Плазменная обработка поверхности с использованием разряда пинчевого типа



Плазменная обработка поверхности с использованием разряда пинчевого типа
Плазменная обработка поверхности с использованием разряда пинчевого типа

 


Владельцы патента RU 2579845:

Акционерное общество "Государственный научный центр Российской Федерации Троицкий институт инновационных и термоядерных исследований" (АО "ГНЦ РФ ТРИНИТИ") (RU)
Российская Федерация, от имени которой выступает Государственная корпорация по атомной энергии "РОСАТОМ" (RU)

Изобретение относится к технологии плазменной обработки поверхности материалов, в частности, для создания высоконадежных защитных покрытий оболочек тепловыделяющих элементов (твэл) ядерного реактора. Способ плазменной обработки поверхности металлического изделия включает перемещение изделия в герметичной камере через зону обработки, в которой осуществляют модифицирование поверхности изделия потоками высокотемпературной плазмы и высокоэнергетичных фотонов из зоны разряда пинчевого типа, который осуществляют с частотой повторения импульсов в диапазоне от 1 до 5000 Гц и вводимой в разряд средней электрической мощностью, не превышающей 20 кВт, сформированного посредством разрядной системы с осесимметричными высоковольтным и заземленным электродами. Устройство для плазменной обработки поверхности металлического изделия содержит герметичную камеру, имеющую зону обработки, к которой герметично подсоединена разрядная система с осесимметричными высоковольтным и заземленным электродами, выполненными с возможностью формирования разряда пинчевого типа для обеспечения модифицирования поверхности изделия потоками высокотемпературной плазмы и высокоэнергетичных фотонов из зоны разряда пинчевого типа, и порт подачи плазмообразующего газа в зону разряда. Обеспечивается создание высокоэффективной технологии плазменной обработки поверхности материалов для очистки, нанесения и модификации покрытий, в частности оболочек твэл, надежно защищающих металлическую основу от разрушения в результате коррозии. 2 н. и 13 з.п. ф-лы, 1 ил.

 

Область техники

Изобретение относится к технологии модифицирования поверхностных слоев материалов и изделий и может быть использовано в машиностроении, станко-инструментальной промышленности, автомобильной промышленности, сельскохозяйственном машиностроении, металлургической промышленности и атомной энергетике, в частности для создания высоконадежных защитных покрытий оболочек тепловыделяющих элементов (твэл) ядерного реактора.

Уровень техники

Плазменная обработка является эффективной технологией для повышения качества изделий и нанесения покрытий на очищенную поверхность. Метод вакуумно-дуговой обработки длинномерных изделий [1] характеризуется высокой эффективностью при обработке проволоки, труб, прутков, лент, оксидировании поверхности. Однако плотность мощности воздействии при воздействии плазмы достаточно низка, что ограничивает возможности модифицирования поверхностей при плазменной обработке.

Этих недостатков лишена обработка поверхности потоками высокотемпературной плазмы разряда пинчевого типа между осесимметричными высоковольтным и заземленным электродами [2]. Импульсные сильноточные разряды пинчевого типа характеризуются образованием на начальной стадии разряда токоплазменной оболочки (ТПО), которая начинает свое движение за счет пондеромоторной силы и в итоге «схлопывается» в плотное пинчевое образование на оси разрядной системы. Эффективность формирования пинча и, как следствие, нагрев плазмы и интенсивность выхода излучений во многом определяется значением разрядного тока в пинче. Обработка оболочек твэл из стали ЭП823, предназначенных для работы в реакторах на быстрых нейтронах, потоками высокотемпературной плазмы значительно (в 2 раза) уменьшает степень их коррозии в потоке жидкого свинца при температурах 650-750°С. Поверхностное жидкофазное легирование алюминием и хромом с использованием обработки потоками импульсной высокотемпературной плазмы приводит еще к более значительному (в 3-10 раз) снижению степени окисления оболочки твэл при 650°С и времени выдержки до 1680 ч в потоке жидкого свинца с повышенным содержанием кислорода. Недостатком способа является низкая производительность метода, обусловленная наличием диэлектрической стенки, на которой формируют токоплазменную оболочку, что загрязняет плазму, высоким энерговкладом (90 кДж/импульс), обусловливающим низкий ресурс устройства и очень низкую частоту следования импульсов.

