Стеклокристаллический материал

Изобретение относится к легированным прозрачным стеклокристаллическим материалам, которые могут использоваться в качестве активной среды лазеров и усилителей в ближней ИК области. Технический результат изобретения заключается в снижении температуры синтеза прозрачного люминесцирующего в ближней ИК области стеклокристаллического материала до 1500°C. Стеклокристаллический материал содержит следующие компоненты, мас.%: Li2O - 1,3-2,3; Na2O - 1,5-2,7; Ga2O3 - 32,5-37,9; SiO2 - 7,0-21,2; GeO2 - 37,0-56,5; NiO - 0,01-0,8. 4 пр., 7 ил., 2 табл.

 

Изобретение относится к легированным прозрачным стеклокристаллическим материалам, которые могут использоваться в качестве активной среды лазеров и усилителей в ближней ИК области.

Перспективными для создания лазерных сред представляются Ga2O3-содержащие стекла, кристаллизующиеся с выделением высокогаллатных фаз со структурой шпинели и обладающие при легировании Ni2+ широкополосной ИК-люминесценцией [1-5]. Одним из перспективных применений таких материалов является получение на их основе волоконных лазеров и волоконно-оптических усилителей.

Известен допированный NiO прозрачный стеклокристаллический материал на основе силикатного стекла состава: 4,5Li2O-50,5Ga2O3-45,0SiO2 (масс.%) [4, 5]. Основным недостатком этих силикатных материалов является необходимость проведения лабораторной варки в платиновых сосудах малого объема при температурах свыше 1580°C в течение не менее 2 ч, что обуславливает быстрый износ платинового тигля, существенное снижение лучевой прочности из-за попадания в стекло атомарной платины и делает практически невозможным их промышленное производство. Поскольку увеличение объема тигля при переходе к полупромышленным варкам с использованием необходимых для достижения оптической однородности операций перемешивания и бурления, приведет, как ожидается, к существенному повышению температуры синтеза, составы стекол нужно по мере возможности выбирать так, чтобы температура их варки не превышала 1500°C.

Наиболее близким аналогом к заявляемому материалу является прозрачный стеклокристаллический материал состава (масс.%): (25-55)SiO2-(9-50)Ga2O3-(7-33)Al2O3-(0-15)Na2O-(0-20)K2O-(0-6)Li2O и (5-30)K2O+Na2O, (0-1)NiO [6]. В данных силикатных стеклах при соответствующей термообработке могут быть выделены легированные Ni2+ кристаллы шпинели. За счет преимущественного вхождения ионов металла в состав кристаллической фазы материал приобретает способность люминесцировать в широком диапазоне длин волн в ближней ИК области.

Недостатком прототипа является длительная варка (4-16 ч) исходного стекла при высокой температуре 1550-1650°C.

Техническим результатом настоящего изобретения является разработка прозрачного, люминесцирующего в ближней ИК области стеклокристаллического материала, синтез исходного стекла для которого можно осуществлять при температурах ниже 1500°C.

Технический результат достигается тем, что стеклокристаллический материал, включающий Li2O, Na2O, Ga2O3, SiO2, NiO дополнительно содержит GeO2 при следующем соотношении компонентов (масс.%):

Li2O - 1,3-2,3

Na2O - 1,5-2,7

Ga2O3 - 32,5-37,9

SiO2 - 7,0-21,2

GeO2 - 37,0-56,5

NiO - 0,01-0,8

при этом никель введен сверх 100%

Введение в состав стекла GeO2 обеспечивает снижение температуры варки более чем на 100°C и, следовательно, обуславливает высокую технологичность заявляемых составов. При избытке SiO2, Ga2O3 или недостатке Li2O+Na2O по сравнению с указанными выше пределами стекла плохо провариваются и трудно формуются. Уменьшение концентрации Ga2O3 ниже заявляемой нецелесообразно из-за снижения объемной доли выделяющихся нанокристаллов. С увеличением содержания щелочных оксидов ухудшается химическая устойчивость стекол. Уменьшение концентрации NiO ниже заявляемой нецелесообразно из-за снижения количества активных центров и, соответственно, эффективности люминесценции; а увеличение концентрации NiO сверх заявляемой нецелесообразно из-за снижения интенсивности люминесценции, обусловленной концентрационным тушением, а также ухудшения светопропускания стеклокристаллического материала.

В таблице 1 представлен ряд составов синтезированных стекол, на основе которых получены стеклокристаллические материалы.

