Керамический материал с низкой температурой обжига

Изобретение относится к радиоэлектронной технике и касается создания керамических материалов с низкой температурой обжига, предназначенных для использования в СВЧ-диапазоне, в том числе при изготовлении керамических подложек для гибридных интегральных схем в изделиях СВЧ-техники. Технический результат изобретения - получение керамического материала с низкой температурой обжига для изделий электронной техники с высоким значением диэлектрической проницаемости до έ=70, низким значением тангенса угла диэлектрических потерь до 15·10-4, с высокой механической прочностью, высоким электросопротивлением и плотностью не ниже 0,95ρтеор. Предлагаемый керамический материал с низкой температурой обжига в исходных компонентах содержащий в качестве базового состава оксиды магния, кальция и титана, а также оксиды циркония и цинка, отличается тем, что он дополнительно содержит оксид никеля и железа при следующем соотношении компонентов, вес.%: оксид магния (MgO) 50,5÷0,5, оксид кальция (СаО) 1,0÷41,5, оксид циркония (ZrO2) 0,25÷0,05, оксид цинка (ZnO) 2,5÷0,5, оксид железа (Fe2O3) 0,1÷0,7, оксид никеля (NiO) 0,1÷1,5, оксид титана (TiO2) - остальное. 1 табл., 13 пр.

 

Изобретение относится к радиоэлектронной технике и касается создания керамических материалов с низкой температурой обжига, предназначенных для использования в СВЧ-диапазоне, в том числе при изготовлении керамических подложек для гибридных интегральных схем в изделиях СВЧ-техники.

Материал современных керамических подложек должен обладать следующими техническими характеристиками при температуре обжига не выше 1000°C:

- заданной величиной диэлектрической проницаемости на частоте 1≥5 гГц - ;

- низким значением тангенса угла диэлектрических потерь на 1≥5 гГц - tgδε;

- высокой плотностью - ρ, г/см3;

- высоким удельным объемным электрическим сопротивлением - ρν, Ом-см;

- низким температурным коэффициентом линейного расширения - ТКЛР, 1/град;

- высоким значением механической прочности на изгиб - σизг, МПа.

При создании такого керамического материала должна быть решена задача обеспечения указанных характеристик при проведении технологического процесса на низких температурах обжига.

Известен патент РФ №2410358 (приоритет 06.07.2009, опубл. 27.01.2011 г.), в котором низкотемпературный стеклокерамический материал имеет в своем составе алюмооксидную и барий-титановую керамику, а также низкотемпературное кристаллизующееся стекло следующего многокомпонентного состава, вес %:

оксид алюминия (Al2O3) 2÷8
оксид кремния (SiO2) 17÷7
оксид бора (B2O3) 3,2÷12,5
оксид кальция (CaO) 22÷11
оксид магния (MgO) 4,2÷3,5
оксид стронция (SrO) 0,4÷2,5
оксид меди (Cu2O) 0,4÷1,5
оксид циркония (ZrO) 1,8÷0,5
оксид цинка (ZnO) 9÷3,5
керамика остальное

Стеклокерамический материал содержит низкотемпературное кристаллизирующееся стекло и керамику при соотношении (1,2÷1) и (0,8÷1,0) соответственно.

Данный низкотемпературный стеклокерамический материал имеет достаточно высокие технические характеристики: диэлектрическая проницаемость на f=10 гГц - 6,7÷7,2 и 19÷20; тангенс угла диэлектрических потерь на f=10 гГц - (17÷21)×10-4; удельное объемное электрическое сопротивление ρ≥1012 Ом·см; ТКЛР=5,4÷6,5·10-6 1/град; σизг=125-150 МПа.

Оптимально возможное снижение температуры обжига за счет низкотемпературного кристаллизующегося стекла достигает порядка 900°C.

Однако при использовании основных компонентов стекловарения B2O3 и SiO2 используется относительно дорогостоящее сырье. Кроме того, B2O3 может испаряться в процессе обжига, что приводит к колебаниям в составе. Требуются специальные установки для контроля за испарением бора.

