Способ измерения профиля пучка на ускорителях

Изобретение относится к ускорительной технике и предназначено для измерения профиля пучка в ускорителях элементарных частиц. В способе измерения профиля пучка ускорителя используется система отклонения пучка, тонкая измерительная мишень и детектор вторичного излучения. Перемещение пучка во времени через неподвижную мишень обеспечивается с помощью нарастающего во времени магнитного поля. Магнитное поле создается изменением тока в отклоняющих магнитах. Изобретение направлено на упрощение механических приводов, обеспечивающих перемещение мишени внутри вакуумной камеры ускорителя. 2 ил.

 

Изобретение относится к ускорительной технике и может быть использовано для измерения профиля пучка (плотности распределения) в ускорителях элементарных частиц.

При измерении профиля пучка на ускорителях применяются устройства с использованием механических приводов для пересечения пучка тонкой мишенью. Аналогом предлагаемого изобретения является устройство, предложенное в работе (Ch.Steinbach, M.van Roij. A scanning Wire Beam Profile Monitor, IEEE Transactions on Nuclear Science. Vol.NS-32, N5, oct.1985).

Наиболее близким прототипом данного изобретения является профилометр, описанный в докладе (K.A.Brown, I.H.Chiang, D.Gassner et al. A scanning Target Profile Monitor, Proc. of РАС 97, pp.2149-2151). В этом профилометре информация о профиле получается путем использования быстрого перемещения тонкой мишени через циркулирующий протонный пучок и регистрации вторичных частиц, образующихся при его взаимодействии с веществом мишени. Время пересечения мишенью пучка ограничивается обеспечением ее сохранности из-за теплового разогрева и возможного разрушения. Минимальная скорость перемещения мишени при этом определяется интенсивностью циркулирующего пучка, его размерами, а также теплофизическими свойствами вещества мишеней и обычно составляет 4-20 м/с. Как правило, измерение профиля осуществляется путем измерения потока вторичных частиц, образовавшихся в мишени. Недостатком сканирующих профилометров является необходимость использования сложных механических приводов, обеспечивающих перемещение мишени внутри вакуумной камеры ускорителя. Кроме того, использование механических приводов приводит к некоторой нелинейности скорости перемещения мишени из-за необходимости разгона и торможения мишени.

Основой предлагаемого способа измерения профиля является использование магнитного поля для отклонения и пересечения пучком стационарно установленной мишени. При этом измерительная мишень внутри вакуумной камеры фиксируется на определенной координате вблизи траектории пучка и остается неподвижной при магнитном отклонении пучка. Скорость пересечения пучком измерительной мишени будет определяться фронтами нарастания магнитного поля в отклоняющих устройствах и определяется как магнитными свойствами отклоняющих устройств, так и нарастанием тока в этих устройствах.

Сущность изобретения поясняется фиг.1, где показан первичный пучок 1-1-1 и отклоненный пучок 1-2-1. Отклонение производится с помощью дополнительных магнитов 3 для создания требуемой формы локального искажения орбиты. Здесь же приведено расположение измерительной мишени в виде тонкой нити 4 и детектора 5, обеспечивающих проведение соответствующих измерений профиля циркулирующего пучка. Положение мишени показано на фиг.1 в момент прохождения через нее пучка.

Поставленная цель для проведения соответствующих измерений предлагаемым способом на протонном синхротроне У-70 Института физики высоких энергий (ИФВЭ) достигается разработкой устройства, состоящего из системы локального искажения орбиты, обеспечивающей заброс пучка на поглотитель, тонкой измерительной мишени и сцинтилляционного детектора. Система локального искажения орбиты позволяет отклонять пучок на поглотитель, стенки которого являются элементом вакуумной камеры ускорителя. Эта система обеспечивает на У-70 скорость наведения пучка ˜2,7 м/с, что достаточно для обеспечения измерений профиля циркулирующего пучка при проведении физических экспериментов на ускорителе. Измерительная мишень устанавливается на трассе пучка вблизи поглотителя с учетом реальных размеров пучка.