В то же время известны высокоресурсные устройства для генерации высокотемпературной плазмы [3] с высокой электрической мощностью, вводимой в разряд пинчевого типа. Их развитие инициировалось переходом литографической технологии изготовления интегральных схем к использованию излучения в области экстремального ультрафиолета (ЭУФ), что потребовало создания мощных источников ЭУФ излучения с температурой плазмы более 2000000°С. До сих пор их применения ограничивались использованием ЭУФ излучения, собираемого оптической коллекторной системой, мощность которого меньше 1% от вводимой в разряд мощности.

Сущность изобретения

Задачей изобретения является создание высокоэффективной технологии плазменной обработки поверхности материалов с целью очистки, нанесения и модификации покрытий, в частности технологии создания высоконадежных защитных покрытий оболочек твэл, надежно защищающих металлическую основу от разрушения в результате коррозии.

Техническим результатом изобретения является повышение прочности и коррозионной стойкости изделий за счет применения для поверхностной обработки потоков высокотемпературной импульсной плазмы с высокой частотой повторения, подавления потоков загрязняющих частиц, генерируемых в зоне разряда, и обеспечения наряду с высокой производительностью высокого времени жизни устройства для плазменной обработки поверхности.

Для решения указанных задач предлагается способ обработки поверхности, включающий перемещение изделия в герметичной камере через зону обработки, в которой осуществляют модифицирование поверхности изделия потоками высокотемпературной плазмы и высокоэнергетичных фотонов из зоны разряда пинчевого типа, который осуществляют с частотой повторения импульсов в диапазоне от 1 до 5000 Гц и вводимой в разряд средней электрической мощностью, не превышающей 20 кВт, сформированного посредством разрядной системы с осесимметричными высоковольтным и заземленным электродами.

Предпочтительно воздействуют потоками высокотемпературной плазмы и высокоэнергетичных фотонов из зоны разряда пинчевого типа на поверхность изделия при протекании части тока разряда через изделие, соединенное с заземленным электродом через скользящие контакты.

Предпочтительно предварительно наносят металлическое, керамическое или полимерное покрытие на изделие, которое предварительно осуществляют в зоне нанесения покрытия, расположенной в герметичной камере.

Предпочтительно предварительно очищают поверхность изделия в зоне очистки поверхности, расположенной в герметичной камере.

В вариантах изобретения разряд пинчевого типа осуществляют между высоковольтным и заземленным электродами, каждый из которых имеет осевое отверстие, причем во внеосевой области высоковольтный и заземленный электроды отделены друг от друга щелевым зазором и в заземленном электроде выполнены каналы, соединяющие щелевой зазор с герметичной камерой.

В частности, перед упомянутым модифицированием поверхности изделия осуществляют предыонизацию зоны разряда с использованием блока предыонизации.

В варианте осуществления изобретение относится к способу плазменной обработки поверхности оболочки твэл ядерного реактора.

В другом аспекте изобретение относится к устройству для плазменной обработки поверхности металлического изделия, содержащему герметичную камеру, имеющую зону обработки, к которой герметично подсоединена разрядная система с осесимметричными высоковольтным и заземленным электродами, выполненными с возможностью формирования разряда пинчевого типа для обеспечения модифицирования поверхности изделия потоками высокотемпературной плазмы и высокоэнергетичных фотонов из зоны разряда пинчевого типа, и порт подачи плазмообразующего газа в зону разряда.

Предпочтительно, что высоковольтный электрод, заземленный электрод и зона обработки расположены вдоль оси симметрии высоковольтного и заземленного электродов последовательно друг за другом.

В предпочтительном варианте осуществления изобретения изделие соединено с заземленным электродом через скользящие контакты.

В предпочтительном варианте осуществления изобретения герметичная камера содержит зону нанесения покрытия на изделие, расположенную перед зоной обработки.

В предпочтительном варианте осуществления изобретения герметичная камера содержит зону очистки поверхности изделия, расположенную перед зоной обработки.