Все это удорожает и усложняет производство указанных материалов.

Керамика с низкой температурой обжига без стекла с диэлектрической проницаемостью <10 предложена в патенте США №8173565 (приоритет 09.08.2011 г., опубл. 08.05.2012 г.). Основные компоненты керамики составляют 100% вес:

оксид кремния (SiO2) 48-75
оксид бария (BaO) 20-40
оксид алюминия (Al2O3) 5-20

В качестве добавок, снижающих температуру обжига (1050-900°C) и позволяющих получать достаточно хорошие электрофизические свойства (диэлектрическую проницаемость (f-3 гГц) 6,5÷7,2; мелкую зерновую структуру αср=2÷7 мк и механическую прочность), берутся оксиды, вес %:

оксид марганца (MnO) 2-10
оксид титана (TiO2) 0,1-10
оксид магния (MgO) 0,1-5

Однако низкая диэлектрическая проницаемость материала не позволяет использовать его в миллиметровом диапазоне.

Керамика с низкой температурой обжига, не содержащая стекла и аналогичная по основным компонентам составу по патенту США №8173565 предложена в патенте США №8231961 (приоритет 18.10.2010 г., опубл. 31.07.2012 г.), где используются в качестве основных компонентов, вес %:

оксид кремния (SiO2) 47-60
оксид бария (BaO) 20-42
оксид алюминия (Al2O3) 5-30

и в качестве вспомогательных компонентов, взятых от 100% основных компонентов, вес %:

оксид железа (Fe2O3) 0,044-0,077
оксид циркония (ZrO2) 0,3-0,55

Данный керамический материал имеет следующие технические характеристики:

- температура обжига <1000°C;

- усадка после спекания - ±6%;

- прочность на изгиб - 180÷220 МПа;

- плотность - 0,95-0,98% от теоретической (рентгеновской)

Состав основных компонентов свидетельствует о низком значении диэлектрической проницаемости <8, что также затрудняет его использование в миллиметровом диапазоне.

Известен керамический материал, предназначенный для СВЧ-техники и имеющий в своей основе сложный оксид лантана, кальция, магния и титана, а также добавки Al2O3, ZnO, SrO и по крайней мере один из группы оксидов Si, Na, Zr, W, Nb, Ta, Cu, Cr (US 2012/0218054, кл. H03H 9/24, C04B 35/465, опубл. 30.08.2012 г.). Этот керамический материал получают при высоких температурах обжига Т=1500÷1700°C, а его диэлектрическая проницаемость имеет значение =40÷55.

Высокая температура обжига не позволяет использовать его в качестве керамической подложки для гибридных интегральных схем в изделиях СВЧ-техники.

Материал этой заявки является наиболее близким аналогом заявляемого изобретения по совокупности существенных признаков и достигаемому результату, и взят за прототип.

Целью изобретения является получение керамического материала с низкой температурой обжига с высоким значением диэлектрической проницаемости до =70, сниженным значением тангенса угла диэлектрических потерь до 15·10-4, с высокой механической прочностью, высоким электросопротивлением и плотностью не ниже 0,95 ρтеор. Указанные материалы благодаря высокому значению диэлектрической проницаемости успешно работают в миллиметровом диапазоне.

Для этого предлагается керамический материал, который содержит в исходных компонентах в качестве базового состава оксиды магния, кальция и титана, а также оксиды циркония и цинка, отличающийся тем, что он дополнительно содержит оксиды никеля и железа при следующем соотношении компонентов, вес %:

оксид магния (MgO) 50,5÷0,5
оксид кальция (CaO) 1,0÷41,5
оксид циркония (ZrO2) 0,25÷0,05
оксид цинка (ZnO) 2,5÷0,5
оксид железа (Fe2O3) 0,1÷0,7
оксид никеля (NiO) 0,1÷1,5
оксид титана (TiO2) остальное

Предлагаемый материал получают по следующей технологии.

