Устройство пленочного конвейера и способ вакуумного осаждения с рулонной подачей и приемкой

Изобретение относится к конвейерным устройствам для перемещения пленочной основы при вакуумной обработке, в частности вакуумном осаждении, с последовательным разматыванием и сматыванием пленочной основы. Устройство (10) содержит разматывающий (12) и сматывающий (14) ролики и механизм перемещения. Механизм перемещения включает направляющий узел (20), содержащий направляющий ролик (17А) и вспомогательный ролик (18). Вспомогательный ролик (18) включает пару кольцевых направляющих частей (17b), которые поддерживают боковые кромочные части пленочной основы (F). При этом вспомогательный ролик (18) расположен напротив направляющего ролика и прижимает боковые кромочные части пленочной основы к паре направляющих частей (17b). Технический результат - обеспечение стабильного перемещения пленочной основы и защиты ее обработанной области от повреждения. 2 н. и 4 з.п. ф-лы, 8 ил.

 

Область техники, к которой относится изобретение

Изобретение относится к устройству пленочного конвейера и способу вакуумного осаждения по технологии «roll-to-roll» для последовательно разматываемой пленочной основы в атмосфере пониженного давления и последовательно сматываемой пленочной основы при выполнении обработки осаждением, тепловой обработки, плазменной обработки и тому подобного на перемещающейся пленочной основе.

Предпосылки создания изобретения

Традиционно известен способ вакуумного осаждения из паровой фазы по технологии «roll-to-roll», в котором при наматывании длинной пленочной основы, последовательно разматываемой из разматывающего ролика вокруг охлаждающего ролика, осаждаемый материал из источника испарения, расположенного напротив охлаждающего ролика, осаждается на пленочную основу, и пленочная основа, которая была подвергнута осаждению из паровой фазы, сматывается сматывающим роликом (см., например, патентный документ 1 ниже).

Фиг.5 представляет собой схематическую структурную схему обычного работающего по технологии «roll-to-roll» (с рулонной подачей и приемкой) устройства вакуумного осаждения из паровой фазы такого типа. На данной фигуре ссылочная позиция 1 обозначает вакуумную камеру, 2 обозначает сматывающий ролик, 3 обозначает охлаждающий (или нагревающий) ролик (основной ролик), 4 обозначает разматывающий ролик и 5 обозначает источник испарения. Между разматывающим роликом 2 и основным роликом 3 предусмотрены направляющие ролики 6А и 6В, и между основным роликом 3 и сматывающим роликом 4 предусмотрены направляющие ролики 7А и 7В.

Пленочная основа F представляет собой пластиковую пленку, металлическую фольгу или подобную и последовательно разматывается из разматывающего ролика 2 для подачи к основному ролику 3 через направляющие ролики 6А и 6В. Затем при наматывании вокруг основного ролика 3 пленочная основа F охлаждается (или нагревается), и в этом состоянии одна поверхность пленочной основы F подвергается обработке осаждением в положении напротив источника 5 испарения. Пленочная основа F, на которую был осажден слой, последовательно сматывается сматывающим роликом через направляющие ролики 7А и 7В.

Патентный документ 1: японский патент №3,795,518.

Патентный документ 2: японская выложенная патентная заявка №2004-87792.

Раскрытие изобретения

Проблемы, которые решаются изобретением

В данном случае направляющий ролик, входящий в состав относящегося к такому типу устройства с рулонной подачей и приемкой для вакуумного осаждения из паровой фазы, имеет структуру, показанную на фиг.6. Направляющий ролик 8, показанный на фиг.6, включает в себя цилиндрическую поверхность качения 8а, которая входит в контакт с одной из поверхностей пленочной основы F и направляет перемещение пленочной основы F. Поверхность пленочной основы F, которая входит в контакт и поддерживается поверхностью качения 8а, меняется в зависимости от положения, в котором направляющий ролик расположен в устройстве. Поверхность осаждения пленочной основы F входит в контакт с поверхностями качения направляющих роликов 6В и 7А, показанных на фиг.5, в то время как не подвергаемая осаждению поверхность пленочной основы F входит в контакт с поверхностями качения направляющих роликов 6А и 7В.

Однако существуют случаи, когда область осаждения пленочной основы F, в зависимости от типа пленочной основы F или от осаждаемого материала, формы осаждения, условий использования устройства и тому подобного, не может входить в контакт с поверхностями качения направляющих роликов. Это происходит потому, что если поверхности качения направляющих роликов входят в контакт с областью осаждения пленочной основы F, возникает проблема, связанная с возникновением мелких царапин в части осаждения. Область осаждения, используемая в настоящем документе, в основном относится к части, из которой исключены боковые кромочные части.

