Способ синтеза алмазов

Изобретение относится к области технологии минерального сырья, в частности к технологии получения синтетических алмазов. Способ синтеза заключается в том, что монокристалл алмаза покрывают нефтяной пленкой и облучают миллисекундным рубиновым лазером с плотностью энергии 35-40 Дж/см2 и длительностью импульса 0,5 мс. Изобретение позволяет получать синтетические алмазы из нефтяного сырья. 2 ил.

 

Изобретение относится к области технологии минерального сырья, в частности к технологии получения синтетических алмазов.

Известен способ синтеза микропорошков алмазов [Патент РФ №2042614, МПК С01В 31/06, 1995.08.27], включающий воздействие на неалмазные модификации углерода высоких давлений и температур, соответствующих области стабильности алмаза. Воздействие осуществляют обработкой поверхности образцов сфокусированным излучением импульсного лазера, работающего в режиме модулированной добротности с длительностью лазерного импульса 10-7-10-12 с и плотностью мощности излучения 107-1014 Вт/см2. Недостатком данного метода является возникновение большого градиента температуры, что вызывает механические напряжения, следствием которых является образование дефектов, обычно дислокаций.

Наиболее близким является способ синтеза алмазов [Патент РФ №2068391, МПК С01В 31/06, 1996.10.27], включающий воздействие на заготовку из графита импульса лазерного излучения в области дозародышевого состояния фазовой диаграммы при давлении 40 ГПа и температуре 300 К. В данном случае используют заготовку в виде куба с затравочным кристаллом в центре одной или нескольких граней, покрытых слоем из волокнистого композита, с ориентацией волокон вдоль граней куба и имеющих в центре каждой грани воспринимающий лазерное излучение конический выступ из того же композита с ориентацией его оси в центр куба. Недостатком данного метода является сложность создания заготовки для синтеза алмазов.

Техническим результатом настоящего изобретения является получение синтетических алмазов из нефтяного сырья, расширение способов синтеза алмазов.

Технический результат достигается тем, что монокристалл алмаза покрывается нефтяной пленкой и облучается миллисекундным рубиновым лазером с плотностью энергии W=35-40 Дж/см2 и длительностью импульса t=0.5 мс. В отличие от выше указанных способов синтеза алмазов, применение миллисекундных лазерных импульсов сопровождается градиентом температуры ~105 град/с, что на несколько порядков меньше, чем у импульсов с длительностью 10-7-10-12 с. Таким образом, уменьшение градиента температуры сопровождается образованием более совершенной структуры кристаллов.

Структуры исходного и облученного кристалла исследовались с помощью четырехкружного рентгеновского дифрактометра Р4. Исследования параметров решетки, распределения электронной плотности, а также напряжений и размеров когерентно рассеивающих рентгеновские лучи блоков указывают на то, что данное воздействие оказывает существенное влияние на монокристаллы. Импульсное лазерное облучение создает высокое давление в нефтяных дисперсных системах, вызывая тем самым изменение размера сложных структурных единиц даже вне области облучения. Полученные результаты можно трактовать как наращивание на поверхности монокристаллов слоев и отдельных образований с параметрами решетки, незначительно превышающими параметры исходного кристалла (Фиг.1, Фиг.2).

Пример 1:кристалл алмаза диаметром 0.3 мм покрываем нефтяной пленкой (для эксперимента используется Ярегская нефть) и облучаем рубиновым лазером с плотностью энергии W=1 Дж/см2. Длительность импульса t=0.5 мс, количество облучений - 1. Никаких новообразований на поверхности кристалла не наблюдается.

Пример 2: способ осуществляется аналогично примеру 1, только плотность энергии W=15 Дж/см2. Никаких новообразований на поверхности кристалла также не выявлено. При плотностях энергии 18, 22, 25 Дж/см2 результат не меняется.

Пример 3: в результате синтеза при плотности энергии облучения W=35 Дж/см2, длительности импульса t=0.5 мс, количестве облучений - 1 было выявлено образование на поверхности исходного кристалла новых слоев и отдельных мелких образований.