Предпочтительно, что высоковольтный и заземленный электроды имеют осевые отверстия, во внеосевой области высоковольтный и заземленный электроды отделены друг от друга щелевым зазором, в заземленном электроде выполнены каналы, соединяющие щелевой зазор с герметичной камерой.

Предпочтительно, что устройство дополнительно содержит блок предыонизации зоны разряда.

В вариантах осуществления изобретения изделие представляет собой оболочку твэл ядерного реактора.

Между совокупностью существенных признаков заявляемого объекта и достигаемым техническим результатом существуют следующие причинно-следственные связи.

Изобретение обеспечивает создание высокоэффективной технологии повышения прочности и коррозионной стойкости изделий за счет предложенного применения для поверхностной обработки потоков высокотемпературной импульсной плазмы и высокоэнергетичных фотонов при высокой частоте повторения.

Расположение высоковольтного электрода, заземленного электрода и зоны обработки вдоль оси симметрии высоковольтного и заземленного электродов последовательно друг за другом обеспечивает максимальное воздействие плазмы на изделие.

Протекание части тока разряда через изделие, соединенное с заземленным электродом через скользящие контакты, увеличивает эффективность воздействия плазмы разряда пинчевого типа на обрабатываемую поверхность за счет значительного увеличения энергии, поглощаемой поверхностью изделия.

Предварительное нанесение покрытия на изделие позволяет создать в процессе плазменной обработки слой материала на поверхности изделия с наиболее предпочтительными свойствами, такими как высокие коррозионная и/или износостойкость, твердость и т.д.

Предварительная очистка поверхности изделия в зоне очистки улучшает адгезию наносимого на него покрытия, повышает качество модифицированной поверхности изделия.

Выполнение устройства и способа генерации потоков высокотемпературной плазмы и высокоэнергетичных фотонов в предложенном виде обеспечивает отсутствие вблизи области высокотемпературной плазмы керамического изолятора, обычно устанавливаемого между электродами. Это повышает надежность и ресурс источника высокотемпературной плазмы, минимизирует поток загрязняющих частиц из области разряда. Такой подход к созданию источника высокотемпературной импульсной плазмы позволяет реализовать непрерывный высокоресурсный режим его работы с вводимой в разряд электрической мощностью до 20 кВт.

Все это обеспечивает создание высокоэффективной технологии плазменной обработки поверхности металлических изделий.

Краткое описание чертежей

Существо изобретения поясняется чертежом, схематично иллюстрирующим устройство и способ для плазменной обработки поверхности с использованием разряда пинчевого типа.

Данный чертеж не охватывает и тем более не ограничивает весь объем вариантов реализации данного технического решения, а является иллюстрацией частных случаев его выполнения.

Варианты осуществления изобретения

Устройство для плазменной обработки поверхности содержит разрядную систему 1 для формирования разряда пинчевого типа, включающую осесимметричные высоковольтный электрод 2 и заземленный электрод 3, определяющие зону разряда 4 между ними, источник питания 5, подсоединенный к электродам 2, 3, порт 6 подачи плазмообразующего газа в зону разряда 4, герметичную камеру 7, к которой герметично подсоединена разрядная система 1. Устройство также содержит размещенные в герметичной камере 7 зону обработки 8 и изделие 9, перемещаемое через зону обработки 8, в которой осуществляют модифицирование свойств поверхности изделия 9 потоками высокотемпературной плазмы и высокоэнергетичных фотонов из зоны разряда 4.

Обрабатываемое изделие 9 предпочтительно соединено с заземленным электродом 4 через скользящие контакты 10.

Герметичная камера 7 также содержит зону 11 для нанесения покрытия на изделие 9, расположенную перед зоной обработки 8.

Герметичная камера также содержит зону 12 для очистки поверхности изделия 9, зона 12 для очистки поверхности изделия расположена перед зоной обработки 8.

Высоковольтный и заземленный электроды 2, 3 имеют осевые отверстия, во внеосевой области высоковольтный и заземленный электроды 2, 3 отделены друг от друга щелевым зазором 13, в заземленном электроде 3 выполнены каналы 14, соединяющие щелевой зазор 13 с герметичной камерой 7.