В этом случае возможен способ выполнения устройства вакуумного осаждения из паровой фазы таким образом, чтобы поддерживать только не подвергаемую осаждению поверхность пленочной основы F, как показано на фиг.7, без использования направляющих роликов 6В и 7А, показанных, например, на фиг.5, так, чтобы поверхность осаждения пленочной основы F не входила в контакт с направляющими роликами. Однако в этом способе ограничиваются установочные положения роликов и повышаются ограничения с точки зрения конструкции устройства.

С другой стороны, существует также способ структурирования направляющего ролика, который входит в контакт с поверхностью осаждения пленочной основы F, как показано на фиг.8А (см., например, патентный документ 2 выше). Направляющий ролик 9, показанный на фиг.8А, имеет на цилиндрической поверхности катания 9а пару кольцевых направляющих частей 9b, которые имеют выступающую форму при сохранении расстояния между собой с возможностью поддерживания боковых кромочных частей пленочной основы F. Направляющие части 9b поддерживают боковые кромочные части пленочной основы F в качестве области, не подвергаемой осаждению или неиспользуемой области, с возможностью предотвращения вхождения в контакт области осаждения Fc пленочной основы F с поверхностью качения 9а.

Однако поскольку перемещающаяся пленочная основа F является длинной и передвигается с натяжением, центральная часть перемещающейся пленочной основы F может изгибаться и область осаждения Fc пленочной основы F может входить в контакт с поверхностью качения 9а направляющего ролика 9, как показано на фиг.8В. Кроме того, существует проблема в том, что выполнение стабильного направления пленочной основы F не может быть получено, и путь перемещения пленочной основы F не фиксируется, влияя, таким образом, на сматывание пленочной основы F.

Настоящее изобретение было выполнено с учетом описанных выше проблем, поэтому целью изобретения является разработка устройства пленочного конвейера и способа вакуумного осаждения по технологии «roll-to-roll», которые способны защищать область осаждения пленочной основы и осуществлять стабильное выполнение перемещения.

Средство решения проблем

Согласно варианту осуществления настоящего изобретения разработано устройство пленочного конвейера, передающего пленочную основу в вакуумной камере, включающее в себя разматывающий ролик, сматывающий ролик и механизм перемещения. Механизм перемещения предусмотрен между разматывающим роликом и сматывающим роликом. Механизм перемещения включает в себя направляющий узел. Направляющий узел включает в себя направляющий ролик и вспомогательный ролик. Направляющий ролик имеет пару кольцевых направляющих частей, которые поддерживают боковые кромочные части пленочной основы. Вспомогательный ролик расположен напротив направляющего ролика и прижимает боковые кромочные части пленочной основы к паре направляющих частей.

Согласно варианту осуществления настоящего изобретения разработан способ вакуумного осаждения с рулонной подачей и приемкой, включающий в себя последовательное разматывание пленочной основы в атмосфере пониженного давления. Слой осаждается по меньшей мере на одну поверхность пленочной основы. Пленочная основа прижимается на ее боковых кромочных частях и передается к сматывающей части.

Наилучшие варианты осуществления изобретения

Согласно варианту осуществления настоящего изобретения разработано устройство пленочного конвейера, передающего пленочную основу в вакуумной камере, включающее в себя разматывающий ролик, сматывающий ролик и механизм перемещения. Механизм перемещения предусмотрен между разматывающим роликом и сматывающим роликом. Механизм перемещения включает в себя направляющий узел. Направляющий узел включает в себя направляющий ролик и вспомогательный ролик. Направляющий ролик имеет пару кольцевых направляющих частей, которые поддерживают боковые кромочные части пленочной основы. Вспомогательный ролик расположен напротив направляющего ролика и прижимает боковые кромочные части пленочной основы к паре направляющих частей.

В устройстве пленочного конвейера перемещающаяся пленочная основа прижимается на ее боковых кромочных частях направляющим узлом и передается к сматывающему ролику. В результате предотвращается вступление в контакт друг с другом области осаждения пленочной основы и поверхностей качения направляющего ролика и вспомогательного ролика направляющего узла, и область осаждения, таким образом, может быть защищена. Более того, с такой структурой становится возможным осуществить стабильное выполнение перемещения пленочной основы и обеспечить подходящее выполнение сматывания пленочной основы.

В настоящем документе область осаждения пленочной основы относится к центральной части поверхности осаждения пленочной основы, которая не входит в контакт с направляющим узлом. Такая пленочная основа включает в себя пленочную основу, в которой ее боковые кромочные части считаются неиспользуемыми областями, даже когда осаждение выполняется на всей поверхности осаждения, и пленочная основа включает в себя маску для предотвращения прилипания осаждаемого материала на боковые кромочные части пленочной основы.

Устройство пленочного конвейера может дополнительно включать в себя между разматывающим роликом и сматывающим роликом любой механизм осаждения для осаждения слоя на пленочную основу, механизм нагревания для нагрева пленочной основы, механизм плазменной обработки для подвергания пленочной основы плазменной обработке.

При такой конструкции становится возможным выполнять обработку осаждением, обработку нагреванием или плазменную обработку на пленочной основе во время перемещения пленочной основы.