Осциллограмма профиля пучка, полученная описываемым способом, представлена на фиг.2. Здесь луч 1 - это сигнал сцинтилляционного детектора, установленного вблизи мишени, а луч 2 - осциллограмма напряжения с измерительного шунта в источнике питания отклоняющих магнитов, обеспечивающих смещение пучка на расстояние, необходимое для пересечения пучком измерительной мишени.

Предлагаемый способ измерения профиля пучка отличатся сравнительной простотой. На ускорителе У-70 он позволил разработать устройство для измерения профиля пучка на основе тонкой измерительной мишени, сцинтилляционного детектора и существующей системы локального искажения орбиты.

Способ измерения профиля пучка ускорителя, использующий систему отклонения пучка, тонкую измерительную мишень и детектор вторичного излучения, отличающийся тем, что перемещение пучка во времени через неподвижную мишень обеспечивается с помощью нарастающего во времени магнитного поля, создаваемого изменением тока в отклоняющих магнитах.



 

Похожие патенты:

Изобретение относится к линейным ускорителям с дрейфовыми трубами и может быть использовано для ускорения пучков ионов низкой энергии. .

Изобретение относится к электрофизическим установкам, а именно к ускорителям заряженных частиц. .

Изобретение относится к размеростабильным несущим конструкциям рамного типа из слоистых полимерных композиционных материалов и может применяться в высокоточных наземных и космических системах.

Изобретение относится к области ускорительной техники и может быть использовано для генерации электронных или ионных пучков микросекундной длительности с высокой частотой следования импульсов.

Изобретение относится к устройствам генерации низкотемпературной плазмы, в частности к сверхвысокочастотным источникам плазмы, и предназначено для плазменной обработки различных материалов и изделий.

Изобретение относится к физике и технике ускорителей, модуляции электронных пучков и может быть использовано для генерации периодической последовательности коротких импульсов электромагнитного излучения, создания лазеров на свободных электронах (ЛСЭ).

Изобретение относится к импульсной электротехнике, преимущественно к мощной импульсной энергетике и может быть использовано для создания коротких, субмикросекундной длительности высоковольтных электрических импульсов.

Изобретение относится к системам высокочастотного питания ускорителей заряженных частиц, а именно к системам высокочастотного питания резонансных ускорителей от магнетронов.

Изобретение относится к области ускорительной техники и предназначено для генерации электронных пучков с большой энергией. .

Изобретение относится к импульсной технике, преимущественно к разделу мощной импульсной энергетики. .

Изобретение относится к авиационному и энергетическому двигателестроению и предназначено для систем зажигания двигателей и энергетических установок

Изобретение относится к физике и технике ускорителей и может быть применена в ускорителях-тандемах для нейтронозахватной терапии рака или для обнаружения взрывчатых и наркотических веществ

Изобретение относится к электротехнике и может быть использовано для создания устройств с однородным полем, протяженность которого сравнима или превышает его поперечный размер

Изобретение относится к линейным ускорителям электрически заряженных частиц

Изобретение относится к ускорительной технике и может быть использовано в ускоряющей структуре резонансного линейного ускорителя типа Альвареца

Изобретение относится к импульсной технике и предназначено для ускорения макротел

Изобретение относится к ускорительной технике и может быть использовано в линейных индукционных ускорителях сильноточных (более 1 кА) импульсных (менее 1 с) пучков электронов при их ускорении и/или транспортировке в протяженных (более 1 м) вакуумных трактах

Изобретение относится к ускорительной технике и может быть использовано в линейных индукционных ускорителях сильноточных (более 1 кА) импульсных (менее 1 с) пучков электронов при их ускорении и/или транспортировке в протяженных (более 1 м) вакуумных трактах
Наверх