Для поддержания оптимального низкого давления газа в зоне обработки 8 на герметичной камере установлен вакуумный насос 15.

Разрядная система 1 предпочтительно содержит блок предыонизации 16 зоны разряда 4. Электроды 2, 3 снабжены системой охлаждения посредством жидкостного охладителя 17.

В вариантах изобретения изделие 9 представляет собой оболочку тепловыделяющего элемента (твэл) ядерного реактора.

Высоковольтный электрод 2, заземленный электрод 3 и зона обработки расположены вдоль оси симметрии высоковольтного и заземленного электродов последовательно друг за другом.

Плазменную обработку поверхности с использованием разряда пинчевого типа осуществляют следующим образом. В герметичной камере 7 через зону обработки 8 перемещают обрабатываемое изделие 9, предпочтительно представляющее собой оболочку твэл ядерного реактора, Фиг. 1. Изделие 9 перемещают через зону обработки 8 в направлении 18 вдоль оси симметрии 20 изделия 9 с одновременным вращением 19 вокруг оси симметрии 20. При этом с частотой повторения в диапазоне от 1 до 5000 Гц осуществляют разряд пинчевого типа. Потоки высокотемпературной плазмы и высокоэнергетичных фотонов из зоны разряда 4 распространяются в зону обработки 8, в которой осуществляют модифицирование свойств поверхности изделия 9 потоками высокотемпературной плазмы и высокоэнергетичных фотонов из зоны разряда 4 пинчевого типа, импульсно-периодически формируемого в разрядной системе 1 с осесимметричными высоковольтным и заземленным электродами 2, 3.

Для увеличения эффективности плазменной обработки на поверхность изделия воздействуют плазмой разряда пинчевого типа при протекании части тока разряда через изделие 9, соединенное с заземленным электродом 3 через скользящие контакты 10. При этом металлическое изделие поглощает более 18% от энергии, вложенной в разряд пинчевого типа, что существенно выше, чем при отсутствии соединения изделия 9 с электродом 3.

Для создания на поверхности изделия слоя материала с наиболее предпочтительными свойствами, такими как высокие коррозионная и/или износостойкость, твердость и т.д., предварительно в зоне нанесения покрытия 11, расположенной в герметичной камере 7 перед зоной обработки 8, осуществляют нанесение покрытия на изделие 9. Покрытие предпочтительно осуществляют либо напылением - лазерным, магнетронным, плазменным, либо химическим осаждением из газовой фазы, либо плакированием и др. При этом покрытие может быть металлическим, либо керамическим, либо полимерным. В частном случае выполнения покрытие может быть нанесено методом импульсного лазерного осаждения, в том числе в среде реакционного газа, как описано в [4].

Для повышения качества модифицированной поверхности обрабатываемого изделия 9 либо для улучшения адгезии наносимого на него покрытия предварительно производят очистку поверхности изделия 9 в зоне очистки поверхности 12, расположенной в герметичной камере 7. Очистку производят предпочтительно либо вакуумно-дуговой обработкой, либо импульсной лазерной абляцией, либо плазмохимическим травлением.

В предпочтительных вариантах изобретения разряд пинчевого типа осуществляют между высоковольтным и заземленным электродами 2, 3, каждый из которых имеет осевое отверстие, причем во внеосевой области высоковольтный и заземленный электроды отделены друг от друга щелевым зазором 13 и в заземленном электроде выполнены каналы 14, соединяющие щелевой зазор с герметичной камерой 7.

Предпочтительно осуществляют предыонизацию зоны разряда 4 с использованием блока предыонизации 6.

В этих предпочтительных вариантах реализации изобретения с частотой повторения в диапазоне от 1 до 5000 Гц производят включение источника питания 5, подсоединенного к электродам 2, 3 и к блоку предыонизации 16. Посредством источника питания 5 подают импульс высокого напряжения на блок предыонизации 16, между электродами которого зажигается вспомогательный скользящий разряд по внутренней поверхности керамической трубки. Коротковолновое излучение и пучок электронов из блока предыонизации 16 распространяются через осевое отверстие высоковольтного электрода 2 в приосевую часть зоны разряда 4, осуществляя в ней предыонизацию газа.