Вспомогательный ролик может включать в себя пару кольцевых прижимных частей, которые одновременно прижимают боковые кромочные части пленочной основы к паре направляющих частей.

При такой конструкции область осаждения пленочной основы может быть защищена.

Вспомогательный ролик может быть предусмотрен в паре таким образом, чтобы боковые кромочные части пленочной основы могли быть независимо прижаты к паре направляющих частей. При такой конструкции можно контролировать выполнение перемещения пленочной основы, а также оптимально регулировать прижимающую силу относительно каждой кромочной части пленочной основы.

Механизм перемещения может включать в себя основной ролик, который охлаждает или нагревает пленочную основу посредством вхождения в тесный контакт с не подвергаемой осаждению поверхностью пленочной основы. В этом случае направляющий ролик может быть предусмотрен между основным роликом и сматывающим роликом.

При такой конструкции пленочная основа может охлаждаться или нагреваться при перемещении пленочной основы, и может быть обеспечено подходящее выполнение сматывания охлажденной или нагретой пленочной основы.

Дополнительно, согласно варианту осуществления настоящего изобретения предусмотрен способ вакуумного осаждения с рулонной подачей и приемкой, включающий в себя последовательное разматывание пленочной основы в атмосфере пониженного давления. Слой осаждается по меньшей мере на одну поверхность пленочной основы. Пленочная основа прижимается на ее боковых кромочных частях и передается к сматывающей части.

В способе вакуумного осаждения с рулонной подачей и приемкой пленочная основа, на которую осаждается слой, прижимается на ее боковых кромочных частях и передается к сматывающей части. Соответственно, возможно осуществить стабильное выполнение перемещения пленочной основы при защите области осаждения пленочной основы и обеспечить подходящее выполнение сматывания пленочной основы.

В дальнейшем в настоящем документе будут описаны варианты осуществления настоящего изобретения со ссылкой на чертежи. Следует отметить, что в этом варианте осуществления будет описан пример, в котором настоящее изобретение применяется для устройства с рулонной подачей и приемкой для вакуумного осаждения из паровой фазы и способ с рулонной подачей и приемкой для вакуумного осаждения из паровой фазы.

Фиг.1 представляет собой схематическую структурную схему устройства 10 вакуумного осаждения из паровой фазы согласно варианту осуществления настоящего изобретения. Устройство 10 с рулонной подачей и приемкой для вакуумного осаждения из паровой фазы является устройством, которое последовательно осаждает заданный осаждаемый материал на одну поверхность длинной пленочной основы F.

Хотя и не показано, но вакуумная камера 11 соединена со средством вакуумирования и может быть вакуумирована до заданного уровня вакуума. Внутри вакуумной камеры 11 предусмотрены разматывающий ролик 12, охлаждающий основной ролик 13 и сматывающий ролик 14, и в положении напротив основного ролика 13 предусмотрен источник 15 испарения, составляющий механизм осаждения. Пленочная основа F последовательно разматывается из разматывающего ролика 12 и сматывается сматывающим роликом 14 после осаждения слоя в положении напротив источника 15 испарения при охлаждении основным роликом 13.

Более того, между разматывающим роликом 12 и основным роликом 13 предусмотрены направляющие ролики 16А и 16В, которые направляют перемещение пленочной основы F до осаждения, и между основным роликом 13 и сматывающим роликом 14 предусмотрены направляющий узел 20 и направляющий ролик 17В, которые направляют перемещение пленочной основы F после осаждения. Направляющие ролики 16А и 16В, основной ролик 13, направляющий узел 20 и направляющий ролик 17В составляют «механизм перемещения» согласно настоящему изобретению.

В настоящем описании пленочная основа F состоит из длинной пластиковой пленки, обладающей изоляционными свойствами и отрезанной на заданную ширину. Например, используется ориентированная полипропиленовая (ОРР) пленка, полиэтиленовая терефталатная (PET) пленка или полиимидная (PI) пленка. Пленочная основа F может быть металлической фольгой.

В этом варианте осуществления пленочная основа F соответствует такой пленке, в которой боковые кромочные части поверхности осаждения считаются не подвергаемыми осаждению областями, или такими областями, в которых боковые кромочные части считаются неиспользуемыми областями даже тогда, когда осаждение осуществляется по всей поверхности осаждения. Для установки боковых кромочных частей поверхности осаждения в качестве областей, не подвергаемых осаждению, существует способ размещения маски 25 между основным роликом 13 и источником 15 испарения, как показано, например, на фиг.2. Боковые кромочные части пленочной основы накрываются маской 25, и осаждаемый слой Fm осаждается только на область осаждения в центральной части.

