Элемент для резания, покрытый твердым материалом

Изобретение относится к элементу для резания, покрытому твердым материалом и имеющему несколько слоев, нанесенных методом химического парофазного осаждения. Внешний слой содержит Ti1-xAlxN, Ti1-xAlxC и/или Ti1-xAlxCN, где 0,65≤x≤0,9, предпочтительно 0,7≤x≤0,9. Упомянутый слой имеет сжимающие напряжения в диапазоне от 100 до 1100 МПа, предпочтительно от 400 до 800 МПа. Под внешним слоем расположен слой TiCN или Аl2О3. Элемент для резания имеет улучшенное тепловое сопротивление и прочность при циклических нагрузках. 6 з.п. ф-лы.

 

Изобретение относится к элементу, который покрыт твердым материалом и имеет, по меньшей мере, один слой твердого материала, нанесенный методом химического парофазного осаждения (CVD).

Режущие инструменты для металлорежущих станков должны соответствовать растущим требованиям касательно твердости и прочности, в частности при режущей обработке твердых или труднообрабатываемых материалов, таких как отпущенные или закаленные стали посредством обработки на высоких скоростях резания. Материал режущего инструмента должен быть, в частности, износостойким, что в прошлом приводило к тому, что тела подложек на основе твердого сплава или металлокерамического материала, снабженные покрытием поверхности, первоначально, карбидами, нитридами или карбонитридами титана или позднее, также, слоями оксида алюминия, использовались в качестве покрытий, защищающих от износа. Многослойные покрытия, защищающие от износа, состоящие из твердых материалов, также известны. Например, слои оксида алюминия, расположенные на одном или более промежуточных слоях, таких как карбонитрид титана или нитрид титана, известны как покрытия, уменьшающие износ.

В документе WO 03/085152 А2 раскрыто использование слоя Ti-Al-N, который может быть выполнен методом осаждения из паровой фазы (PVD) как монофазный слой с содержанием алюминия до 60%. При более высоких содержаниях алюминия, как в смеси кубического и гексагонального TiAlN, и при даже больших содержаниях алюминия формируется лишь более мягкая и не защищающая от износа гексагональная вюрцитовая структура.

Также известно, что слои однофазного Ti1-xAlxN твердого материала, где х=0,9, могут быть выполнены посредством CVD-метода с плазменной поддержкой. Однако недостатками являются неудовлетворительная гомогенность состава слоя и относительно высокое содержание хлора в слое.

Когда для производства слоев твердого материала Ti1-xAlxN использовались PVD-метод или плазменный метод CVD, использование данных слоев было ограничено температурами до 700°C. Недостаток заключается в том, что покрытие компонентов со сложными формами представляет трудности. PVD представляет собой направленный процесс, при котором сложные формы покрываются неравномерно. Плазменный метод CVD требует высокой гомогенности плазмы, поскольку плотность энергии плазмы оказывает непосредственное влияние на соотношение атомов Ti/Al в слое. Производство однофазных кубических слоев Ti1-xAlxN с высоким содержанием алюминия невозможно посредством CVD-процессов, используемых в промышленности.

Осаждение TiAl посредством стандартного CVD-процесса при температурах свыше 1000°C также невозможно, поскольку при таких высоких температурах метастабильный Ti1-xAlxN распадается на TiN и гексагональный AlN.

В заключение, в способе, описанном в US 6238739 B1, для производства слоев Ti1-xAlxN , где x находится в диапазоне от 0,1 до 0,6 посредством термического CVD-процесса без помощи плазмы при температурах в диапазоне от 550°C до 650°С, выявлено ограничение, заключающееся в относительно малом содержании алюминия со значением x≤0,6. В описанном здесь способе, хлориды алюминия и хлориды титана, а также NH3 и Н2 используются как газовые смеси. В случае этого покрытия также следует допускать высокое содержание хлора - до 12 атом.%.

