Силовой полупроводниковый прибор с полностью прижимными контактами

Изобретение относится к области конструирования полупроводниковых приборов и может быть использовано в производстве силовых диодов, тиристоров, IGBT и других приборов полностью прижимной конструкции с уменьшенными и стабильными значениями падения напряжения во включенном состоянии (Von) и теплового сопротивления (Rth). Техническим результатом изобретения является уменьшение и стабильность значений падения напряжения во включенном состоянии Von и теплового сопротивления прибора Rth путем обеспечения фиксированного положения полупроводниковой пластины относительно верхнего и нижнего термокомпенсаторов. Сущность изобретения: в силовом полупроводниковом приборе с полностью прижимными контактами, содержащем полупроводниковую пластину со слоями n- и р-типа проводимости, расположенную между катодным и анодным термокомпенсаторами с фланцами с диаметром большим, чем диаметр полупроводниковой пластины, размещенными внутри изолирующего кольца, края изолирующего кольца охватывают фланцы термокомпенсаторов, заходя на наружные поверхности катодного и анодного термокомпенсаторов не менее чем на 1 мм, при этом изолирующее кольцо выполнено из упругого материала. 1 ил., 1 табл.

 

Изобретение относится к области конструирования полупроводниковых приборов и может быть использовано в производстве силовых диодов, тиристоров, IGBT и других приборов полностью прижимной конструкции с уменьшенными и стабильными значениями падения напряжения во включенном состоянии (Von) и теплового сопротивления (Rth).

Известна конструкция силового полупроводникового прибора, содержащая полупроводниковую пластину дискообразной формы, которая расположена между двумя дискообразными термокомпенсаторами, при этом контакт с термокомпенсатором с одной стороны сплавной, с другой стороны - прижимной (Ю.А.Евсеев и П.Г.Дерменжи. Силовые полупроводниковые приборы. - М: Энергоиздат, 1981. - с.80-82, 320 [1]). Коэффициенты линейного температурного расширения материала термокомпенсатора и полупроводника должны быть близки. В случае применения кремния обычно используются молибденовые (Mo) термокомпенсаторы.

В описанной конструкции обеспечивается механическая прочность полупроводниковой пластины, в том числе при термоциклах. Это решение широко применяется в промышленности с 1970-х годов.

Существенными недостатками указанной конструкции являются наличие прогиба сплавленного с полупроводниковой пластиной термокомпенсатора и часто обнаруживаемые не проплавленные области, что приводит и к увеличению Von [В] и

Rth [°C/Вт], и к обломам фаски, т.е. снижению блокирующей способности.

К 1990-м годам повышение качества кремния привело к созданию высоковольтных приборов (до 6 кВ), соответственно, на пластинах с толщиной свыше 0,8 мм. Возросло также и качество механической обработки как полупроводниковых пластин, так и Мо термокомпенсаторов. Это позволило перейти к созданию полностью прижимных конструкций приборов, где кремниевая (Si) пластина свободно помещена и зажимается между двумя термокомпенсаторами (Free Floating Silicon Technology, FFST по терминологии фирмы ABB).

В конструкции силового полупроводникового прибора (заявка ЕР №0254910, кл. H01L 29/744, публ. 1988-02-03 [2]) полупроводниковая пластина с двусторонней металлизацией свободно помещена между двумя Мо термокомпенсаторами. В промышленности данная конструкция появилась и используется до настоящего времени на фирмах Mitsubishi и ABB. Mo термокомпенсаторы свободно вкладываются в мягкое защитное кольцо, надетое на края Si пластины.

Недостатком данного решения является то, что при первом сжатии прибора (обычно для испытаний) контактирующие поверхности взаимно «впечатываются», т.е. отпечатываются края, проявляются отклонения от плоскостности и плоскопараллельности деталей. Помимо этого часто требуется, чтобы приборы допускали хранение и транспортировку в разжатом состоянии, и неоднократное приложение и снятие усилия сжатия. Для свободно расположенных деталей это приводит к их некоторому смещению и потере первоначального контакта, наиболее низкоомного и с наименьшим Rth.

Наиболее близким к предлагаемому решению является решение, описанное в докладе (Prikhodko A.I. and Surma A.M. Proton irradiated 6kV GTO with full pressure contacts, - Conf.Proc. on EPE - 97, Trondheim, 1997, pp.1.507 - 1.512 [3]), где силовой полупроводниковый прибор с полностью прижимными контактами содержит полупроводниковую пластину со слоями n- и p-типа проводимости, расположенную между катодным и анодным термокомпенсаторами с фланцами с диаметром бóльшим, чем диаметр полупроводниковой пластины, размещенными внутри изолирующего кольца.

Однако в описанной конструкции [3] не может быть создано достаточное усилие сжатия, фиксирующее взаимное положение полупроводниковой пластины и термокомпенсаторов, т.к. изолирующее кольцо контактирует только с боковой поверхностью фланцев термокомпенсаторов, а сама возможность достижения взаимной фиксации элементов не указана.