Разматывающий ролик 12 и сматывающий ролик 14 каждый имеет независимую приводную часть вращения и сконструирован с возможностью последовательного разматывания и сматывания пленочной основы F с постоянной скоростью. Основной ролик 13 является трубчатым и выполнен из металла, такого как нержавеющая сталь и железо, и включает в себя приводную часть вращения. Внутри основной ролик 13 имеет механизм охлаждения, такой как система циркуляции охлаждающей среды. На пленочную основу F со стороны ее внешней поверхности на поверхность осаждения наносится осаждаемый материал из источника 15 испарения, в то время как ее поверхность, не подвергаемая осаждению, подвергается процессу охлаждения посредством тесного контакта с основным роликом 13.

Источник 15 испарения вмещает в себя осаждаемый материал и имеет механизм, который заставляет осаждаемый материал испаряться под действием тепла с использованием хорошо известного способа, такого как нагрев сопротивлением, индукционный нагрев, электронно-лучевой нагрев. Источник 15 испарения расположен под основным роликом 13 и заставляет пар осаждаемого материала прилипать на осаждаемую поверхность пленочной основы F на основном ролике 13 напротив него, образовывая, таким образом, осаждаемый слой.

Хотя осаждаемый материал не особенно ограничен, в дополнение к металлическим элементам, таким как Аl (алюминий), Со (кобальт), Си (медь), Ni (никель), Ti (титан), применимы два или более металлов, таких как Al-Zn (алюминий-цинк), Cu-Zn (медь-цинк), Fe-Co (железо-кобальт) или многокомпонентный сплав. Кроме того, количество источников 15 испарения не ограничено до одного, и может быть предусмотрено множество источников испарения.

Направляющий ролик 16А и направляющий ролик 17 В каждый состоит из цилиндрического тела качения, которое направляет перемещающуюся пленочную основу F посредством вхождения в контакт с не подвергаемой осаждению поверхностью пленочной основы F, и каждый имеет такую же структуру, как и направляющий ролик 8, показанный, например, на фиг.6. Более того, направляющий ролик 16 В состоит из цилиндрического тела качения, которое направляет перемещающуюся пленочную основу F посредством вхождения в контакт с поверхностью осаждения пленочной основы F и имеет такую же структуру, как и направляющие ролики 16А и 17В, описанные выше. Следует отметить, что хотя направляющие ролики 16А, 16В и 17В структурированы в виде свободных роликов, которые вращаются для передачи перемещающейся пленочной основы F, каждый такой ролик может иметь часть с независимым механизмом вращения.

Между основным роликом 13 и направляющим роликом 17В предусмотрен направляющий узел 20, который имеет направляющую функцию для передачи пленочной основы F, подвергаемой процессу осаждения, к сматывающему ролику 14. Фиг.3 представляет собой вид сбоку, показывающий пример конструкции направляющего узла 20 этого варианта осуществления. Направляющий узел 20, показанный на фиг.3, включает в себя направляющий ролик 17А и вспомогательный ролик 18.

Направляющий ролик 17А состоит из цилиндрического тела качения, которое включает в себя поверхность качения 17а, противоположную поверхности осаждения Fa пленочной основы F, и вал, положение которого закреплено внутри вакуумной камеры 11. На поверхности качения 17а направляющего ролика 17А образована выступающая пара кольцевых направляющих частей 17b, 17b, которые поддерживают боковые кромочные части на обеих сторонах области осаждения Fc поверхности осаждения Fa пленочной основы, и между областью осаждения Fc и поверхностью качения 17а образован определенный зазор. Направляющие части 17b, 17b могут быть образованы как единое целое на поверхности качения 17а направляющего ролика 17А или могут быть выполнены как отдельные компоненты.

Следует отметить, что хотя направляющий ролик 17А выполнен в виде свободного ролика, который вращается для передачи перемещающейся пленочной основы F, он может иметь часть с независимым механизмом вращения. Более того, материал, из которого выполнены направляющие части 17b, в особенности не ограничен, и в дополнение к металлу и резине может быть использовано упругое тело, выполненное из резины.

С другой стороны, вспомогательный ролик 18 состоит из цилиндрического тела качения, расположенного напротив ролика 17А. На поверхности качения 18а вспомогательного ролика 18 образована выступающая пара кольцевых прижимных частей 18b, 18b, которые прижимают боковые кромочные части пленочной основы F к направляющим частям 17b, 17b направляющего ролика 17А посредством вхождения в контакт с не подвергаемой осаждению стороной Fb пленочной основы F. Прижимные части 18b, 18b могут быть образованы как единое целое на поверхности качения 18а вспомогательного ролика 18 или могут быть выполнены как отдельные компоненты.

Прижимной механизм 19 для прижимания вспомогательного ролика 18 к направляющему ролику 17А соединен с вальной частью вспомогательного ролика 18. Прижимной механизм 19 включает в себя средство смещения, такое как пружина, и цилиндр и взаимодействует с направляющим роликом 17А, вальная часть которого закреплена для образования заданной силы прижатия по отношению к боковым кромочным частям пленочной основы F. В результате предотвращается изгибание пленочной основы F, а также отклонение от положения перемещения пленочной основы F.