Для того чтобы улучшить износостойкость и коррозионную стойкость, WO 2007/003648 А1 предлагает изготовление элемента, который покрыт твердым материалом и имеет однослойную или многослойную систему покрытия, которая содержит, по меньшей мере, один слой твердого материала Ti1-xAlxN, нанесенный методом CVD, для чего элемент покрывают при температурах от 700°C до 900°C CVD-методом без возбуждения плазмы в реакторе, при этом галогениды титана, галогениды алюминия и реакционноспособные соединения азота, которые смешаны при повышенной температуре, используются как исходные реагенты. В результате этого получается элемент с однофазным слоем твердого материала Ti1-xAlxN с кубической структурой NaCl и стехиометрическим коэффициентом x от >0,75 до 0,93, или многофазным слоем, содержащим Ti1-xAlxN с кубической структурой NaCl и стехиометрическим коэффициентом x от >0,75 до 0,93 в качестве основной фазы и вюрцитовой структурой и/или структурой TiNxNaCl в качестве дополнительной фазы. Содержание хлора находится в диапазоне от 0,05 до 0,9 атом.%. Также из этого документа известно, что слой или слои твердого материала Ti1-xAlxN могут содержать до 30 масс.% аморфных компонентов слоя. Полученная твердость слоев находится в диапазоне от 2500 HV до 3800 HV.

Для улучшения адгезии слоя твердого материала Ti1-xAlxN при высокой износостойкости в документе DE 102007000512, который не является более ранней публикацией, также предлагается, чтобы система слоев, которая наносится на тело подложки, содержала связующий слой из нитрида титана, карбонитрида титана или карбида титана, нанесенного на элемент, с последующим фазовым градиентным слоем и, наконец, внешний слой из однофазного или многофазного слоя твердого материала Ti1-xAlxN. Фазовый градиентный слой содержит на своей стороне, обращенной к связующему слою, фазовую смесь TiN/h-AlN, и с увеличением толщины слоя увеличивается содержание фазы fcc-TiAlN в количестве более 50%, с чем связано одновременное уменьшение в содержании фаз TiN и h-AlN,

Недостатком вышеописанных покрытий является короткое время функционирования в случае прерывистого резания, такого как фрезерование, точение и сверление с прерыванием резания, в частности, когда при резании используются охлаждающие смазочные материалы.

Таким образом, задачей данного изобретения является создание элемента для резания, покрытого твердым материалом и имеющего улучшенное тепловое сопротивление и прочность при циклических нагрузках, что и является техническим результатом изобретения.

Эта задача решается посредством элемента, покрытого твердым материалом согласно пункту 1 формулы изобретения. Элемент отличается тем, что внешний слой содержит слой Ti1-xAlxN, Ti1-xAlxC и/или Ti1-xAlxCN, где 0,65≤x≤0,9, предпочтительно 0,7≤x≤0,9, причем этот внешний слой имеет сжимающее напряжение в диапазоне от 100 до 1100 МПа, предпочтительно от 400 до 800 МПа, при этом под этим внешним слоем расположен слой TiCN или Al2O3.

Было обнаружено, что слой Ti1-xAlxN, Ti1-xAlxC или Ti1-xAlxCN, нанесенный CVD-методом, является чрезвычайно стойким к образованию и росту трещин, как было обнаружено в случае с другими покрытиями, использовавшимися в уровне техники. Твердые сплавы, металлокерамические или керамические материалы, используемые в качестве тел подложек, имеют более низкие коэффициенты расширения, чем TiCN и Al2O3, в результате чего в данных слоях твердых материалов возникает напряжение растяжения при охлаждении от температур при покрытии в 900°С для TiCN и от около 1000°С для Al2O3. Такие напряжения растяжения частично ослабляются при формировании структур трещин. Кубический нитрид титан-алюминия или карбонитрид титан-алюминия имеет в качестве метастабильной кристаллической системы сжимающие напряжения в диапазоне от 100 до 1100 МПа, предпочтительно от 400 до 800 МПа, после охлаждения от температур покрытия и не формирует структуру трещины, что в итоге приводит к данной комбинации слоев, определенной в пункте 1 формулы, которая оказалась чрезвычайно износостойкой. Комбинация известной высокой износостойкости TiCN и низкой теплопроводности и высокой коррозионной стойкости Al2O3 с также очень износо и коррозионно-стойким покрытием из нитрида титан-алюминия или карбонитрида титан-алюминия в качестве внешнего слоя, имеющего остаточные сжимающие напряжения, существенно улучшает режущую износостойкость в областях применения, которые предполагают сильные изменения нагрузки и сильные температурные изменения. Примерами являются резание, а также точение и сверление с прерываниями или сверление с изменяющимся поперечным сечением реза, в частности, с использованием охлаждающих смазочных материалов.