Таблица 1
Примеры составов ряда исследованных стекол
№ состава Состав, масс.%
Li2O Na2O Ga2O3 SiO2 GeO2 NiO сверх 100%
1 2,3 1,6 37,9 21,2 37,0 0,1
2 2,3 1,6 37,9 21,2 37,0 0,01
3 2,3 1,6 37,9 21,2 37,0 0,04
4 2,3 1,6 37,9 21,2 37,0 0,05
5 2,3 1,6 37,9 21,2 37,0 0,2
6 2,3 1,6 37,9 21,2 37,0 0,4
7 2,3 1,6 37,9 21,2 37,0 0,8
8 2,2 1,5 36,3 14,5 45,5 0,1
9 1,3 2,7 32,5 7 56,5 0,1

В таблице 2 представлены температура варки стекол, режимы их термообработки и свойства полученных стеклокристаллических материалов.

Достижение заявляемого технического результата подтверждается следующими примерами.

Пример 1

Готовят шихту для синтеза стекла №1 (Таблица 1). В качестве сырьевых материалов применяют: Li2CO3, Na2CO3, Ga2O3, SiO2, GeO2 и NiO квалификации хч. Варку проводят в платиновых тиглях малого объема (40 мл) на воздухе из расчета на 20 г конечного продукта при температуре 1450°C в течение 40 мин. Для варки используют электрическую печь быстрого нагрева с карбидокремниевыми нагревателями. Для более точного совпадения требуемого и действительного составов стекол экспериментально определяют и учитывают количество наиболее летучих компонентов шихты. Расплав выливают из тигля на металлическую плиту и прессуют другой плитой до толщины 1,5-2 мм. Из полученных пластин изготавливают образцы округлой формы приблизительно диаметром 10 мм и толщиной 1 мм, поверхность которых шлифуют и полируют. Превращение стекла в люминесцирующий стеклокристаллический материал на основе галлатной кристаллической фазы со структурой инвертной шпинели осуществляют путем одноступенчатой термообработки в муфельной камерной высокотемпературной печи ПЛ-5 при температуре первого экзотермического пика в течение 15 мин.

Таблица 2
Температура варки стекол, режимы их термообработки и свойства полученных стеклокристаллических материалов.
Состав Условия варки стекол Режим термообработки Интегральная относительная интенсивность люминесценции Пропускание, %
№1 В Pt-тигле объемом 40 мл при 1450°C 690°C, 15 мин 1 90
№2 В Pt-тигле объемом 40 мл при 1450°C 690°C, 15 мин 0,11 97
№3 В Pt-тигле объемом 40 мл при 1450°C 690°С,15 мин 0,13 95
№4 В Pt-тигле объемом 40 мл при 1450°C 690°C,15 мин 0,41 93
№5 В Pt-тигле объемом 40 мл при 1450°C 690°C, 15 мин 0,27 86
№6 В Pt-тигле объемом 40 мл при 1450°C 690°C, 15 мин 0,13 78
№7 В Pt-тигле объемом 40 мл при 1450°C 690°C,15 мин 0,06 60
№8 В Pt-тигле объемом 40 мл при 1440°C 680°C, 15 мин 0,85 88
№8 В Pt-тигле объемом 300 мл при 1480°C 680°C, 15 мин 0,85 92
№9 В Pt-тигле объемом 40 мл при 1430°C 670°C, 15 мин 0,67 86

Неизотермическая кристаллизация стекол изучена методом дифференциально-сканирующей калориметрии (ДСК). Кривые ДСК получали как для тонко измельченных порошковых образцов, так и для монолита стекла массой 10-15 мг. Это позволило разделить тепловые эффекты, наблюдающиеся на поверхности и в объеме стекла. Измерения выполнены в платиновых тиглях в токе Ar при скорости нагревания 10 град/мин с помощью высокотемпературного термоанализатора Netzsch STA 449F3 в режиме равномерного подъема температуры со скоростью 10 град/мин до температуры 1200°C.

Для контроля степени аморфности исходных стекол и идентификации кристаллических фаз, выделяющихся во время термообработки, образцы либо полировали, и рентгенофазовый анализ (РФА) проводили на монолитах стекла, либо стекла измельчали в порошки дисперсностью ~50-60 мкм. Измерения проводили при комнатной температуре в интервале углов 2θ=10-60°. Идентификацию кристаллических фаз проводили путем сравнения относительных интенсивностей пиков кристаллических отражений на дифракционной кривой и соответствующих им межплоскостных расстояний данными электронного каталога дифрактограмм JCPDS (Joint Committee on Powder Diffraction Standards).