Следует отметить, что хотя направляющий ролик 18 выполнен в виде свободного ролика, который вращается для передачи перемещающейся пленочной основы F, он может иметь независимую часть с механизмом вращения. Более того, материал, из которого выполнены направляющие части 18b, в особенности не ограничен, и в дополнение к металлу и синтетической резине может быть использовано упругое тело, выполненное из резины или тому подобного.

В этом варианте осуществления, имеющем описанную выше конструкцию, в вакуумной камере 11, вакуумированной до заданной атмосферы с пониженным давлением, пленочная основа F последовательно разматывается из разматывающего ролика 12 и сматывается сматывающей частью 14 после того, как перемещающаяся пленочная основа была подвергнута обработке осаждением на основном ролике 13.

В то же время, согласно этому варианту осуществления, хотя пленочная основа F, на которой образован осаждаемый слой, передается, когда ее область осаждения Fc располагается напротив поверхности качения 17а направляющего ролика 17А, поскольку пленочная основа F передается, когда ее боковые кромочные части прижимаются направляющими частями 17b, 17b направляющего ролика 17А и прижимными частями 18b, 18b вспомогательного ролика 18, область осаждения Fc не входит в контакт с поверхностью качения 17а направляющего ролика 17А. В результате, возможно защищать область осаждения Fc и предотвращать повреждения и ухудшение выполнения напыляемого слоя из-за контакта с поверхностью качения 17а.

Более того, поскольку этот вариант осуществления структурирован для передачи пленочной основы F в состоянии, когда боковые кромочные части пленки прижимаются направляющим узлом 20, возможно осуществить стабильное выполнение перемещения пленочной основы F и обеспечить подходящее выполнение сматывания пленочной основы F в сматывающем ролике 14.

Фиг.4 представляет собой вид спереди, показывающий пример конструкции направляющего узла 30 согласно другому варианту осуществления настоящего изобретения. Направляющий узел 30, показанный на фиг.4, включает в себя направляющий ролик 17А, имеющий конструкцию, описанную выше, и пару вспомогательных роликов 18А и 18В, которые входят в контакт с не подвергаемой осаждению стороной поверхности Fb пленочной основы F, и прижимает боковые кромочные части пленочной основы F к паре направляющих частей 17b, 17b направляющего ролика 17А.

Вращающиеся валы вспомогательных роликов 18А и 18В поддерживаются с возможностью вращения опорными кронштейнами 21А и 21В соответственно, и опорные кронштейны 21А и 21В соединены с взаимно независимыми прижимными механизмами 22А и 22В соответственно. Каждый прижимной механизм 22А и 22В включает в себя средство смещения, такое как пружина, и цилиндр и взаимодействует с направляющим роликом 17А, положение вала которого фиксировано для создания заданной силы прижатия относительно боковых кромочных частей пленочной основы F. В результате предотвращается изгибание пленочной основы F, а также отклонение от положения перемещения пленочной основы F.

Следует отметить, что хотя вспомогательные ролики 18А и 18В выполнены в виде свободных роликов, которые вращаются для передачи перемещающейся пленочной основы F, они могут иметь независимую часть с механизмом вращения. Более того, материал, из которого выполнены направляющие ролики 18А и 18В, в особенности не ограничен, и в дополнение к металлу и резине может быть использовано упругое тело, выполненное из резины или тому подобного.

Поскольку пленочная основа F передается в то время, когда ее боковые кромочные части зажимаются направляющими частями 17b, 17b направляющего ролика 17А и вспомогательными роликами 18А и 18В, имеющими в этом варианте осуществления конструкцию, описанную выше, область осаждения Fc пленочной основы F не входит в контакт с поверхностью качения 17а направляющего ролика 17А. В результате, можно защищать напыляемую область Fc и предотвращать повреждения и ухудшение выполнения напыляемого слоя из-за контакта с поверхностью качения 17а.

Более того, поскольку этот вариант осуществления структурирован для передачи пленочной основы F в состоянии, когда боковые кромочные части пленки прижимаются направляющим узлом 30, возможно осуществить стабильное выполнение перемещения пленочной основы F и обеспечить подходящее выполнение сматывания пленочной основы F в сматывающем ролике 14.

Более того, поскольку этот вариант осуществления структурирован для прижатия боковых кромочных частей пленочной основы F к направляющим частям 17b, 17b направляющего ролика 17А вспомогательными роликами 18А, 18А соответственно, можно контролировать выполнение перемещения пленочной основы F, а также оптимально регулировать прижимающую силу относительно каждой кромочной части пленочной основы F.

Выше были описаны варианты осуществления настоящего изобретения. Однако настоящее изобретение, разумеется, не ограничивается этим и может быть различным образом модифицировано на основе технической идеи настоящего изобретения.