С помощью импульсного источника питания 5 производят зажигание импульсного предварительного разряда между электродами 2, 3 в приосевой части зоны разряда 4. В процессе относительно слаботочного импульсного предразряда длительностью в единицы микросекунд за счет скин-эффекта формируется расширяющаяся осесимметричная токоплазменная оболочка, которая выходит во внеосевую часть зоны разряда 4. Продвижение токоплазменной оболочки завершается у щелевого зазора 13, препятствующего ее дальнейшему распространению и ограничивающего разрядную область. Величину межэлектродного расстояния d, давление p газа, определяемое скоростью подачи газа и его откачки насосом 15, и, соответственно, значение (p·d) в щелевом зазоре устанавливают такой величины, чтобы заряженные частицы, движущиеся в электрическом поле щелевого зазора, покидали его без осуществления актов ионизации. Таким образом обеспечивают низкое, соответствующее левой ветви кривой Пашена, значение (p·d) произведения давления газа p в щелевом зазоре и величины d щелевого зазора между высоковольтным и заземленным электродами 2, 3. При этом вдали от зоны разряда изоляцию электродов 2, 3 осуществляют посредством диэлектрической прокладки 6, которая не подвержена воздействию потоков излучения и плазмы из зоны разряда.

Затем с помощью импульсного источника питания 5 производят зажигание сильноточного разряда пинчевого типа и осуществляют сжатие токоплазменной оболочки магнитным полем протекающего по ней тока разряда пинчевого типа субмикросекундной длительности и ее удержание на оси зоны разряда 4 в течение короткого времени. Через осевое отверстие заземленного электрода 3 потоки высокотемпературной плазмы и высокоэнергетичных фотонов из зоны разряда 4 распространяются в зону обработки 8, в которой осуществляют модифицирование свойств поверхности изделия 9 потоками высокотемпературной плазмы и высокоэнергетичных фотонов из зоны разряда 4 пинчевого типа, импульсно-периодически формируемого в разрядной системе с осесимметричными высоковольтным и заземленным электродами 2, 3.

Для обеспечения высокого ресурса устройства средняя электрическая мощность, вводимая в разряд, не превышает 20 кВт.

Исследования показали, что проведенная предложенным способом плазменная обработка Al-покрытия на стальных и циркониевых изделиях, а именно на частях оболочек твэл, значительно повышает их коррозионную стойкость.

Полученные результаты демонстрируют перспективность создания высокоэффективной технологии плазменной обработки поверхности с применением разряда пинчевого типа в соответствии с настоящим изобретением.

Промышленная применимость

Предлагаемое изобретение предназначено для экологически чистой высокопроизводительной обработки поверхности, в частности, при изготовлении высоконадежных покрытий для защиты от разрушения оболочек твэл ядерного реактора.

Источники информации

1. Патент RU 2305716, опубликован 10.09.2007.

2. Якушин В.Л., Калин Б.А., Джумаев П.С. и др. Влияние обработки потоками высокотемпературной импульсной плазмы на коррозионную стойкость сталей в различных агрессивных средах// Инженерная физика, 2007, №4, с. 1-9.

3. Патент №200212301. Опубл. 20.05.2005.

4. Борисов В.М., Трофимов В.Н., Христофоров О.Б., Черковец В.Е. Устройство и способ для нанесения покрытий оболочек твэл. Заявка на получения патента РФ на изобретение.

1. Способ плазменной обработки поверхности металлического изделия, включающий перемещение изделия в герметичной камере через зону обработки, в которой осуществляют модифицирование поверхности изделия потоками высокотемпературной плазмы и высокоэнергетичных фотонов из зоны разряда пинчевого типа, который осуществляют с частотой повторения импульсов в диапазоне от 1 до 5000 Гц и вводимой в разряд средней электрической мощностью, не превышающей 20 кВт, сформированного посредством разрядной системы с осесимметричными высоковольтным и заземленным электродами.

2. Способ по п. 1, в котором осуществляют воздействие потоками высокотемпературной плазмы и высокоэнергетичных фотонов из зоны разряда пинчевого типа на поверхность изделия при протекании части тока разряда через изделие, соединенное с заземленным электродом через скользящие контакты.

