Способ получения стеклянной декоративно-облицовочной плитки


 


Владельцы патента RU 2457187:

Щепочкина Юлия Алексеевна (RU)

Изобретение относится к производству стеклянной декоративно-облицовочной плитки. Технический результат изобретения заключается в упрощении способа получения декоративно-облицовочной плитки. На под печи укладывают термостойкую каолиновую пудру. Затем на слое пудры размещают лист прозрачного стекла. На поверхность стекла или его участки наносят слой воска толщиной 0,01-0,1 мм. Далее на воск наносят слой графита толщиной 0,01-0,1 мм. Осуществляют термообработку при температуре 800-1000°С в течение 5-30 мин. 2 пр.

 

Изобретение относится к производству стеклянной декоративно-облицовочной плитки.

Известен способ получения стеклянной декоративно-облицовочной плитки, включающий укладку на под печи слоя термостойкой каолиновой пудры, укладку на него плитки из прозрачного стекла, термообработку при температуре 800-1000°C в течение 5-30 мин с последующим нанесением на нее двух слоев цветной краски [1].

Задача изобретения состоит в упрощении способа получения стеклянной декоративно-облицовочной плитки.

Технический результат достигается тем, что по способу получения стеклянной декоративно-облицовочной плитки, включающему укладку на под печи слоя термостойкой каолиновой пудры, укладку на него плитки из прозрачного стекла, термообработку при температуре 800-1000°С в течение 5-30 мин, до термообработки на поверхность плитки или ее участки наносят слой графита толщиной 0,01-0,1 мм, причем перед нанесением слоя графита поверхность плитки или ее участки покрывают слоем воска толщиной 0,01-0,1 мм.

Для осуществления способа возможно использование готовой плитки из любого прозрачного силикатного стекла. Возможна нарезка листового стекла (отходов стекла) на плитки.

Способ поясняется следующими примерами.

1. Подготавливают стеклянные плитки нужного размера. Их поверхность покрывают слоем воска толщиной 0,01 мм. Затем на поверхность плиток по слою воска наносят по всей ее площади слой графита толщиной 0,01 мм. Воск препятствует смещению графита с поверхности стекла. На под печи укладывают слой термостойкой каолиновой пудры. На слой пудры укладывают в горизонтальном положении стеклянные плитки и проводят их термообработку при температуре 1000°С в течение 5 мин. При нагреве плиток воск испаряется, а графит взаимодействует с поверхностью стекла, окрашивая ее в серый цвет. Готовую плитку охлаждают вместе с печью до температуры 70°С, после чего плитку извлекают из печи и складируют.

2. Подготавливают стеклянные плитки нужного размера. Участки их поверхности покрывают, например, в виде рисунка слоем воска толщиной 0,1 мм. Затем наносят на покрытые воском участки поверхности плиток слой графита толщиной 0,1 мм. На под печи укладывают слой термостойкой каолиновой пудры. На слой пудры укладывают в горизонтальном положении стеклянные плитки, после чего проводят их термообработку при температуре 800°С в течение 30 мин. При нагреве плиток воск испаряется, а графит взаимодействует с поверхностью стекла, окрашивая се в серый цвет. Готовую плитку охлаждают вместе с печью до температуры 60°С, после чего плитку извлекают из печи и складируют.

Предложенный способ несложен, позволяет получать стеклянную декоративно-облицовочную плитку, имеющую поверхность или ее часть окрашенными в серый цвет, в том числе в виде рисунка.

Источник информации

1. MD 3603 F1, 2008.

Способ получения стеклянной декоративно-облицовочной плитки, включающий укладку на под печи слоя термостойкой каолиновой пудры, укладку на него плитки из прозрачного стекла, термообработку при температуре 800-1000°С в течение 5-30 мин, отличающийся тем, что до термообработки на поверхность плитки или ее участки наносят слой графита толщиной 0,01-0,1 мм, причем перед нанесением слоя графита поверхность плитки или ее участки покрывают слоем воска толщиной 0,01-0,1 мм.



 

Похожие патенты:

Изобретение относится к стеклянной пластине, имеющей тонкую пленку, сформированную на ней. .

Изобретение относится к способу получения покрытий полупроводниковых материалов методом химического осаждения из паровой фазы. .

Изобретение относится к квантовой электронике, а точнее, касается оснастки - кассеты для нанесения просветляющих покрытий на стекла малогабаритных размеров прямоугольной формы, используемых в крышках корпусов полупроводниковых излучателей.

Изобретение относится к изготовлению оптических покрытий и может быть использовано в промышленности, строительстве и сельском хозяйстве. .
Изобретение относится к технологии нанесения покрытий из нитрида кремния на стеклянную, в том числе кварцевую поверхность. .

Изобретение относится к производству листового стекла и может быть использовано для защиты стекла от коррозии и механических повреждений во время транспортировки и хранения.
Изобретение относится к декоративной отделке стекла и может быть использовано в производстве листового стекла для интерьера жилых помещений, офисов, фасадов зданий, мебели и др.

Изобретение относится к составам для получения покрытия и может быть применено в технологии изготовления покрытий на неорганических материалах и металлах. .
Изобретение относится к производству стеклянной декоративно-облицовочной плитки

Изобретение относится к оптическому приборостроению и может быть использовано при изготовлении оптических компонентов, состоящих из двух и более склеенных оптических элементов
Изобретение относится к области мониторинга окружающей среды, а именно газовому анализу, в частности к формированию рецепторного слоя на поверхности стекловидных висмутсодержащих подложек методом ультразвукового распыления. Техническим результатом изобретения является увеличение стабильности, селективности рецепторного слоя по отношению к сероводороду в воздушной среде, отсутствие влияния влаги на результаты измерения и улучшение точности измерения величины электрической проводимости. Способ формирования рецепторного слоя на поверхности стекловидной подложки состава: оксид висмута (III) 70%, оксид молибдена (VI) 3%, оксид германия (IV) 17-24%, оксид бора (III) 3-10% осуществляют путем его последовательной обработки ортофосфорной кислотой с последующим отжигом при температуре 90°C в течение двадцати четырех часов, модификации с помощью растворов фосфорномолибденовой кислоты и гептамолибдата аммония ультразвуковым распылением и сушки на воздухе в течение суток. Затем проводят термообработку при температуре 300°C в течение двух часов. 1 з.п. ф-лы, 3 пр.
Наверх