов, которые затем заполняют полимеруглеродным раствором с помощью шприца. Однако нанесение раствора с помощью шприца невоспроизводимо, поскольку необходима высокоточная юстировка положения шприца относительно топологического рисунка, а также применение метода ограничивает возможности повышения производительности изготовления газового сенсора и обуславливает возможность последнего только при наличии специально разработанного дорогостоящего высокопрецизионного оборудования, обеспечивающего групповой процесс инжекции капель раствора на локальные участки образцов.

Техническая задача, решаемая изобретением, состоит в создании способа изготовления газового сенсора, позволяющего упростить технологию изготовления прототипа.

Технический результат изобретения состоит в том, что предлагаемый способ изготовления газового сенсора упрощает технологию его изготовления, исключая операцию формирования микрообъема, что понижает затраты на производство сенсора.

Технический результат достигается путем применения для формирования топологического рисунка в слое композиционного материала чувствительного элемента сенсора метода фотолитографии по слою композиционного материала чувствительного элемента, одним из компонентов которого используют фоточувствительные композиции.

Отличительными признаками способа изготовления газового сенсора является то, что формирование слоя композиционного материала чувствительного элемента осуществляют методом центрифугирования смеси раствора фоточувствительной композиции в растворителе с частицами моно- или полидисперсных порошков, в качестве которых могут использоваться нанотрубки, фуллерены, сажа, графит, наночастицы окиси олова, а формирование чувствительного элемента проводят методами литографии с последующей термообработкой.

Заявитель не обнаружил технических решений, имеющих признаки, совпадающие с признаками, отличающими заявляемое решение от прототипа и аналогов, следовательно, предлагаемое техническое решение соответствует критериям «новизна» и «изобретательский уровень»

Сущность способа изготовления газового сенсора состоит в следующем: на подложке методами микротехнологии формируют систему контактов. Далее на поверхность подложки с контактами методом центрифугирования наносят смесь раствора фоточувствительной композиции в растворителе с частицами наполнителя. Фоточувствительная композиция служит полимерной матрицей слоя композиционного материала чувствительного элемента сенсора. В качестве наполнителя используют моно- или полидисперсные порошки нанотрубок, фуллеренов, сажи, графита, наночастицы окиси олова. После нанесения раствора фоточувствительной композиции с частицами наполнителя проводят процесс литографии с последующей термообработкой полученного рисунка в слое композиционного материала чувствительного элемента сенсора.

Пример реализации: заявленный способ был использован при изготовлении наносенсора, определяющего концентрацию четырех газов (окиси углерода, двуокиси углерода, метана и водорода) и состоящего из резистивного, емкостного, ионизационного и терморезистивного модулей. Технология изготовления наносенсора заключалась в последовательном формировании на поверхности кремниевой подложки со слоем диоксида кремния элементов тонкопленочных нихромовых нагревателей, формирования защитного диэлектрического слоя на основе плазмохимического низкотемпературного нитрида кремния, формирования алюминиевых контактов и элементов металлизации и формирования чувствительных элементов сенсора на основе композиционного материала, состоящего из негативной фоточувствительной композиции на основе циклобензокаучука с углеродными нанотрубками. Применение предложенного способа позволило воспроизводимо формировать чувствительные элементы сенсора с топологической нормой два микрометра.

1. Способ изготовления газового сенсора, включающий последовательное формирование на подложке системы контактов методами микротехнологии и чувствительного элемента на основе композиционного материала, состоящего из полимерной матрицы, армированной частицами наполнителя, отличающийся тем, что в качестве материала полимерной матрицы используют фоточувствительные композиции, а формирование чувствительного элемента осуществляют методами литографии.

2. Способ изготовления газового сенсора по п.1, отличающийся тем, что формирование слоя композиционного материала чувствительного элемента осуществляют из смеси раствора фоточувствительной композиции в растворителе с частицами наполнителя.

3. Способ изготовления газового сенсора по п.2, отличающийся тем, что в качестве наполнителя используют моно- или полидисперсные порошки нанотрубок, фуллеренов, сажи, графита, наночастицы окиси олова.

4. Способ изготовления газового сенсора по п.2 или З, отличающийся тем, что формирование слоя композиционного материала чувствительного элемента осуществляют методом центрифугирования смеси раствора фоточувствительной композиции с частицами наполнителя.

5. Способ изготовления газового сенсора по п.1, отличающийся тем, что термообработка слоя композиционного материала чувствительного элемента осуществляется после проведения процесса литографии термическим методом при температуре, не выше температуры деструкции полимерной матрицы.



 

Похожие патенты:

Изобретение относится к области технологии изготовления микроэлектронных и микромеханических устройств и может быть использовано при изготовлении датчиков перемещения движущихся сред, газовых анализаторов термометров сопротивления и т.д.
Изобретение относится к микроэлектронике и может быть использовано для получения рельефа в диэлектрических и пьезоэлектрических подложках при изготовлении волноводов, микромеханических приборов, кварцевых резонаторов и т.п.

Изобретение относится к способам нанесения изображений на поверхности, в частности с размерами изображений до десятков метров. .

Изобретение относится к машиностроению и приборостроению и может быть использовано для изготовления трехмерных изделий сложной конфигурации из фотоотверждающихся материалов.

Изобретение относится к машиностроению и приборостроению и может быть использовано для изготовления трехмерных изделий сложной конфигурации из фотоотверждающих материалов.

Изобретение относится к микроэлектронике и может быть использовано на операциях фотолитографии при изготовлении полупроводниковых приборов и интегральных микросхем.

Изобретение относится к химико фотографической области и позволяет увеличить адгезию печатающих элементов фотополимерных форм к подложке . .

Изобретение относится к способу изготовления экспонированной подложки, которая имеет по меньшей мере два участка с разнотипными или различными изображениями на них

Изобретение относится к области производства интегральных схем, основанной на переносе изображения фотолитографическим способом с использованием фотошаблонов

Изобретение относится к оборудованию для электронной промышленности, а именно к оборудованию для нанесения фоторезиста на подложки методом центрифугирования. Технический результат - уменьшение времени изготовления и увеличение выхода годных изделий - достигается тем, что устройство для нанесения фоторезиста содержит защитный корпус с крышкой, держатель подложек, гайки, вал центрифуги. Защитный корпус закреплен на валу центрифуги. Держатель подложек установлен на вал центрифуги и закреплен гайками. Держатель подложек содержит основание, крышку, ограничительные штифты и заливочные отверстия. На внутренних поверхностях основания и крышки держателя выполнены сквозные пазы со ступенчатой боковой поверхностью для установки подложек. На периферийных частях держателя подложек установлены ограничительные штифты. В крышке держателя подложек выполнены дозировочные отверстия. 1 з.п. ф-лы, 3 ил.
Наверх