Начальные стадии фазового разделения в термообработанных образцах исследовали также с применением просвечивающего электронного микроскопа FEI Tecnai G2 F20 (Tecnai) с использованием образцов в виде порошка (с диаметром отдельных частиц ~1 мкм). Для изучения процессов наноструктурирования в объеме стекла поверхность образцов шлифовали и полировали после каждой термообработки, чтобы избежать влияния поверхностной кристаллизации.

Спектры поглощения исходных и термообработанных стекол регистрировали в диапазоне 300-3000 нм на сканирующем двухлучевом спектрофотометре с двойным монохроматором Shimadzu UV-3600. Возбуждение люминесценции осуществлялось при длине волны λв=980 нм. Спектры люминесценции регистрировали с использованием титан-сапфирового лазера с охлаждаемым жидким азотом InGaS ФЭУ.

Параметры оптической однородности стекла: двулучепреломление, бессвильность, пузырность, а также показатель преломления и коэффициент дисперсии определяли по ГОСТ 3519-91, 3521-81, 3522-81 и 28869-90 соответственно.

Свойства полученного стеклокристаллического материала приведены в таблице 2.

Наличие отчетливого экзотермического пика на кривой ДСК монолитного образца (Фиг.1. Кривые ДСК порошка (а) и монолитного образца (б) стекла №1) свидетельствует о существовании объемной кристаллизации. Кроме того, первый экзоэффект, связанный с выделением высокогаллатной фазы со структурой инвертной шпинели, почти не сдвигается в сторону низких температур при измельчении образца. Площадь под этим пиком, пропорциональная тепловому эффекту при кристаллизации, также практически не меняется. Эти наблюдения и отсутствие на поверхности термообработанных стекол четко фиксируемого закристаллизованного слоя свидетельствуют об объемном характере фазового разделения данных стекол. Данные просвечивающей электронной микроскопии также указывают на наличие в термообработанных стеклах объемного фазового разделения и неоднородностей диаметром меньше, чем 10 нм и с практически монодисперсным распределением частиц по размерам (Фиг.2а. Фотография образца термообработанного (690°C, 15 мин) стекла №1). В свою очередь, снимки с высоким разрешением подтвердили ожидаемую кристаллическую природу сформированных наночастиц (Фиг.2б. Фотография с высоким разрешением наночастицы в термообработанном (690°C, 15 мин) стекле №1). Согласно РФА стекло данного состава кристаллизуется с выделением высокогаллатной фазы со структурой инвертной шпинели (Фиг.3. Рентгенограмма порошка стекла состава №1, термообработанного при 690°C в течение 18 ч).

Сравнение спектров поглощения исходных и термообработанных стекол с разной концентрацией №0 показало, что имеет место преимущественная локализация ионов никеля в нанокристаллах, а не в матрице стекла. Среди характерных полос поглощения термообработанного стекла при 390, 650 и 1100 нм, которые наблюдаются также в ряде кристаллических материалов и которым соответствуют электронные переходы иона Ni2+ в октаэдрическом окружении, отсутствует наиболее сильная полоса поглощения в районе 435 нм, характерная для ионов Ni2+ в стекле (Фиг.4. Спектр поглощения исходного (а) и термообработанного (б) стекла состава №7. Толщина образцов 2 мм). Это означает практически полное отсутствие ионов Ni2+ в стекле и, следовательно, их переход в нанокристаллы, выпавшие в объеме стеклообразной матрицы. Поскольку величина оптической плотности изученных образцов пропорциональна содержанию NiO, на Фиг.4 представлен только спектр поглощения для стекла с максимальной концентрацией NiO.

Преимущественное вхождение ионов Ni2+ в структуру нанокристаллов, симметрия которых обеспечивает необходимые спектральные свойства данного иона, приводит к возникновению в термообработанных образцах широкополосной люминесценции в ближней ИК области (Фиг.5. Зависимость интенсивности люминесценции термообработанных стекол составов №№1-9 (см. Таблица 1) от концентрации NiO и состава стекла). При этом наибольшие значения интенсивности люминесценции демонстрировали образцы с 0,1 мол.% NiO.

Пример 2

Готовят шихту и синтезируют стекло №8 аналогично приведенному в примере 1. Отличие состоит в более низкой температуре синтеза, которая составляет 1440°С. Последнее значение более чем на 100°С меньше, чем температура варки силикатного стекла. Свойства полученного стеклокристаллического материала приведены в таблице 2. Данное стекло после термообработки при температуре первого экзотермического пика (680°С, 15 мин) также обладает широкополосной люминесценцией в ближней ИК области (Фиг.5).