3. Способ по п. 1, в котором предварительно наносят металлическое, керамическое или полимерное покрытие на изделие в зоне нанесения покрытия, расположенной в герметичной камере.

4. Способ по п. 1, в котором предварительно осуществляют очистку поверхности изделия в зоне очистки поверхности, расположенной в герметичной камере.

5. Способ по п. 1, в котором разряд пинчевого типа осуществляют между высоковольтным и заземленным электродами, каждый из которых имеет осевое отверстие, причем во внеосевой области высоковольтный и заземленный электроды отделены друг от друга щелевым зазором и в заземленном электроде выполнены каналы, соединяющие щелевой зазор с герметичной камерой.

6. Способ по п. 1, в котором перед упомянутым модифицированием поверхности изделия осуществляют предыонизацию зоны разряда с использованием блока предыонизации.

7. Способ по любому из пп. 1-6, в котором изделие представляет собой оболочку тепловыделяющего элемента (твэл) ядерного реактора.

8. Устройство для плазменной обработки поверхности металлического изделия, содержащее герметичную камеру, имеющую зону обработки, к которой герметично подсоединена разрядная система с осесимметричными высоковольтным и заземленным электродами, выполненными с возможностью формирования разряда пинчевого типа для обеспечения модифицирования поверхности изделия потоками высокотемпературной плазмы и высокоэнергетичных фотонов из зоны разряда пинчевого типа, и порт подачи плазмообразующего газа в зону разряда.

9. Устройство по п. 8, в котором высоковольтный электрод, заземленный электрод и зона обработки расположены вдоль оси симметрии высоковольтного и заземленного электродов последовательно друг за другом.

10. Устройство по п. 8, в котором изделие соединено с заземленным электродом через скользящие контакты.

11. Устройство по п. 8, в котором герметичная камера содержит зону для нанесения покрытия на изделие, расположенную перед зоной обработки.

12. Устройство по п. 8, в котором герметичная камера содержит зону очистки поверхности изделия, расположенную перед зоной обработки.

13. Устройство по п. 8, в котором высоковольтный и заземленный электроды имеют осевые отверстия, во внеосевой области высоковольтный и заземленный электроды отделены друг от друга щелевым зазором, в заземленном электроде выполнены каналы, соединяющие щелевой зазор с герметичной камерой.

14. Устройство по п. 8, которое дополнительно содержит блок предыонизации зоны разряда.

15. Устройство по п. 8, в котором изделие представляет собой оболочку тепловыделяющего элемента (твэл) ядерного реактора.



 

Похожие патенты:

Изобретение относится к способу восстановления размеров корпуса моторно-осевого подшипника электровоза при помощи электродуговой металлизации. Способ восстановления размеров корпуса моторно-осевого подшипника электровоза электродуговой металлизацией.

Изобретение относится к области технологии химико-термической обработки металлических материалов и предназначено для термической обработки деталей пар трения. Способ химико-термической обработки деталей пар трения из стали мартенситного класса включает объемную закалку заготовок из стали и отпуск, механическую обработку и азотирование деталей на заданную глубину, проводимое в две ступени: первоначально при температуре 500-540°C в течение 10-20 часов, а затем при температуре 540-570°C в течение 20-40 часов.

Изобретение относится к области нанесения антифрикционных покрытий преимущественно на упорные поверхности пятникового узла грузовых вагонов и может быть также использовано в узлах трения различных машин.

Изобретение относится к технологии изготовления трехмерной металлической детали(11), представляющей собой деталь газовой турбины в виде лопатки, лопасти или теплового экрана, которая может быть использована в компрессоре, камере сгорания или турбинной секции газовой турбины.

Изобретение относится к области машиностроения и может быть использовано при производстве поршневых машин. Способ включает первичную токарную обработку, закаливание внутренней рабочей поверхности гильзы токами высокой частоты и ее финишную обработку на хонинговальном станке.

Изобретение относится к машиностроению и металлургии, а именно к устройству для формирования на поверхности полых стальных деталей наноструктурированных покрытий с эффектом памяти формы.

