Стекло
Использование: в производстве электровакуумных приборов. Техническая задача изобретения состоит в повышении ТКЛР стекла. Сущность изобретения: стекло состава, мас %: SiO2 15,0-25,0, Al2О3 10,0-15,0; СаО 24,0-27,0; ВаО 3,0-5,0; MgF2 3,0-5,0; CaF2 3,0-5,0; AlF3 3,0-5,0; Na2O 10,0-15,0; MnO2 10,0-15,0. Положительный эффект: ТКЛР стекла составит 120-130×10-7°С-1. 1 табл.
Изобретение относится к области технологии силикатов и касается составов стекла, используемого в производстве электровакуумных приборов
Известно стекло, включающее SiO2, Al2O3, CaO, Na2O /1/.
Известно стекло, содержащее, мас.%: SiO2 41,0-60,0; Al2O3 1,0-13,0; CaO 10,0-35,0; MgO 1,5-12,0; BaO 1,5-12,0; MgF2 0,3-4,5; Na2O 1,0-15,0; CaF2 0,5-3,5; AlF3 0,2-4,0 /2/.
Цель изобретения состоит в повышении ТКЛР стекла.
Цель достигается тем, что в состав стекла дополнительно вводят MnO2 при следующем соотношении компонентов, мас.%: SiO2 15,0-25,0; Al2O3 10,0-15,0; CaO 24,0-27,0; BaO 3,0-5,0; MgF2 3,0-5,0; CaF2 3,0-5,0; AlF3 3,0-5,0; Na2O 10,0-15,0; MnO2 10,0-15,0.
В таблице приведены составы стекла.
| Таблица | ||||||||||
| Состав | Компоненты, мас.%: | ТКЛР, α×10-7°С-1 | ||||||||
| SiO2 | Al2O3 | CaO | BaO | MgF2 | CaF2 | AlF3 | Na2O | MnO2 | ||
| 1 | 15,0 | 15,0 | 27,0 | 5,0 | 3,0 | 5,0 | 5,0 | 10,0 | 15,0 | 120-130 |
| 2 | 20,0 | 13,0 | 25,0 | 4,0 | 4,0 | 4,0 | 4,0 | 13,0 | 13,0 | 120-130 |
| 3 | 25,0 | 10,0 | 24,0 | 5,0 | 5,0 | 3,0 | 3,0 | 15,0 | 10,0 | 120-130 |
Источники информации:
1. Авторское свидетельство СССР №185466, С03С 3/04, 1961.
2. Авторское свидетельство СССР №1006401, С03С 3/04, 1983.
Стекло, содержащее SiO2, Al2O3, СаО, BaO, MgF2, CaF2, AlF3, Na2O, отличающееся тем, что дополнительно содержит MnO2, при следующем соотношении компонентов, мас.%: SiO2 15,0-25,0, Al2О3 10,0-15,0; СаО 24,0-27,0; ВаО 3,0-5,0; MgF2 3,0-5,0; CaF2 3,0-5,0; AlF3 3,0-5,0; Na2O 10,0-15,0; MnO2 10,0-15,0.
Похожие патенты:
Стекло // 2326059
Изобретение относится к составам стекла, которое может быть использовано для изготовления сортовой посуды, изделий декоративно-художественного назначения. .
Стекло // 2326058
Изобретение относится к составу стекла и может найти применение в оптическом приборостроении, производстве изделий декоративно-художественного назначения. .
Стекло // 2320551
Изобретение относится к составам стекла, используемого в электронике и радиотехнике. .
Стекло // 2317952
Изобретение относится к составам стекол, используемых преимущественно в приборостроении. .
Стекловидное покрытие // 2315012
Изобретение относится к стекловидным покрытиям для нанесения маркировочных обозначений, рисунков на изделия из керамики, материалы на основе гидравлических, жидкостекольных, фосфатных вяжущих, стекло.
Стекло // 2311352
Изобретение относится к составам припоечных стекол, используемых в электронике. .
Стекловидное покрытие // 2307080
Изобретение относится к стекловидным покрытиям для нанесения на изделия из керамики, металла и других материалов. .
Стекло для изготовления порошков и гранул // 2264358
Изобретение относится к области технологии силикатов и касается составов стекла, применяемого при изготовлении порошков и гранул, предназначенных для высокотемпературной отделки безобжиговых строительных материалов и изделий.
Стекло // 2237028
Изобретение относится к составам стекол, которые могут быть широко использованы в разных областях науки и техники для остекления различных объектов с сохранением светопрозрачности в период эксплуатации за счет инертности по отношению к действию плесневых грибов.
Стеклянная композиция (варианты) // 2114796
Стеклянная композиция // 2431616
Стеклокристаллический материал // 2494981
Изобретение относится к легированным прозрачным стеклокристаллическим материалам, которые могут использоваться в качестве активной среды лазеров и усилителей в ближней ИК области. Технический результат изобретения заключается в снижении температуры синтеза прозрачного люминесцирующего в ближней ИК области стеклокристаллического материала до 1500°C. Стеклокристаллический материал содержит следующие компоненты, мас.%: Li2O - 1,3-2,3; Na2O - 1,5-2,7; Ga2O3 - 32,5-37,9; SiO2 - 7,0-21,2; GeO2 - 37,0-56,5; NiO - 0,01-0,8. 4 пр., 7 ил., 2 табл.