Техническим результатом предлагаемого решения является уменьшение и стабильность значений падения напряжения во включенном состоянии Von и теплового сопротивления прибора Rth путем обеспечения фиксированного положения полупроводниковой пластины относительно верхнего и нижнего термокомпенсаторов.

Для этого в силовом полупроводниковом приборе с полностью прижимными контактами, содержащем полупроводниковую пластину со слоями n- и р-типа проводимости, расположенную между катодным и анодным термокомпенсаторами с фланцами с диаметром бóльшим, чем диаметр полупроводниковой пластины, размещенными внутри изолирующего кольца, новым является то, что края изолирующего кольца охватывают фланцы термокомпенсаторов, заходя на наружные поверхности катодного и анодного термокомпенсаторов не менее чем на 1 мм, при этом изолирующее кольцо выполнено из упругого материала.

В предлагаемом решении за счет захода краев упругого изолирующего кольца на поверхность катодного и анодного термокомпенсаторов и растягивающей деформации кольца при его установке создается предварительное усилие сжатия (стягивающее усилие) со значениями в диапазоне от 1,5 до 150 кг/см2, в результате чего возрастает надежность конструкции.

Известных технических решений с такими признаками не обнаружено.

На чертеже показана конструкция прибора по предлагаемому решению.

Силовой полупроводниковый прибор с полностью прижимными контактами содержит полупроводниковую пластину (1) со слоями n- и p -типа проводимости, расположенную между катодным (2) и анодным (3) термокомпенсаторами с фланцами с диаметром бóльшим, чем диаметр полупроводниковой пластины, которые размещены внутри изолирующего кольца (4). Изолирующее кольцо выполнено из упругого материала, например, капролона. Края (5) изолирующего кольца заходят на наружные поверхности фланцев не менее чем на 1 мм, что создает предварительное усилие сжатия.

При заходе края изолирующего кольца на поверхности фланцев менее чем на 1 мм при пересборках приборов с охладителем возможно смещение изолирующего кольца с края фланца термокомпенсатора, что приводит к потере требуемого предварительного усилия сжатия.

В нашем случае за счет наличия предварительного усилия сжатия полученные значения Von и Rth сохраняются в процессе работы как после хранения и транспортировки прибора в разжатом состоянии, так и после неоднократной пересборки прибора с охладителем.

Пример выполнения

По предлагаемому решению были изготовлены приборы - силовые запираемые тиристоры на кремниевых пластинах с исходным удельным сопротивлением 350 Ом·см, с диаметром 52 мм и толщиной 1 мм. Молибденовые термокомпенсаторы вместе с фланцами имели диаметры 56 мм. Диаметры контактных поверхностей кремниевой пластины со слоями n-и p - типа проводимости и термокомпенсаторов составляли 47 мм.

Первая группа приборов (по предлагаемому решению) была собрана в корпус с применением упругих изолирующих колец, края которых заходили на наружную поверхность фланцев термокомпенсаторов примерно на 2 мм.

Вторая группа приборов (по прототипу) была собрана с изолирующими кольцами меньшей высоты, не заходящими на фланцы термокомпенсаторов.

В обоих случаях манжеты крышки и корпуса приборов при герметизации соединялись с одинаковым натягом.

Для эксперимента были отобраны по 3 прибора из каждой группы.

В таблице приведены значения Von и Rth приборов при приложении первого усилия (для испытаний), а также после 3-х пересборок приборов с охладителями.

№ прибора Первоначальные значения Значения после трех пересборок с охладителями
Von (при I=1000 А) [В] Rth[°C/Вт] Von(при 1=1000 А) [В] Rth [°C/Вт]
Первая группа 1 2,8 0,015 2,8 0,015
2 3,0 0,018 3,0 0,018
3 3,1 0,02 3,1 0,02
Вторая группа 1 3,15 0,025 Не включается
2 2,75 0,02 2,9 0,028
3 2,9 0,022 3,1 0,032

Из таблицы видно, что значения Von и Rth в приборах первой группы после пересборок с охладителями не изменились, а в приборах второй группы - повысились, и один прибор не включился из-за смещения деталей и локального замыкания управляющий электрод-катод.

Предлагаемое решение может быть использовано в конструкциях силовых преобразовательных модулях, в том числе с оптоэлектронным управлением.

Силовой полупроводниковый прибор с полностью прижимными контактами, содержащий полупроводниковую пластину со слоями n- и p-типа проводимости, расположенную между катодным и анодным термокомпенсаторами с фланцами с диаметром большим, чем диаметр полупроводниковой пластины, размещенными внутри изолирующего кольца, отличающийся тем, что края изолирующего кольца охватывают фланцы термокомпенсаторов, заходя на наружные поверхности катодного и анодного термокомпенсаторов не менее чем на 1 мм, при этом изолирующее кольцо выполнено из упругого материала.



 

Похожие патенты:

Изобретение относится к областям микроэлектроники и микромеханики, микроструктурной технологии и может быть использовано при разработке и изготовлении гибридно-собранных интегральных микросхем, а также при групповом механическом и/или электрическом соединении разнообразных функциональных устройств, выполненных на поверхностях разных подложек: полупроводников, металлов, диэлектриков или их комбинаций.