Например, в приведенных выше вариантах осуществления направляющий узел 20 (30) согласно настоящему изобретению был выполнен посредством расположения вспомогательных роликов 18 (18А, 18В) напротив направляющего ролика 17А, то есть напротив поверхности осаждения пленочной основы F после осаждения. Однако также возможно расположить вспомогательный ролик напротив направляющего ролика 16В (фиг.1), то есть напротив поверхности осаждения пленочной основы F до осаждения, и таким образом выполнить направляющий узел.

Альтернативно, вспомогательный ролик, имеющий описанную выше конструкцию, может быть расположен напротив каждого направляющего ролика. В результате пленочная основа может быть смотана при осуществлении защиты поверхностей на обеих сторонах пленочной основы.

Более того, в приведенных выше вариантах осуществления были даны описания на примере, в котором металлический слой осаждался с использованием способа вакуумного осаждения из паровой фазы, который использует источник испарения 15 в качестве средства осаждения. Однако настоящее изобретение не ограничивается этим, и другие способы осаждения для нанесения металлического или неметаллического слоя, такие как метод распыления и различные способы химического осаждения из паровой фазы, также применимы, и такое средство осаждения, как мишень ионного распыления, может быть использовано как приемлемое средство на основе этих способов осаждения. Более того, основной ролик 13 не ограничивается случаем, когда он может быть выполнен как охлаждающий ролик, и вместо этого он может быть выполнен как нагревающий ролик.

Более того, приведенные выше варианты осуществления описаны на примере, в котором устройство пленочного конвейера настоящего изобретения используется для устройства осаждения, такого как устройство с рулонной подачей и приемкой для вакуумного осаждения из паровой фазы. Однако настоящее изобретение не ограничивается этим и также применимо для устройства обработки пленки, в котором средство тепловой обработки, средство плазменной обработки или подобное расположено между разматывающим роликом и сматывающим роликом, и тепловая обработка, плазменная обработка или тому подобное выполняется при перемещении пленочной основы. Кроме того, настоящее изобретение также применимо к устройству, которое просто перемещает пленочную основу от разматывающего ролика к сматывающему ролику. В этом случае камера не ограничивается до атмосферы с пониженным давлением и может контролироваться при атмосферном давлении.

Краткое описание чертежей

Фиг.1 представляет схематическую структурную схему устройства с рулонной подачей и приемкой для вакуумного осаждения из паровой фазы в качестве устройства с рулонной подачей и приемкой для вакуумного осаждения из паровой фазы согласно варианту осуществления настоящего изобретения.

Фиг.2 - вид сбоку, показывающий пример конструкции основной части устройства с рулонной подачей и приемкой для вакуумного осаждения из паровой фазы, показанного на фиг.1.

Фиг.3 - вид спереди, показывающий структурный пример направляющего узла согласно настоящему изобретению.

Фиг.4 - вид спереди, показывающий другой пример конструкции направляющего узла согласно настоящему изобретению.

Фиг.5 - схематическая структурная схема обычного устройства с рулонной подачей и приемкой для вакуумного осаждения из паровой фазы.

Фиг.6 - вид спереди, показывающий пример конструкции обычного направляющего ролика.

Фиг.7 - схематическая структурная схема другого обычного устройства с рулонной подачей и приемкой для вакуумного осаждения из паровой фазы.

Фиг.8 - виды спереди, показывающие другой структурный пример обычного направляющего ролика.

Описание ссылочных позиций

10 устройство с рулонной подачей и приемкой для вакуумного осаждения из паровой фазы,

11 вакуумная камера,

12 разматывающий ролик,

13 основной ролик,

14 сматывающий ролик,

15 источник испарения,

16А, 16В, 17А, 17В направляющий ролик,

17а поверхность качения,

17b направляющая часть,

18, 18А, 18В вспомогательный ролик,

18а поверхность качения,

18b прижимная часть,

19 прижимной механизм,

20, 30 направляющий узел,

21А, 21В опорный кронштейн,

22А, 22В прижимной механизм,

25 маска,

F пленочная основа,

Fa поверхность осаждения,

Fb поверхность, не подвергаемая осаждению,

Fc область осаждения.

1. Устройство пленочного конвейера, передающего пленочную основу в вакуумной камере, содержащее:
разматывающий ролик;
сматывающий ролик; и
механизм перемещения, который предусмотрен между разматывающим роликом и сматывающим роликом и который включает в себя направляющий узел, включающий в себя направляющий ролик и вспомогательный ролик, причем вспомогательный ролик включает в себя пару кольцевых направляющих частей, которые поддерживают боковые кромочные части пленочной основы, вспомогательный ролик расположен напротив направляющего ролика и прижимает боковые кромочные части пленочной основы к паре направляющих частей.

2. Устройство по п.1, дополнительно содержащее любой из механизма осаждения для нанесения слоя на пленочную основу, механизма нагревания для нагрева пленочной основы и механизма плазменной обработки для подвергания пленочной основы плазменной обработке между разматывающим роликом и сматывающим роликом.