Пример 4: способ осуществляется аналогично примеру 3, но плотность энергии W=40 Дж/см2. Также наблюдаются новообразования на поверхности кристалла. При дальнейшем увеличении плотности энергии (50 и 70 Дж/см2) выявлена генерация дефектов. При увеличения количества облучений от 2 до 5 происходит "слет" новообразований с поверхности кристалла.

Таким образом, оптимальными для синтеза алмазов являются следующие условия: плотность энергии W=35-40 Дж/см2, длительность импульса t=0.5 мс, количество облучений - 1.

Параметры кристаллической решетки определялись по угловому положению отражений от 30 атомных плоскостей, поочередно выводимых в вертикальное положение. Распределение электронной плотности строилось на основе разложения плотности в ряд Фурье. Напряжения и размеры блоков определялись по ширине рефлексов.

Способ синтеза алмаза, включающий воздействие на образец импульсом лазерного излучения, отличающийся тем, что образец представляет собой монокристалл алмаза, покрытый нефтяной пленкой, а воздействие осуществляется миллисекундным лазером с плотностью энергии 35-40 Дж/см2 и длительностью импульса 0,5 мс.



 

Похожие патенты:
Изобретение относится к обработке наночастиц алмаза - продукта детонации взрывчатых веществ и может быть использовано в электрохимической и химической промышленности, в областях, в которых на эффективность применения наноалмазов влияет положительный заряд их частиц в водных суспензиях (получение композиционных гальванических и электрофоретических покрытий, композиционных материалов по золь-гель технологиям).

Изобретение относится к химическому машиностроению, к технике высоких давлений для синтеза алмазов, в частности для выращивания кристаллов крупных размеров, процесс выращивания которых требует продолжительного времени.

Изобретение относится к химии углерода и может быть использовано при изготовлении полировально-финишных композиций, пленочных покрытий, радиационно-стойких материалов.
Изобретение относится к области производства кристаллов алмаза и других сверхтвердых материалов, используемых в абразивной промышленности. .

Изобретение относится к алмазным инструментам, в частности режущим инструментам с острой режущей кромкой, устойчивым к абразивному износу, разрушению и т.д., а также к синтетическим монокристаллическим алмазам, в том числе к алмазным ювелирным изделиям, обладающим яркой краской.

Изобретение относится к области модификации свойств сверхтвердых материалов и может быть использовано при получении ультрадисперсных алмазов высокой чистоты

Изобретение относится к искусственным ювелирным алмазам, которые могут быть идентифицированы с определенным человеком или животным

Изобретение относится к методам получения микроалмазов, используемых для производства режущего инструмента и объемного легирования материала, и может быть использовано в инструментальной, машиностроительной, аэрокосмической и приборостроительной отраслях промышленности
Изобретение относится к нанодисперсным углеродным материалам

Изобретение относится к области материаловедения, а именно к получению композиционных материалов, более конкретно к получению углеродных наночастиц, состоящих из алмазного ядра, покрытого оболочкой неалмазного материала

Изобретение относится к области неорганической химии углерода и может быть использовано в гальванике, в приготовлении полировальных систем, в полимерной и плазменной химии, в электрохимическом катализе, при получении магнитных носителей информации, для изготовления высокоактивных адсорбентов, в биохимическом синтезе, для приготовления присадок для масел, смазок и смазочно-охлаждающих жидкостей
Изобретение относится к химическим способам очистки как природных алмазов, где загрязнения представлены в виде отложений органического и минерального происхождения и металловключений, образующихся в результате обогащения алмазосодержащей породы, так и синтетических алмазов, в которых металлические включения сопутствуют при синтезе, с целью использования их в качестве шлифовальных порошков в гальваностегии при изготовлении точного алмазного инструмента
Изобретение относится к области нанотехнологий, в частности к синтезу технических ультрадисперсных алмазов, а также утилизации боеприпасов
Изобретение относится к области технологии изготовления наноструктур и может быть использовано при получении новых материалов для микро- и оптоэлектроники, светодиодных ламп, силовой электроники и других областей полупроводниковой техники
Наверх