Импульсно-периодический плазмотрон


H05H1/26 - Плазменная техника (термоядерные реакторы G21B; ионно-лучевые трубки H01J 27/00; магнитогидродинамические генераторы H02K 44/08; получение рентгеновского излучения с формированием плазмы H05G 2/00); получение или ускорение электрически заряженных частиц или нейтронов (получение нейтронов от радиоактивных источников G21, например G21B,G21C, G21G); получение или ускорение пучков нейтральных молекул или атомов (атомные часы G04F 5/14; устройства со стимулированным излучением H01S; регулирование частоты путем сравнения с эталонной частотой, определяемой энергетическими уровнями молекул, атомов или субатомных частиц H03L 7/26)

Владельцы патента RU 2343651:

Государственное научное учреждение "Институт физики имени Б.И. Степанова Национальной академии наук Беларуси" (BY)

Изобретение относится к плазменной технике и может быть использовано при разработке источников высокоинтенсивных плазменных потоков для модификации свойств поверхности материалов и покрытий. Импульсно-периодический плазмотрон содержит блок питания и разрядное устройство, включающее последовательно расположенные блок генерации и ввода плазмы и ускорительный канал. Ускорительный канал выполнен в виде коаксиально расположенных электродов анода и катода, цилиндрической или конической формы, которые подключены к блоку питания. Блок питания выполнен в виде импульсно периодического блока питания, а блок генерации и ввода плазмы - в виде установленного в глухом торце ускорительного канала плазмотрона непрерывного действия, выходное отверстие которого соединено с ускорительным каналом расширяющимся соплом. Изобретение направлено на создание плазмотрона с высокой частотой (до 100 Гц) генерации импульсно-плазменных потоков, работающего при нормальном давлении, на обеспечение низкого уровня шума при работе, а следовательно, на обеспечение улучшения условий труда при плазменной модификации свойств материалов и покрытий. 1 ил.

 

Данное изобретение относится к области физики и техники плазмотронов и ускорителей плазмы и может быть использовано при разработке источников высокоинтенсивных плазменных потоков для модификации свойств поверхности материалов и покрытий.

Известна установка "Рапид-5АВ" (Камруков А.С., Овчинников П.А., Опекан А.Г., Протасов Ю.С.//"Радиационная плазмодинамика". - М.: Энергоатомиздат, 1991, т.1, с.564-566), содержащая плазмодинамическую головку (разрядное устройство) в виде магнитоплазменного компрессора эрозионного типа, установленного в сопловой конфузорной насадке, имеющей патрубки, соединенные с системой подачи газа. Генерация высокоэнтальпийных высокоскоростных плазменных потоков осуществляется в результате кумуляции и ускорения эрозионной плазмы собственным магнитным полем разрядного тока. Установка может работать с частотой до 1 Гц в вакууме и газах нормального давления.

Недостатком данной установки является высокий уровень шума при работе в условиях нормального давления, связанного с образованием ударной волны при периодическом срабатывании магнитоплазменного компрессора.

Наиболее близким по технической сущности к заявляемому устройству является описанный в статье Тюрина Ю.Н., Колесниченко О.В., Цыганкова Н.Г. ("Автоматическая сварка", 2001, №1, с.38-44.) импульсно-периодический плазмотрон, содержащий разрядное устройство, которое состоит из блока формирования горючей газовой смеси и инициирования ее детонационного сгорания, в виде детонационной камеры и ускорительный канал в виде коаксиально расположенных электродов анода и катода. При инициировании детонации ионизированные продукты сгорания поступают в межэлектродный зазор ускорительного канала и перемыкают его. Электропроводный слой продуктов сгорания ускоряется в межэлектродном промежутке под действием электродинамических и газодинамических сил, формируя плазменную струю. Устройство работает при нормальном давлении с частотой до 1 Гц.