3. Устройство по п.1, в котором вспомогательный ролик включает в себя пару кольцевых прижимных частей, которые прижимают боковые кромочные части пленочной основы к паре направляющих частей одновременно.

4. Устройство по п.1, в котором вспомогательный ролик предусмотрен в паре таким образом, чтобы боковые кромочные части пленочной основы могли быть независимо прижаты к паре направляющих частей.

5. Устройство по п.1, в котором механизм перемещения включает в себя основной ролик, который охлаждает или нагревает пленочную основу посредством вхождения в тесный контакт с не подвергаемой осаждению поверхностью пленочной основы, при этом направляющий ролик предусмотрен между основным роликом и сматывающим роликом.

6. Способ вакуумного осаждения с рулонной подачей и приемкой, включающий:
последовательное разматывание пленочной основы в атмосфере пониженного давления;
осаждение слоя, по меньшей мере, на одну поверхность пленочной основы; зажимание пленочной основы, на которой осаждается слой, на ее боковых кромочных частях с помощью направляющего узла, включающего в себя направляющий ролик и вспомогательный ролик, причем вспомогательный ролик включает в себя пару кольцевых направляющих частей, которые поддерживают боковые кромочные части пленочной основы, вспомогательный ролик расположен напротив направляющего ролика и прижимает боковые кромочные части пленочной основы к паре направляющих частей; и передачу пленочной основы в сматывающую часть.



 

Похожие патенты:

Изобретение относится к парогенератору для нанесения металлического покрытия на подложку (7), предпочтительно стальную ленту. .

Изобретение относится к установке для комбинированной ионно-плазменной обработки и может быть применено в машиностроении, преимущественно для ответственных деталей, например рабочих и направляющих лопаток турбомашин.

Изобретение относится к шлюзам для уплотнения. .

Изобретение относится к установке для нанесения покрытий в вакууме и может быть применено для вакуумного нанесения покрытий на рулонные материалы при производстве электродной фольги для алюминиевых оксидно-электролитических конденсаторов, суперконденсаторов, аккумуляторов и подобных изделий.

Изобретение относится к способу и устройству нанесения покрытия, способ изготовления постоянного магнита типа Fe-B-редкоземельные элементы, выполненный из спеченного магнита типа Fe-B-редкоземельные элементы.

Изобретение относится к технике вакуумного нанесения износо-, коррозионно- и эрозионностойких ионно-плазменных покрытий и может быть применено в машиностроении, например, для защиты рабочих и направляющих лопаток турбомашин.

Изобретение относится к шлюзу для полосы для герметизации первой камеры относительно второй камеры, причем полоса, в частности металлическая полоса, проходит через обе камеры, и для герметизации камер предусмотрено, по меньшей мере, одно уплотняющее средство.

Изобретение относится к области нанесения покрытий, в частности к малогабаритному магнетронному распылительному устройству обращенного типа, и может найти использование для нанесения тонких пленок металлов и их соединений в вакууме на тонкие проволоки и волокна.

Изобретение относится к технике вакуумного нанесения износо-, коррозионно- и эрозионно стойких ионно-плазменных покрытий, в частности к катодному узлу электродугового испарителя, и может быть применено в машиностроении преимущественно для нанесения покрытий на протяженные изделия, например лопатки паровых турбин.

Изобретение относится к технике вакуумного нанесения износо-, коррозионно- и эрозионностойких ионно-плазменных покрытий и может быть применено в машиностроении, преимущественно для ответственных деталей, например рабочих и направляющих лопаток турбомашин.

Изобретение относится к подложкодержателю и установке для нанесения покрытий методом магнетронного распыления
Изобретение относится к покрытию подложек с одной или более сторон каталитически активным материалом для их использования в качестве электродов, применяемых при хлорщелочном электролизе и/или получении водорода

Изобретение относится к технологии вакуумной обработки подложек большой площади путем осаждения пленок из паровой или газовой фазы, используемых, в частности, при изготовлении тонкопленочных солнечных элементов