Варианты осуществления данного изобретения описаны в зависимых пунктах.

Таким образом, слой Ti1-xAlxN, слой Ti1-xAlxC или слой Ti1-xAlxCN может состоять из одной фазы и иметь кубическую структуру или состоять из нескольких фаз и содержать кубическую основную фазу наряду с другой фазой вюрцитовой структуры и/или TiN со структурой NaCl.

Вышеупомянутый слой нитрида или карбонитрида титан-алюминия может иметь до 30% по массе компонентов аморфного слоя. Содержание хлора в слое нитрида титан-алюминия или слое карбонитрида титан-алюминия, предпочтительно, находится в диапазоне от 0,01 до 3 атом.%.

В еще одном варианте осуществления данного изобретения многослойное покрытие содержит слои, каждый из которых имеет толщину от 1 нм до 5 нм и одинаковый или изменяющийся, предпочтительно, периодический состав, и может также использоваться в качестве внешнего слоя. Отдельные слои в покрытии являются слоями карбонитрида титан-алюминия и нитрида титан-алюминия с общей толщиной данных слоев, формирующих самое отдаленное от центра покрытие, находящейся в диапазоне от 1 мкм до 5 мкм.

Градиент также может быть создан в отдельных слоях посредством изменения газовой среды при процессе покрытия, в результате чего содержание углерода в прилегающих областях возрастает или уменьшается непрерывно изнутри кнаружи. Общая толщина всех слоев, нанесенных на тело подложки, сформированной из твердого сплава, металлокерамического материала или керамики, должна находиться в диапазоне от 5 мкм до 25 мкм.

В целях данного изобретения слой нитрида титан-алюминия или слой карбонитрида титан-алюминия может содержать до 25% гексагонального A1N.

Для производства элемента, покрытого твердым материалом, согласно данному изобретению, элемент из твердого сплава или металлокерамического материала при температурах покрытия, находящихся в диапазоне от 700°C до 900°C, вносят в газовую среду, содержащую наряду с газом-носителем хлорид титана, метан и аммиак для нанесения TiCN или хлорид алюминия и диоксид углерода для нанесения оксида алюминия. После производства связующего слоя на одной из вышеупомянутых подложек или основном слое TiCN, на который наносят слой Al2O3, в газовую среду вносят хлорид алюминия, хлорид титана, аммиак или этен для нанесения самого отдаленного от центра слоя. Предпочтительные толщины слоя находятся в диапазоне от 2 до 5 мкм. Толщина слоя всех слоев находится в диапазоне от 2 до 10 мкм, предпочтительно, в диапазоне от 3 до 7 мкм.

1. Элемент для резания, имеющий несколько слоев, нанесенных методом химического парофазного осаждения, отличающийся тем, что внешний слой содержит Ti1-xAlxN, Ti1-xAlxC и/или Ti1-xAlxCN, где 0,65≤x≤0,9, предпочтительно 0,7≤x≤0,9, причем этот слой имеет сжимающие напряжения от 100 до 1100 МПа, предпочтительно от 400 до 800 МПа, при этом под внешним слоем расположен слой TiCN или Al2O3.

2. Элемент по п.1, отличающийся тем, что слой Ti1-xAlxN, слой Ti1-xAlxC или слой Ti1-xAlxCN состоит из одной фазы и имеет кубическую структуру, или состоит из нескольких фаз и содержит наряду с кубической основной фазой другую фазу с вюрцитовой структурой, и/или содержит TiN.

3. Элемент по п.1 или 2, отличающийся тем, что во внешнем слое содержится до 30 мас.% аморфных компонентов слоя.