Недостатком данного устройства является высокий уровень шума, генерируемого при периодическом срабатывании прежде всего детонационной камеры, что вынуждает располагать устройство в специальном звукоизолированном помещении, а также невозможность повышения частоты срабатывания, ограниченной частотой срабатывания детонационной камеры.

Задачей разработки заявляемого устройства является создание импульсно-периодического плазмотрона с высокой частотой (до 100 Гц) генерации импульсных плазменных потоков, работающего при нормальном давлении при низком уровне шума при работе, что обеспечит увеличение скорости обработки и улучшение условий труда при плазменной модификации свойств материалов и покрытий.

Для выполнения поставленной задачи предложен импульсно-периодический плазмотрон, который содержит блок питания и разрядное устройство, включающее последовательно расположенные блок генерации и ввода плазмы и ускорительный канал в виде коаксиально расположенных электродов анода и катода, которые подключены к блоку питания.

Новым, по мнению авторов, является то, что блок питания выполнен в виде импульсно-периодического блока питания, а блок генерации и ввода плазмы - в виде установленного в глухом торце ускорительного канала плазмотрона непрерывного действия, выходное отверстие которого соединено с ускорительным каналом расширяющимся соплом.

Сущность заявляемого устройства поясняется чертежом, на котором представлен общий вид предлагаемого плазмотрона. Импульсно-периодический плазмотрон состоит из блока питания 1, сопла 2, блока генерации и ввода плазмы 5 и ускорительного канала в виде коаксиально расположенных электродов анода 3 и катода 4. Анод и катод выполняются цилиндрической или конической формы. Катод 3 выполнен профилированным с начальным участком, изолированным вставкой 6 из высокотемпературной керамики. Все элементы ускорительного канала выполнены охлаждаемыми. Блок генерации и ввода плазмы 5 выполнен в виде плазматрона, работающего в непрерывном режиме. Элементы сопла выполнены из высокотемпературной керамики и вольфрама.

Импульсно-периодический плазмотрон работает следующим образом.

Плазменная струя непрерывного плазмотрона имеет среднемассовую температуру ˜3000-4000 К и скорости 100-500 м/с. При фиксированных параметрах дуги род плазмообразующего газа определяет уровень среднемассовой температуры плазменной струи. Генерируемое импульсно-периодическое напряжение вызывает периодический пробой промежутка в наиболее узком месте и ускорение образующегося плазменного сгустка вдоль оси ускорительного канала. При импульсных напряжениях 3-5 кВ температура плазменного потока достигает 15000-20000 К при скорости истечения ˜106 см/с. Функционирование ускорительного канала в условиях пониженной плотности плазмы резко уменьшит шумовые эффекты, а достаточно высокие ее параметры обеспечат симметричность и однородность разряда в ускорительном канале, что улучшит воспроизводимость работы плазмотрона и увеличение полной энергии плазменного потока. Частота генерации высокоэнергетического плазменного потока ограничивается величиной массового расхода рабочего вещества плазмотрона и параметрами блока питания. Существующие импульсно-периодические высоковольтные блоки питания устойчиво работают с частотой до 100 Гц. Таким образом, предлагаемый импульсно-периодический плазмотрон обеспечивает получение импульсных плазменных потоков с частотой до 100 Гц, работает при нормальном давлении, при низком уровне шума при работе, что обеспечит увеличение скорости обработки и улучшение условий труда при плазменной модификации свойств материалов и покрытий.

Литература

1. Камруков А.С., Овчинников П.А., Опекан А.Г., Протасов Ю.С.// "Радиационная плазмодинамика". - М.: Энергоатомиздат, 1991, т.1, с.564-566.

2. Тюрин Ю.Н и др. Автоматическая сварка. ИЭС им. Е.О.Патона НАН Украины, МА "СВАРКА", 2001, №1. - С.38-44.