Исходные компоненты, взятые в необходимых соотношениях, за исключением оксидов никеля и железа тщательно перемешиваются алундовыми мелющими телами в шаровой мельнице в дистиллированной воде в течение 20-24 часов. Высушенную смесь протирают через капроновое сито и синтезируют при температуре 1050-1100°C в течение 4-6 часов. Измельчение проводят по режиму аналогичному первому помолу в этиловом спирте, добавляя оксиды никеля и железа в заданных соотношениях. Затем добавляют в качестве связующего - поливинилбутираль и пластификатора - дибутилфталат.

Далее из шликера изготавливают образцы заданной формы методом прессования либо литья.

Затем изготовленные образцы подвергают металлизации, например, на основе серебра.

Затем изготовленные образцы обжигают в камерных электропечах при температуре 850-1000°C в течение 0,5÷2 часов. В результате процесса обжига осуществляется синтез керамического материала.

Примеры получения керамики их состав и электрофизические свойства приведены в таблице.

В примерах №1, 2, 3, 4, 5, 6 даны химические составы в пределах заявленных процентных соотношениях и соответствующие им электрофизические свойства, полученные в результате испытаний по стандартным методикам.

Пример №7. Увеличение содержания MgO и уменьшение СаО по сравнению с заявленными пределами приводит к росту диэлектрических потерь.

Пример №8. Уменьшение содержания MgO и увеличение СаО по сравнению с заявленными пределами приводит к снижению плотности.

Пример №9. Увеличение содержания ZrO2 по сравнению с заявленными пределами снижает прочностные характеристики и в дальнейшем приводит к растрескиванию изделий.

Пример №10. Увеличение содержания Fe2O3 и ZnO по сравнению с заявленным приводит к выпадению фазы по границам зерен и к снижению удельного сопротивления и росту тангенса угла диэлектрических потерь.

Пример №11. Увеличение содержания NiO по сравнению с заявленными пределами приводит к увеличению тангенса диэлектрических потерь и снижению прочности.

Пример №12. Уменьшение содержания NiO по сравнению с заявленными пределами приводит к повышению температуры обжига выше 1000°C и снижению плотности и удельного электросопротивления.

Пример №13. Уменьшение содержания ZrO2, Fe2O3, ZnO по сравнению с заявленными пределами снижает плотность материала ниже допустимых значений.

Предполагаемое изобретение было создано в процессе выполнения технического задания на опытно-конструкторскую работу «Разработка базовой технологии получения керамических ленточных материалов для производства компонентов радиоэлектронной аппаратуры». Создание керамического материала с низкой температурой обжига позволит изготавливать многофункциональные СВЧ-компоненты, обладающие малой массой и габаритами. Получены опытные образцы и готовится комплект технической и технологической документации.

Таблица
Примеры № п/п Химический состав низкотемпературной керамики, вес % Диэлектрические свойства на частоте ρ, г/см3 ρтеор, % ρν,
Ом·см
ТКЛР×106 1/град σизг, МПа
MgO CaO TiO2 ZrO2 Fe2O3 ZnO NiO tgδε f
1 50,5 1,0 45,5 0,05 0,1 1,5 0,45 7,2 8·10-4 10 3,1 97 1012 6,0 200
2 31,2 2,9 64,7 0,1 0,5 0,5 0,1 11,3 9·10-4 10 3,3 95 1013 5,5 180
3 16,7 20,65 59,2 0,25 0,3 2,0 0,9 40,6 11·10-4 6 3,5 96 1013 5,2 180
4 0,5 41,5 53,1 0,2 0,7 2,5 1,5 70,5 15·10-4 6 3,7 95 1012 5,8 190
5 0,5 1,0 97,75 0,05 0,1 0,5 0,1 70,8 14·10-4 6 3,8 95 1012 5,6 180
6 50,5 41,5 3,05 0,25 0,7 2,5 1,5 9,5 13·10-4 10 3,5 96 1012 6,0 190
7 50,6 0,9 45,5 0,06 0,14 1,55 0,4 6,8 20·10-4 10 3,0 95 1012 6,0 170
8 0,4 41,6 53,4 0,15 0,6 2,45 1,4 63 13·10-4 6 2,8 80 1012 6,5 180
9 16,7 20,6 59,3 0,3 1,5 0,6 1,0 38 12·10-4 6 3,5 96 1012 5,7 115
10 33,5 1,18 62,3 0,07 0,75 2,6 1,2 10,4 22·10-4 10 3,4 98 108 6,0 180
11 23,4 13,1 58,8 0,07 0,4 2,63 1,6 22 21·10-4 6 3,4 96 1012 5,4 120
12 31,2 3,05 63,8 0,17 0,5 1,65 0,08 10,5 14·10-4 10 2,7 78 1010 5,5 185
13 23,3 13,2 62,7 0,04 0,08 0,4 0,28 24 12·10-4 6 2,9 82 1012 6,0 180