4. Элемент по п.1, отличающийся тем, что содержание хлора во внешнем слое находится от 0,01 до 3 ат.%.

5. Элемент по п.1, отличающийся тем, что внешний слой содержит несколько слоев, причем каждый из них имеет толщину от 1 до 5 нм и одинаковый или изменяющийся предпочтительно периодический состав, выбранный среди Ti1-xAlxN, Ti1-xAlxC или Ti1-xAlxCN, при этом этот внешний слой имеет общую толщину от 1 до 5 мкм.

6. Элемент по п.1, отличающийся тем, что общая толщина всех слоев, нанесенных на элемент, сформированный из твердого сплава, металлокерамики или керамики, находится от 5 до 25 мкм.

7. Элемент по п.1, отличающийся тем, что слой Ti1-xAlxN, слой Ti1-xAlxC или слой Ti1-xAlxCN содержит до 25% гексагонального AlN.



 

Похожие патенты:
Изобретение относится к элементу для резания, имеющему несколько слоев, нанесенных методом химического парофазного осаждения. .

Изобретение относится к области упрочнения режущего твердосплавного инструмента и может быть использовано в машиностроении, в частности в технологии металлообработки.

Изобретение относится к области полупроводниковой нанотехнологии, к области тонкопленочного материаловедения, а именно к устройствам для нанесения тонких пленок и диэлектриков.

Изобретение относится к области металлургии, а именно к электротехническим текстурованным листовым сталям. .
Изобретение относится к области ИК-оптики и касается разработки способа получения монолитных образцов поликристаллического сульфида цинка, используемых в оптике видимого и ИК-излучения в качестве материала для конструкционных оптических элементов.

Изобретение относится к области порошковой металлургии, в частности к режущим инструментам, применяемым при токарной обработке, фрезеровании, сверлении и др. .

Изобретение относится к созданию инструмента из цементированного карбида с износостойким покрытием, полученным осаждением из газовой фазы, который используется в металлообработке с образованием стружки.

Изобретение относится к режущему инструменту с алюмоксидным покрытием для механической обработки металлов со снятием стружки. .
Изобретение относится к области металлургии, к способам изготовления композиционных твердосплавных слоистых материалов. .

Изобретение относится к пластине для режущего инструмента, предназначенной для обточки закаленных и инструментальных сталей. Пластина для режущего инструмента содержит корпус из твердого сплава и покрытие. Твердый сплав, из которого выполнен корпус пластины, содержит WC, от 4,0 до 7,0 вес. % Со, предпочтительно от 4,5 до 6,0 вес. % Со, от 0,25 до 0,50 вес. % Cr, предпочтительно от 0,30 до 0,45 вес. % Cr, при этом величина S составляет от 0,68 до 0,88, предпочтительно от 0,7 до 0,8, а коэрцитивность, Нс, - от 28 до 38 кА/м, предпочтительно от 30 до 34 кА/м. Покрытие имеет толщину от 11 до 24 мкм и нанесено на корпус посредством CVD. По меньшей мере самый верхний слой покрытия представляет собой слой α-Al2O3 толщиной от 7 до 12 мкм, предпочтительно от 8 до 11 мкм, текстурированный в направлении <006> с текстурным коэффициентом ТС(006)>2, предпочтительно >4 и <8, одновременно, при этом все текстурные коэффициенты ТС(012), ТС(110), ТС(113), ТС(202), ТС(024) и ТС(116)<1, а TC(104) представляет собой второй наивысший текстурный коэффициент, причем ТС(hkl), определяется по следующей формуле: T C ( h k l ) = I ( h k l ) / I 0 ( h k l ) [ 1 / n ∑ n = 1 n I ( h k l ) / I 0 ( h k l ) ] − 1 , где I(hkl) - измеренная интенсивность отражения (hkl), I0(hkl) - стандартная интенсивность согласно JCPDS, карта № 46-1212, n - количество отражений, использованных в расчете, при этом использованные отражения (hkl) включают (012), (104), (110), (006), (113), (202), (024) и (116). Упомянутая пластина применяется в качестве пластины для обточки закаленных или инструментальных сталей с твердостью, составляющей от 40 HRC до 60 HRC, используемой во влажных и сухих условиях для глубины резания от 0,3 до 3 мм со скоростью резания от 70 до 250 м/мин и подачей от 0,1 до 0,6 мм/об. Изготовленная пластина для режущего инструмента имеет высокие значения стойкости к деформации, сопротивления износу и вязкости. 2 н. и 8 з.п. ф-лы, 2 ил., 5 табл., 5 пр.