Изобретение относится к областям микроэлектроники и микромеханики, микроструктурной технологии и может быть использовано при разработке и изготовлении гибридно собранных интегральных микросхем, а также при групповом механическом и/или электрическом соединении разнообразных функциональных устройств, выполненных на поверхностях разных подложек: полупроводников, металлов, диэлектриков или их комбинаций.

Изобретение относится к технологии полупроводникового приборостроения, а именно - к способам и составам для технологии изготовления полупроводниковых приборов и интегральных микросхем, в частности - к технологии создания клеевых электропроводящих композиций.

Изобретение относится к области силовой электроники. .

Изобретение относится к области силовой электроники. .

Изобретение относится к области силовой электроники. .

Изобретение относится к электротехнике, в частности предназначено для защиты электронных компонентов, в которых значительная часть не закрыта корпусом. .

Изобретение относится к электронной технике, предназначено для изготовления контактных систем к полупроводниковым приборам с мелкозалегающими р-n переходами. .

Изобретение относится к технологии производства полупроводниковых приборов, ИС, БИС и СБИС. .

Изобретение относится к технологии изготовления полупроводниковых приборов, их гибридной сборке и преимущественно предназначено для сборки фотоприемных модулей

Изобретение относится к области полупроводниковой микроэлектроники и может быть использовано при разработке и изготовлении гибридных микросхем

Изобретение относится к способу и устройству межсоединения, использующему метод перевернутого кристалла на основе сформированных электрических соединений

Изобретение относится к полупроводниковому устройству, снабженному многослойной структурой межсоединений

Изобретение относится к межсоединениям по методу перевернутого кристалла

Изобретение относится к электронной технике

Изобретение относится к вычислительным системам, в частности к системной плате

Изобретение относится к микроэлектронике, к структурам взаимного соединения в многокристальных корпусах. Сущность изобретения: многокристальный корпус включает в себя подложку, имеющую первую сторону, противоположную вторую сторону и третью сторону, которая продолжается от первой стороны до второй стороны, первый кристалл, закрепленный на первой стороне подложки, и второй кристалл, также закрепленный на первой стороне подложки, и мост, расположенный рядом с третьей стороной подложки и соединенный с первым кристаллом и со вторым кристаллом. Никакой из участков подложки не находится под мостом. Мост формирует соединение между первым кристаллом и вторым кристаллом. В качестве альтернативы мост может быть расположен в полости на подложке или между подложкой и слоем кристалла. Мост может составлять активный кристалл и может быть закреплен на подложке с использованием проводных соединений. Изобретение позволяет получить структуры взаимных соединений между кристаллами в корпусах с большой плотностью, более высокими рабочими характеристиками и пониженной стоимостью. 10 н. и 13 з.п. ф-лы, 17 ил.

Изобретение относится к области приведения в контакт ОСИД с проводником. В способе для приведения в контакт ОСИД с проводником, ОСИД содержит подложку, по меньшей мере, с одной ячейкой, область контакта и инкапсулирующую оболочку, содержащую тонкую пленку, которая содержит нитрид кремния, карбид кремния или оксид алюминия, причем инкапсулирующая оболочка инкапсулирует, по меньшей мере, область контакта, а способ содержит этапы компоновки проводника на инкапсулирующей оболочке и взаимного соединения проводника с областью контакта, без предварительного удаления инкапсулирующей оболочки между проводником и областью контакта. Это изобретение обладает преимуществом в том, что инкапсулирующую оболочку между проводником и областью контакта не надо предварительно удалять. 2 н. и 7 з.п. ф-лы, 4 ил.

Изобретение относится к модулю полупроводникового преобразователя электроэнергии. Технический результат - создание модуля полупроводникового преобразователя электроэнергии с охлаждаемой ошиновкой (8) по меньшей мере двух модулей (2, 4) силовых полупроводниковых приборов, который можно нагружать электрически сильнее по сравнению со стандартным модулем полупроводникового преобразователя электроэнергии, при этом может выдерживаться допустимая температура для изоляционного слоя (32) и материала ламинирования ошиновки (8). Достигается тем, что модуль полупроводникового преобразователя электроэнергии, содержащий по меньшей мере два модуля (2, 4) силовых полупроводниковых приборов, которые механически соединены с обеспечением теплопроводности с жидкостным теплоотводом (6), и которые с помощью ошиновки (8), которая имеет по меньшей мере два изолированных друг от друга с помощью изоляционного слоя (32) шинопровода (26, 28; 28, 30), соединенных электрически с контактами (10, 12, 14) модуля полупроводникового преобразователя электроэнергии, изоляционный слой (32) имеет два изолирующих слоя (36, 38), которые соединены с замыканием по материалу друг с другом так, что между этими обоими изолирующими слоями (36, 38) имеется полое пространство (40) заданной формы, которое на стороне входа и выхода заканчивается по меньшей мере в одной боковой поверхности (48, 50) этого изоляционного слоя (32), и это полое пространство (40) на стороне входа и выхода снабжено соответствующим патрубком (42), которые соединены каждый с возможностью прохождения жидкости с жидкостным теплоотводом (6). 15 з.п. ф-лы, 3 ил.
Наверх