Импульсно-периодический плазмотрон, содержащий блок питания и разрядное устройство, включающее последовательно расположенные блок генерации и ввода плазмы и ускорительный канал в виде коаксиально расположенных электродов анода и катода, цилиндрической или конической формы, которые подключены к блоку питания, отличающийся тем, что блок питания выполнен в виде импульсно-периодического блока питания, а блок генерации и ввода плазмы - в виде установленного в глухом торце ускорительного канала плазмотрона непрерывного действия, выходное отверстие которого соединено с ускорительным каналом расширяющимся соплом.



 

Похожие патенты:

Изобретение относится к плазменной технике и может быть использовано для воспламенения и интенсификации химических процессов в рабочей смеси в двигателях внутреннего сгорания любого типа.

Изобретение относится к авиационному и энергетическому двигателестроению и химическому машиностроению. .

Изобретение относится к плазменной технике, к устройствам для генерирования нейтронных пучков, в частности к генераторам разовых импульсов нейтронного и рентгеновского излучения, и предназначено для проведения ядерно-физических исследований, изучения радиационной стойкости элементов электронной аппаратуры.

Изобретение относится к машиностроению, в частности к плазменной технике, и может быть использовано в установках для плазменно-дуговой резки металла. .

Изобретение относится к микроэлектронике и может быть использовано при производстве интегральных микросхем на активных и пассивных подложках и элементов дифракционной оптики на криволинейных поверхностях.

Изобретение относится к генераторам разовых импульсов нейтронов и рентгеновского излучения и предназначено для проведения ядерно-физических исследований, изучения радиационной стойкости и генерирования нейтронных пучков.

Изобретение относится к технике формирования ионных пучков с широкой апертурой пучка ионов, а именно к источникам ионов на основе основного и вспомогательного разрядов.

Изобретение относится к области получения направленных потоков микросхем на активных и пассивных подложках и в дифракционной оптике низкотемпературной плазмы и генерации ионных пучков с большим током и может быть использовано в микроэлектронике при производстве интегральных микросхем, при производстве элементов дифракционной оптики.

Изобретение относится к двигательным системам космических аппаратов, использующим для создания силы тяги внешний источник плазмы. .

Изобретение относится к электродуговым генераторам низкотемпературной плазмы. .

Изобретение относится к машиностроению, в частности к плазменной технике, и может быть использовано в установках для плазменно-дуговой резки металла. .

Изобретение относится к области сварки, в частности к плазменно-дуговой установке для нагрева углеродсодержащего материала, и может быть использовано в цветной металлургии для электролитического получения магния.
Изобретение относится к соединению разнородных материалов, в частности к пайке, и может быть использовано в электронной, радиотехнической промышленности и прецизионном приборостроении, там, где к изделиям предъявляются высокие требования по вакуумной плотности, термостойкости, влагостойкости, коррозионностойкости при воздействии высоких давлений, высоких температур и ударных нагрузок.

Изобретение относится к обработке металлов давлением, а более конкретно к способу изготовления гнутых замкнутых сварных профилей, в частности тонкостенных труб с ребристой, гофрированной или иной поверхностью.

Изобретение относится к трубному производству, а именно к производству сварных спиральношовных труб большого диаметра для магистральных газонефтепроводов. .

Изобретение относится к способу и устройству плазменно-дуговой резки металла и может быть использовано для резки алюминиевых сплавов, нержавеющей и малоуглеродистой стали.
Изобретение относится к способам пайки алюминия и алюминиевых сплавов и материалам для пайки и может применяться при пайке алюминиевых конструкций. .
Изобретение относится к способам пайки алюминия и алюминиевых сплавов, плакированных силумином и материалам для пайки. .

Изобретение относится к области сварочного производства и может быть использовано при сварке плазменной дугой в защитной среде широкого спектра конструкций из активных материалов в различных отраслях промышленности.

Изобретение относится к области электродуговой сварки, а именно к способу автоматической аргонно-дуговой сварки нахлесточных соединений стальных труб неплавящимся электродом
Наверх