Пример 3

Готовят шихту и синтезируют стекло №8 аналогично приведенному в примере 1. Отличие состоит в более высокой температуре синтеза, которая составляет 1480°С, использование платинного тигля большего объема (300 мл) и проведение операций перемешивания и бурления расплава кислородом. При варке стекла №1 при 1480°С в Pt тигле объемом 300 мл не удалось осуществить операции бурления и перемешивания вследствие высокой вязкости расплава этого стекла при температуре варки. Свойства полученного стеклокристаллического материала приведены в таблице 2. Состав №8, с пониженным содержанием SiO2, позволил перейти ко второму этапу, на котором варку осуществляли по режиму указанному на Фиг.6 (Режим варки стекла состава №8 в тигле объемом 300 мл: 0-1 - равномерный подъем температуры, 1-2 - сыпки шихты, 2-3 равномерный подъем температуры, 3-4 - развар шихты, 4-5 - бурление кислородом, 5-6 - перемешивание стекломассы мешалкой, 6-7 - снижение температуры до температуры выработки). Повышение содержания GeO2 в составе стекла привело к снижению вязкости расплава и сделало возможным операции размешивания стекломассы Pt мешалкой и бурления кислородом. Засыпку шихты осуществляют последовательно порциями по мере развара с помощью изготовленного из кварцевого стекла приспособления оригинальной конструкции. Контроль и поддержание температуры на всех стадиях варки осуществляется программируемым контролером с точностью ±2°С. Расплав стекла выливают в подогретую металлическую форму с помощью переворотного устройства. После термообработки полученный стеклокристаллический материал также люминесцировал на длине волны 1300 нм с полушириной полосы люминесценции более 300 нм (Фиг.5). Полученная отливка стекла оптического качества массой 500 г имела следующие показателями: показатель преломления ne=1,6465, коэффициент дисперсии νe=42,79, двулучепреломление δT=3,5, бессвильность 81%, пузырность: класс А (3 шт/кг), категория 1а (размер пузыря не более 0,05 мм).

Пример 4

Готовят шихту и синтезируют стекло №9 аналогично приведенному в примере 1. Отличие состоит в более низкой температуре синтеза, которая составляет 1430°С. Данное стекло после термообработки (670°С, 15 мин) также обладает широкополосной люминесценцией в ближней ИК области (Фиг.5). Однако нанокристаллы инвертной шпинели в стекле данного состава выделяются вместе с нежелательными германатными фазами (Фиг.7. Рентгенограмма порошка стекла состава №9, термообработанного при 800°С в течение 30 мин), что снижает интенсивность люминесценции.

Таким образом, заявляемый активированный NiO галлиевосиликогерманатный стеклокристаллический материал люминесцирует, также как и силикатный, на длине волны 1300 нм с полушириной полосы люминесценции более 300 нм. Однако возможность получения исходного стекла при температуре менее 1500°С делает галлиевосиликогерманатный стеклокристаллический материал более перспективным для производства.

Литература

1. B.N. Samson, L.R. Pinckney, J. Wang, G.H. Beall, and N.F. Borrelli Nickel-doped nanocrystalline glass-ceramic fiber // OPTICS LETTERS. 2002. Vol.27. №15. P.1309-1311.

2. T. Suzuki, G.S. Murugan, Y. Ohishi Optical properties of transparent Li2O-Ga2O3-SiO2 glass-ceramics embedding Ni-doped nanocrystals // Applied Physics Lett. 2005. 86. 131903.

3. В.Wu Zhou, J. Ren, D. Chen, X. Jiang, C. Zhu, J. Qiu Broadband infrared luminescence from transparent glass-ceramics containing Ni2+-doped β-Ga2O3 nanocrystals // Applied Physics B. 2007. 87.697-699.

4. Botao Wu, Jian Ruan, Jinjun Ren, Danping Chen, Congshan Zhu, Shifeng Zhou, and Jianrong Qiu Enhanced broadband near-infrared luminescence in transparent silicate glass ceramics containing Yb3+ ions and Ni2+-doped LiGa5O8 nanocrystals // Applied physics letters. 2008. 92. 041110 (3pp).

5. Shifeng Zhou, Nan Jiang, Huafang Dong, Heping Zeng, Jianhua Hao and Jianrong Qiu Size-induced crystal field parameter change and tunable infrared luminescence in Ni2+-doped high-gallium nanocrystals embedded glass // Nanotechnology. 2008. 19. 015702 (6рр).