Керамический материал с низкой температурой обжига, содержащий в качестве базового состава оксиды магния, кальция и титана, а также оксиды циркония и цинка, отличающийся тем, что он дополнительно содержит оксид никеля и железа при следующем соотношении компонентов, вес.%:

оксид магния (MgO) 50,5÷0,5
оксид кальция (СаО) 1,0÷41,5
оксид циркония (ZrO2) 0,25÷0,05
оксид цинка (ZnO) 2,5÷0,5
оксид железа (Fe2O3) 0,1÷0,7
оксид никеля (NiO) 0,1÷1,5
оксид титана (TiO2) остальное



 

Похожие патенты:

Изобретение относится к области фотокаталитических материалов для применения в составе цемента. Новый фотокаталитический продукт содержит соединения титана в кристаллических фазах: CaTi2O5 и/или CaTi5O11, а также TiO2, интегрированные с известняком.

Изобретение относится к технологии производства керамических сегнетоэлектрических композитных материалов и может быть использовано в электронной промышленности при изготовлении широкого класса управляемых электрическим полем элементов и приборов электронной техники.

Изобретение относится к высокодисперсным щелочноземельным титанатам, к способу их получения путем обмена соединений щелочноземельного металла с частицами двуокиси титана.
Изобретение относится к области радиофизики и может быть в частности использовано при изготовлении широкого класса электронных приборов и компонентов, в частности управляемых электрическим полем диэлектрических резонаторов и фильтров, управляемых конденсаторов, антенн, а также в ускорителях ядерных частиц.

Изобретение относится к пьезокерамическим материалам с высокой температурой фазового перехода и-может быть использовано в электронной и радиотехнической промьшшенности в качестве преобразователей, работающих в широком диапазоне температур.

Изобретение относится к радиоэлектронной технике, в частности к составам шихты керамических диэлектриков , и может быть использовано при изготовлении высокочастотных термокомпенсирующих конденсаторов.

Изобретение относится к области керамических материалов, используемых в радиоэлектронной технике в диапазоне сверхвысоких частот, в частности в качестве активирующего диэлектрика в феррито-керамических устройствах (фазовращателях и т.п.).

Изобретение относится к электронной технике, в частности к составам керамических диэлектриков, и может быть использовано для изготовления термокомпенсирующих высокочастотных конденсаторов с повьшенной удельной емкостью.
Изобретение относится к области радиоэлектроники и может быть использовано при изготовлении полосно-пропускающих фильтров (ППФ). Для изготовления корпуса двухрезонаторного моноблока полосно-пропускающего фильтра получают порошковую смесь LaAlO3 в количестве 30-40 мас. % и CaTiO3 - остальное. Добавляют в полученную смесь пластификатор, выбранный из группы, включающей в себя стеарин, парафин и пчелиный воск, в количестве 7,0-8,9 мас. %. Льют готовую смесь под давлением и отжигают полученную заготовку в две стадии. Предварительную стадию проводят при температуре 100-300°C в течение 2-4 часов, а окончательную стадию - при температуре 1300-1500°C в течение 4 часов. Изобретение обеспечивает повышение термической стабильности и снижении уровня диэлектрических потерь ППФ при сохранении коэффициента прямоугольности на уровне, достаточно низком для обеспечения высокой селективности ППФ, а также повторяемость радиотехнических параметров при серийном изготовлении ППФ. 3 пр.
Наверх