Изобретение относится к технологии производства сосудов с покрытием для хранения биологически активных веществ и крови, а именно к способу получения покрытия на внутренней поверхности сосуда, к покрытию, полученному на внутренней поверхности сосуда, выполненного из полимерного соединения, стекла или плавленого кварца, и к сосуду с упомянутым покрытием для хранения биологически активных соединений или крови, и может быть использовано для защиты биологически активных соединений или крови от механических и/или химических воздействий поверхности материала сосуда без покрытия. Способ включает обеспечение газообразного реагента, содержащего кремнийорганический предшественник и необязательно O2, вблизи поверхности подложки и возбуждение плазмы из упомянутого газообразного реагента для обеспечения усиленного плазмой парофазного химического осаждения (PECVD) покрытия SiwOxCy толщиной до 1000 нм, в котором w составляет 1, x составляет от 0,5 до 2,4 и y составляет от 0,6 до 3. Атомные соотношения измерены с помощью рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии (РФЭС). Смазывающую характеристику покрытия, силу трения скольжения, задают с помощью соотношения O2 к кремнийорганическому предшественнику в газообразном реагенте и/или с помощью величины электрической энергии, используемой для возбуждения плазмы. Обеспечивается производство улучшенных сосудов с покрытием, обладающим смазывающими, гидрофобными или барьерными свойствами. 6 н. и 26 з.п. ф-лы, 62 ил., 21 табл., 21 пр.
Изобретение относится к способу покрытия, по меньшей мере, внутренней поверхности поршневого кольца, а также к поршневому кольцу. Способ нанесения износостойкого покрытия на поверхность поршневого кольца, которое выполнено из чугуна или стали, по меньшей мере, частично, по меньшей мере, на его внутреннюю поверхность, в котором наносят по меньшей мере один промежуточный слой а-С:Н:Х, где X - кремний, германий, фтор, бор, кислород и/или азот, и наносят слой осаждением из газовой фазы (PVD-слой), содержащий нитриды и/или карбиды хрома, титана, алюминия и/или вольфрама, осажденные по очереди или одновременно, и/или DLC-слой, состоящий из по меньшей мере одного или всех следующих слоев: адгезионного слоя из хрома и/или титана толщиной 1,0 мкм или меньше, по меньшей мере одного металлсодержащего промежуточного слоя а-С:Н:Ме, где Ме - вольфрам, титан и/или хром, или а-С:Н:Х, где X - кремний, германий, фтор, бор, кислород и/или азот, толщиной от 0,1 мкм до 5 мкм и не содержащего металлов верхнего слоя а-С:Н толщиной от 0,1 мкм до 5 мкм. Обеспечивается улучшение фрикционных свойств и/или характеристик износа по меньшей мере одного компонента, состоящего из двух частей маслосъемного поршневого кольца. 3 з.п. ф-лы.
Изобретение относится к способу получения прозрачной барьерной многослойной системы. Проводят осаждение по меньшей мере в одной вакуумной камере. На прозрачную полимерную пленку осаждают по меньшей мере два прозрачных барьерных слоя и один размещенный между обоими барьерными слоями прозрачный промежуточный слой. Для осаждения барьерных слоев испаряют алюминий в присутствии плазмы полого катода и одновременно в вакуумную камеру вводят по меньшей мере один первый реакционный газ. В качестве промежуточного слоя осаждают кремнийсодержащий слой с помощью PECVD-процесса с использованием плазмы полого катода. Обеспечивается получение прозрачной барьерной многослойной системы с высоким герметизирующим действием, а также с высокой скоростью нанесения. 6 з.п. ф-лы, 1 табл., 1 пр.