6. Gerge H. Beall, Linda R. Pinckney, Bryce N. Samson Transparent gallate glass-ceramics. № US 006632758 B2.

Стеклокристаллический материал, включающий Li2O, Na2O, Ga2O3, SiO2, NiO, отличающийся тем, что стеклокристаллический материал дополнительно содержит GeO2 при следующем соотношении компонентов, мас.%:

Li2O 1,3-2,3
Na2O 1,5-2,7
Ga2O3 32,5-37,9
SiO2 7,0-21,2
GeO2 37,0-56,5
NiO 0,01-0,8



 

Похожие патенты:

Изобретение относится к фторидным оптическим стеклам, обладающим способностью к люминесценции в диапазоне 1000-1700 нм при возбуждении излучением с длинами волн в пределах 400-1100 нм.

Изобретение относится к легированным стеклам, в частности к Yb-содержащему кварцевому стеклу, полученному по золь-гель процессу, которое может использоваться в качестве активного материала лазеров и усилителей инфракрасного диапазона.

Изобретение относится к оптическим материалам, в частности к составам оптических стекол, которые могут использоваться в качестве активных сред лазеров (в том числе волоконных), генерирующих в оранжево-красной области спектра.

Изобретение относится к производству стекла для оптических целей и может быть использовано при изготовлении деталей, работающих в области спектра 0,4-5 мкм. .

Стекло // 1689315

Стекло // 1650620
Изобретение относится к составам силикатных стекол и может быть использовано в приборостроении, квантовой электронике , например в качестве люминесцентных трансформаторов и светофильтров.

Изобретение относится к лазерному материаловедению и касается разработки новых оптических материалов, используемых в различных системах лазерных устройств. .

Изобретение относится к составам люминесцентных стекол, применяемых для преобразования ультрафиолетового излучения в излучение видимого и близкого инфракрасного диапазона.

Изобретение относится к составам люминесцентных стекол, применяемым для преобразования ультрафиолетового (УФ) излучения в излучение видимого и близкого инфракрасного диапазона .
Стекло // 2344096
Изобретение относится к области технологии силикатов и касается составов стекла, используемого в производстве электровакуумных приборовИзвестно стекло, включающее SiO 2, Al2O3, CaO, Na2O /1/.
Стекло // 2326059
Изобретение относится к составам стекла, которое может быть использовано для изготовления сортовой посуды, изделий декоративно-художественного назначения. .
Стекло // 2326058
Изобретение относится к составу стекла и может найти применение в оптическом приборостроении, производстве изделий декоративно-художественного назначения. .
Стекло // 2320551
Изобретение относится к составам стекла, используемого в электронике и радиотехнике. .
Стекло // 2317952
Изобретение относится к составам стекол, используемых преимущественно в приборостроении. .
Изобретение относится к стекловидным покрытиям для нанесения маркировочных обозначений, рисунков на изделия из керамики, материалы на основе гидравлических, жидкостекольных, фосфатных вяжущих, стекло.
Стекло // 2311352
Изобретение относится к составам припоечных стекол, используемых в электронике. .
Изобретение относится к стекловидным покрытиям для нанесения на изделия из керамики, металла и других материалов. .
Изобретение относится к области технологии силикатов и касается составов стекла, применяемого при изготовлении порошков и гранул, предназначенных для высокотемпературной отделки безобжиговых строительных материалов и изделий.

Изобретение относится к области оптического материаловедения, в частности к способу локальной нанокристаллизации легированных стекол под действием лазерного излучения. Эти стекла могут быть использованы в качестве активных волноводов и в разработке интегральных усилителей и лазеров на их основе. Изобретение позволяет осуществить самоограничивающийся процесс формирования в галлийсодержащем оксидном стекле локальных областей шириной более 100 мкм с увеличенным показателем преломления, содержащих нанокристаллы и люминесцирующих в широком диапазоне длин волн 1150-1700 нм ближней ИК области. Способ локальной нанокристаллизации стекол включает облучение сфокусированным пучком лазера на парах меди со средней мощностью 5-15 Вт при перемещении пучка относительно поверхности образца со скоростью 10-200 мкм/с, осуществление подогрева стекла до температуры, меньшей, чем температура стеклования, на 5÷30°C. Стекло имеет состав, мас.%: Li2O 1,3-2,3, Na2O 1,5-2,7, Ga2O3 32,5-37,9, SiO2 7,0-21,2, GeO2 37,0-56,5, NiO 0,05-0,8. 3 ил., 4 пр.
Наверх