Изобретение относится к покрытиям для антикоррозионной защиты металлических конструкций и может быть использовано для всех металлических конструкций, подвергающихся воздействию агрессивных сред, в частности для антикоррозионного покрытия морских судов и плавающих платформ в условиях высокоминерализованной морской воды и ультрафиолетового облучения солнечного спектра.

Изобретение относится к области технологии машиностроения, а именно к способу упрочнения поверхностного слоя деталей, и может быть использовано для изготовления деталей машин из металлических черных и цветных сплавов методами резания.

Изобретение относится к смазочным композициям, в частности к составам для обработки пар трения, и может быть использовано в машиностроении для обработки пар трения, а также при эксплуатации механизмов и машин для продления межремонтного ресурса или во время ремонтно-восстановительных работ.

Изобретение относится к области восстановления двигателей внутреннего сгорания путем нанесения износостойких металлоплакирующих покрытий на поверхности деталей при техническом обслуживании, ремонте и эксплуатации двигателей и может быть использовано на автотранспортных, авторемонтных и автосервисных предприятиях для повышения технических и экологических характеристик двигателей.

Изобретение относится к способу получения покрытия на поверхности металлического изделия и может быть использовано для обработки поверхностей лопаток компрессора газотурбинных двигателей и установок.

Изобретение относится к способу нанесения покрытия на подложку из жаропрочного никелевого сплава и изделию из жаропрочного никелевого сплава. Изделие включает подложку из никелевого сплава и модифицированную подповерхностную область и объемную область.

Изобретение относится к машиностроению и металлургии, а именно к устройству для формирования на поверхности полых стальных деталей наноструктурированных покрытий с эффектом памяти формы.

Изобретение относится к области получения защитно-декоративных покрытий в вакууме. Способ по первому варианту включает физическое PVD осаждение в вакууме адгезионного слоя на изделие, нанесение на адгезионный слой внутреннего слоя и затем выполнение наружного слоя.

Изобретение относится к способу изготовления дифракционных решеток для видимого диапазона, выполненных на основе полимерных материалов. Способ включает в себя формирование заданной дифракционной периодической микроструктуры на полимерной подложке за счёт имплантации ионов металла с энергией 4-1200 кэВ, дозой облучения, которая обеспечивает концентрацию вводимых атомов металла 2.5·1020 - 6.5·1022 атомов/см3 в облучаемой подложке.

Изобретение относится к области машиностроения и может быть использовано для ионно-плазменного упрочнения инструмента с размерами, превышающими габариты рабочей камеры установки.
Изобретение относится к способам защиты лопаток турбомашин из легированных сталей от эрозии и солевой коррозии. Проводят подготовку поверхности пера лопатки под нанесение покрытия электролитно-плазменным полированием в электролите в виде 4 - 8% водного раствора сульфата аммония при напряжении 260-320 В и температуре 60-80°C.
Изобретение относится к металлургии, в частности к способам химико-термической обработки металлов и сплавов, и может быть использовано в машиностроении для поверхностного упрочнения деталей машин, в том числе деталей, работающих в парах трения, а также режущего инструмента и штамповой оснастки.
Изобретение относится к машиностроению и может быть использовано для защитно-упрочняющей обработки деталей с резьбовыми поверхностями, применяемых, например, в ролико-винтовых и шарико-винтовых передачах.

Изобретение относится к плазменной химико-термической обработке, а именно к способу ионно-плазменного прецизионного азотирования металлических поверхностей, и может быть использовано в машиностроении, двигателестроении, металлургии и других отраслях промышленности.

Изобретение относится к области ионнолучевой вакуумной обработки материалов, в частности к способу ионной имплантации поверхностей деталей из конструкционной стали, и может быть использовано в машиностроении для повышения износостойкости деталей машин и механизмов. Способ включает обработку поверхности деталей потоком ионов меди, свинца и олова с использованием катода имплантера, изготовленного из монотектического сплава меди со свинцом, в который контактным легированием вводят 7-12% олова. Имплантацию осуществляют с дозой (5,5-8,5)·1017 ион/см2. Затем осуществляют имплантацию ионов азота с дозой (0,10…0,25)·D, где D - доза имплантирования ионами монотектического сплава меди со свинцом, равная 1·1017 ион/см2. 3 ил.
Наверх