Изобретение относится к области оптического материаловедения, в частности к способу локальной нанокристаллизации легированных стекол под действием лазерного излучения. Эти стекла могут быть использованы в качестве активных волноводов и в разработке интегральных усилителей и лазеров на их основе. Изобретение позволяет осуществить самоограничивающийся процесс формирования в галлийсодержащем оксидном стекле локальных областей шириной более 100 мкм с увеличенным показателем преломления, содержащих нанокристаллы и люминесцирующих в широком диапазоне длин волн 1150-1700 нм ближней ИК области. Способ локальной нанокристаллизации стекол включает облучение сфокусированным пучком лазера на парах меди со средней мощностью 5-15 Вт при перемещении пучка относительно поверхности образца со скоростью 10-200 мкм/с, осуществление подогрева стекла до температуры, меньшей, чем температура стеклования, на 5÷30°C. Стекло имеет состав, мас.%: Li2O 1,3-2,3, Na2O 1,5-2,7, Ga2O3 32,5-37,9, SiO2 7,0-21,2, GeO2 37,0-56,5, NiO 0,05-0,8. 3 ил., 4 пр.
Изобретение относится к прозрачным стеклокристаллическим оксидным материалам, которые могут использоваться в качестве активной части конверторов в видимую область спектра УФ излучения солнечно-слепого диапазона. Технический результат изобретения - создание прозрачного стеклокристаллического материала на основе γ-Ga2O3, люминесцирующего в синей области спектра с минимальным откликом при возбуждении на длине волны >290 нм. Стеклокристаллические материалы имеют следующий состав, мас.%: Li2O 0,03-3,02; Na2O 0,08-6,07; Ga2O3 27,9-52,5; SiO2 15,4-25,5; GeO2 26,8-44,4. 4 ил., 2 табл.
Стекло // 2612380
Изобретение относится к производству стекол, которые могут быть использованы, например, для изготовления плафонов люстр. Стекло содержит, мас. %: SiO2 30,0-35,0; Al2O3 1,0-2,0; CdO 37,0-40,0; SnO2 2,0-2,8; один оксид из группы Li2O, Na2O, K2O 24,2-26,0. Технический результат – снижение температуры варки стекла. 1 табл.
Стекло // 2614762
Изобретение касается составов стекла, которое может быть использовано для изготовления ваз, декоративных панно, сувениров. Стекло содержит, мас.%: PbO 31,0-32,0; TiO2 3,0-4,0; ZrO2 3,5-4,5; K2O 1,6-2,53; Na2O 1,0-2,1; Al2O3 1,0-1,8; SiO2 29,5-30,4; BaO 17,82-18,76; CaO 3,7-4,5; Nb2O5 1,48-2,22; SnO2 1,74-1,98. Технический результат - повышение термостойкости. 1 табл.
Стекло // 2614768
Изобретение касается составов стекол, которые могут быть использованы в качестве высокотемпературной изоляции обмоточных проводов. Стекло содержит, мас. %: SiO2 15,0-22,0; В2O3 8,0-12,0; Аl2O3 8,5-14,5; РbО 40,0-48,0; ZrO2 3,0-4,0; ZnO 2,0-5,0; CuO 0,1-1,0; ВеО 1,0-2,0; MgO 5,0-10,0. Технический результат – повышение температуры оплавления стекла. 1 табл.
Изобретение относится к фритте на основе ванадия, используемой для изоляции в стеклопакетах. Технический результат – снижение температуры плавления стеклоприпоя. Фритта содержит, вес.%: оксид ванадия 50-60, оксид бария 27-33, оксид цинка 9-12, добавку, выбранную из SrCl2, Ti2O3, SnCl2, 1-8. 8 н. и 3 з.п. ф-лы, 20 ил., 11 табл.
Легкоплавкое стекло // 2631723
Изобретение относится к производству стекол, используемых, преимущественно, в электронной и радиотехнической промышленности. Легкоплавкое стекло содержит, мас. %: PbO 62,2-64,8; B2O3 17,0-21,0; SiO2 6.0-7,0; Nd2O3 0,8-1,2; GeO2 9,0-11,0. Технический результат - уменьшение количества PbO при сохранении температуры размягчения стекла.
Изобретение относится к стеклам для твердотельных лазеров. А именно, изобретение раскрывает фосфатное лазерное стекло, допированное Nd, или Yb, или Er и имеющее указанный химический состав, способ снижения длины волны пика излучения указанного выше фосфатного лазерного стекла, включающего лантан и допированного Nd, или Yb, или Er, в котором до 100% La2O3 заменяют на CeO2, чтобы изменить длину волны пика излучения, а также изобретение раскрывает лазерную систему с использованием смешанного стекла, в которой одно стекло из системы смешанного стекла является указанным фосфатным лазерным стеклом, и способ генерации импульса лазерного луча с использованием такой лазерной системы. Технический результат – обеспечение длины волны излучения менее 1054 нм. 4 н. и 22 з.п. ф-лы, 1 ил., 3 табл.