Изобретение относится к области машиностроения и металлургии, в частности к вакуумной установке для получения наноструктурированных покрытий из материала с эффектом памяти формы на поверхности детали. Упомянутая установка содержит раму с установленной на ней вакуумной камерой, соединенной с вакуумным насосом, механизм закрепления детали, газопламенную горелку для высокоскоростного газодинамического напыления, установленную под углом 45° к поверхности детали, механизм подачи порошкового материала с эффектом памяти формы в газопламенную горелку, пирометр для измерения температуры обрабатываемой детали, технологический модуль для ионной очистки обрабатываемой детали, приспособление для поверхностно-пластического деформирования детали для формирования наноструктурированного слоя, понижающий трансформатор для дополнительного нагрева поверхности детали, устройство для охлаждения поверхности детали для отрицательного интервала температур мартенситного превращения при поверхностно-пластическом деформировании и управляющее устройство. Предложенная установка дополнительно содержит два магнетрона и источник для ионной имплантации металлов, закрепленные в корпусе вакуумной камеры с возможностью направления на обрабатываемую деталь. Приспособление для поверхностно-пластического деформирования выполнено в виде пресса с верхней неподвижной и нижней подвижной траверсами, расположенными в вакуумной камере, причем на нижней подвижной траверсе установлены зажимной механизм закрепления детали и упомянутое устройство для охлаждения поверхности детали. Газопламенная горелка жестко закреплена в корпусе вакуумной камеры. Повышаются прочностные характеристики и износостойкость покрытий деталей, а также обеспечивается возможность обработки изделий любой формы. 1 ил., 2 пр.

Изобретение относится к способу и устройству нанесения тонкопленочных покрытий на подложки и может быть использовано для нанесений тонкопленочных покрытий с заданными оптическими, электрическими и другими характеристиками. Технический результат заключается в обеспечении возможности обработки как гибких крупноформатных подложек, так и подложек небольшого размера с высокой степенью равномерности покрытия. Подложки располагают на вращающихся барабанах, которые последовательно перемещают вдоль зон обработки технологической линии с одинаковой постоянной линейной и угловой скоростью. При этом соотношение линейной и угловой скоростей барабана выбирается таким образом, чтобы каждая точка поверхности барабана совершала не менее двух полных оборотов при прохождении зоны обработки. В технологической линии содержатся шлюзовые, буферные камеры и по крайней мере одна технологическая камера с технологическим устройством, держатели подложек и транспортная система. Держатели расположены на каретках, установленных с возможностью последовательного прохождения камер. Каждый держатель подложек выполнен в виде вращающегося барабана. Каретки выполнены с возможностью перемещения с постоянной линейной скоростью. 2 н. и 9 з.п. ф-лы, 4 ил.

Изобретение относится к способу предварительной обработки вспомогательных поверхностей установки для нанесения покрытий. Вспомогательные поверхности установки для нанесения покрытий еще перед процессом нанесения покрытия подвергают предварительной обработке путем нанесения на вышеуказанные вспомогательные поверхности антиадгезионного слоя, в качестве которого используют суспензию графитового порошка в легколетучем растворителе. При последующем процессе нанесения покрытия сцепление материала покрытия на вспомогательных поверхностях существенно снижается по сравнению с его сцеплением без предварительной обработки. Технический результат - упрощение способа очистки установки для нанесения покрытий после процесса нанесения покрытия. 2 н. и 2 з. п. ф-лы, 4 ил.

Изобретение относится к установке для вакуумного осаждения покрытия из металлического сплава на подложку (7). Генератор - смеситель пара установки содержит вакуумную камеру (6), которая имеет средства для создания в ней разрежения относительно внешней среды и средства, обеспечивающие вход и выход подложки (7). Камера (6), по существу, непроницаема для внешней среды. Эжекторная головка (3) для осаждения пара предназначена для создания струи пара металлического сплава со звуковой скоростью в направлении поверхности подложки (7) и перпендикулярно к ней. Эжекторная головка (3) герметично сообщается с отдельным смесительным устройством (14), которое, в свою очередь, соединено выше по потоку соответственно, по меньшей мере, с двумя тиглями (11, 12), содержащими два разных металла M1 и М2 в жидком виде. Каждый тигель (11, 12) соединен собственной отдельной трубой (4, 4′) со смесителем (14). В результате достигается возможность дифференцированного и быстро корректируемого регулирования содержания входящих в состав сплава металлов, обеспечивается равномерность испарения и получение качественного покрытия. 2 н. и 16 з.п. ф-лы, 6 ил.

Изобретение относится к устройствам вакуумного нанесения покрытий на рулонные материалы. Может использоваться для получения функциональных покрытий при производстве материалов электронной техники. Устройство для получения электродного материала содержит модуль напыления с системой испарения с механизмом подачи испаряемого материала, систему перемотки, систему откачки, пневмосистему, систему охлаждения, систему управления и устройство перемещения, выполненное с возможностью стыковки-расстыковки с модулем напыления. Система перемотки выполнена в виде жесткого блока, состоящего из двух плит, передней и задней, скрепленных между собой опорами, и содержит водоохлаждаемые направляющие ролики, неохлаждаемые отклоняющие ролики и ролики натяжения. Жесткий блок крепится задней плитой к внешней плите, расположенной на устройстве перемещения посредством крепящих блоков с обеспечением независимости от прогиба внешней плиты. Для передачи вращения от приводов и исполнительных механизмов на водоохлаждаемые направляющие установлен магнитожидкостной ввод вращения с обеспечением компенсации прогиба внешней плиты, который надевают на водоохлаждаемый направляющий ролик. 4 з.п. ф-лы, 4 ил.
Наверх