Изобретение относится к способу многослойного барьерного покрытия в виде системы прозрачных слоев. Проводят осаждение в вакуумной камере на прозрачной полимерной пленке по меньшей мере двух прозрачных барьерных слоев и одного расположенного между упомянутыми двумя барьерными слоями прозрачного промежуточного слоя. Осаждение барьерных слоев осуществляют испарением алюминия, причем одновременно в вакуумную камеру напускают по меньшей мере один первый реактивный газ. Осаждение промежуточного слоя осуществляют испарением алюминия, причем одновременно в вакуумную камеру напускают по меньшей мере один второй реактивный газ и один газообразный или парообразный органический компонент. Обеспечивается изготовление многослойного барьерного покрытия в виде системы прозрачных слоев покрытия, обладающего высоким запирающим действием по отношению к кислороду и водяному пару. 6 з.п. ф-лы, 1 пр.
Изобретение относится к технологии осаждения алмазных пленок из газовой фазы CVD методом, а именно к способу получения легированного дельта-слоя в CVD алмазе. Алмазную подложку помещают в CVD реактор. Сначала на подложку осаждают слой нелегированного CVD алмаза в потоке газовой смеси, содержащей Н2+СН4, затем в поток упомянутой газовой смеси вводят легирующую добавку для осаждения легированного дельта-слоя алмаза поверх нелегированного слоя CVD алмаза, затем в течение времени, превышающего на порядок время упомянутого легирования, формируют в реакционной камере CVD реактора газовую смесь, не содержащую углерод и упомянутую легирующую добавку, с геттером упомянутой легирующей добавки, затем формируют поток газовой смеси, содержащей углерод. Все потоки упомянутых газовых смесей через реакционную камеру CVD реактора поддерживают ламинарными и безвихревыми, не создающими застойных зон. В частном случае осуществления изобретения в качестве легирующей добавки используют бор, азот или фосфор. При осаждении слоя нелегированного CVD алмаза в упомянутую газовую смесь добавляют вещество, представляющее собой геттер бора, например серу. В реакционной камере при формировании упомянутой газовой смеси без углерода и легирующей добавки в качестве геттера используют геттер бора, при этом упомянутая газовая смесь содержит Н2 и серу или кислород, а при формировании потока газовой смеси, содержащей углерод, используют газовую смесь, содержащую Н2+СН4. В реакционной камере при формировании упомянутой газовой смеси без углерода и легирующей добавки в качестве геттера используют геттер бора, при этом упомянутая газовая смесь содержит Н2 и серу или кислород, а при формировании потока газовой смеси, содержащей углерод, используют газовую смесь, содержащую Н2+СН4 и геттер бора, представляющий собой серу или кислород. В CVD алмазе могут осадить более одного дельта-слоя. Обеспечивается создание в толще нелегированного CVD алмаза тонкого слоя (не более нескольких нанометров) алмаза с легирующей примесью. 7 з.п. ф-лы, 2 пр.

Изобретение относится к режущему инструменту с износостойким покрытием, которое может быть использовано для точения, фрезерования, сверления или других методов механической обработки с образованием стружки. Режущий инструмент с износостойким покрытием содержит подложку и износостойкое покрытие, осажденное на подложке и покрывающее по меньшей мере часть подложки, причем подложка содержит структурированную область с выемками в пределах части подложки с покрытием. Каждая из упомянутых выемок имеет глубину D, причем 2 мкм<D<100 мкм, ширину Wi на половине глубины выемки, причем Wi≤2Tc, а Tc – толщина износостойкого покрытия (2), составляющая от 2 мкм до 30 мкм. Выемка по меньшей мере частично заполнена износостойким покрытием (2), содержащим внутренний слой, выполненный из соединения Ti(C,O,N), Ti(C,N), TiC, TiN или их комбинаций, и внешний слой, выполненный из Al2O3. Обеспечивается создание улучшенного режущего инструмента для механической обработки материалов на основе железа и улучшение режущих свойств и износостойкости режущего инструмента. 14 з.п. ф-лы, 6 ил., 2 табл., 2 пр.
Наверх